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题名甘肃某小镇生活污水处理厂工艺论证分析
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作者
张晶
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机构
上海市政工程设计研究总院集团第十市政设计院有限公司
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出处
《门窗》
2019年第14期217-218,共2页
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文摘
随着我国"生态文明"、"美丽乡村"建设的不断推进,村镇污水处理进入了快速发展阶段。本文以位处黄河支流的甘肃某小镇污水处理厂为例,介绍村镇生活污水处理面临的问题,确定进出水水质、处理工艺流程,对A20工艺和CASS工艺进行对比分析,确定污泥处置方案及除臭方案。
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关键词
村镇污水
A20工艺
CASS工艺
污泥处置
除臭
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分类号
X70
[环境科学与工程—环境工程]
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题名A20工艺问题分析及改进
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作者
张利强
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机构
神东煤炭集团有限责任公司
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出处
《低碳世界》
2017年第31期4-6,共3页
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文摘
A20工艺又称AA0工艺,AA0法,它是一种常用的二级污水处理工艺,具有良好的脱氮除磷效果。该法是20世纪70年代由美国的一些专家在厌氧-好氧(An-0)法脱氮工艺基础上开发的。但是近年来,在多种因素的作用下,A20工艺面临的问题越来越明显,比如反硝化菌、聚磷菌和硝化菌的泥龄矛盾,回流污泥中硝酸盐对厌氧释磷的影响以及聚磷菌和反硝化菌对碳源的竞争问题等。针对这些问题,A20工艺中引进了改变进水方式、一碳两用、补充碳源、化学除磷、增加预缺氧段等途径和方法。本文是对A20工艺问题和对这些问题提出的具体引进措施进行一一探讨。
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关键词
A20工艺
问题分析
改进措施
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分类号
X703
[环境科学与工程—环境工程]
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题名A^2O污水处理工艺研究进展
被引量：29
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作者
叶长兵
周志明
吕伟
刘琴
张晶晶
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机构
玉溪师范学院资源环境学院
中国科学院南京地理与湖泊研究所
吉林建筑大学市政与环境工程学院
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出处
《中国给水排水》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第15期135-138,共4页
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基金
云南省科技厅项目(2010CD089)
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文摘
近年来,A2O及其改进型工艺因具有工艺流程简单、运行灵活、水力停留时间(HRT)短、活性污泥不易膨胀、基建和运行费用低等优点,已成为国内外竞相研究和应用的热门污水生物处理工艺。对A2O及其主要改进型工艺的研究现状和发展进行了综述,并在此基础上分析了此类工艺在脱氮除磷方面存在的问题,针对这些问题,结合课题组的理论研究成果,阐明了A2O工艺未来的发展方向,并从理论上提出具有独特结构和工艺流程的新型A2O工艺。研究成果对A2O工艺的进一步丰富和发展具有重要的理论指导作用。
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关键词
A^20工艺
脱氮除磷
工艺改进
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Keywords
A20 process
nitrogen and phosphorus removal
process improvement
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分类号
X703
[环境科学与工程—环境工程]
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题名阿科蔓生态沟渠强化处理D-A^2O工艺出水研究
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作者
叶长兵
周志明
刘琴
李明
张晶晶
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机构
玉溪师范学院资源环境学院
中国科学院南京地理与湖泊研究所
吉林建筑大学市政与环境工程学院
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出处
《中国给水排水》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第15期143-146,共4页
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基金
云南省科技厅项目(2010CD089)
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文摘
设计了1#(沉水型)、2#(挺水型)、3#(50%沉水型+50%挺水型)阿科蔓生态沟渠,分别强化处理分区进水式D-A2O装置出水。结果表明,3套阿科蔓生态沟渠连续运行30 d后启动成功;生态沟渠的阿科蔓最优配置为50%沉水型阿科蔓+50%挺水型阿科蔓,且其最佳HRT为9h。控制3#生态沟渠于最佳HRT、水温为(24±1)℃条件下运行,其对COD、TN、NH3-N、TP的平均去除率分别可达55.30%、57.78%、58.10%、54.08%。基于试验结果,阐明了3#阿科蔓生态沟渠所具有的双层分阶段多生物相特点和阿科蔓生态基的微孔结构是其污染净化能力较强的主要原因。
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关键词
阿科蔓生态沟渠
D-A^20工艺
双层分阶段多生物相
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Keywords
AquaMats eco-ditch
step-feed D-A20
double layer staged multi-phase
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分类号
X703
[环境科学与工程—环境工程]
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题名Altera在20nm工艺技术上的三大创新
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作者
丛秋波
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出处
《电子设计技术 EDN CHINA》
2012年第11期68-68,共1页
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文摘
日前，Altera公司公开了在其下一代20nm产品中规划的几项关键创新技术，并延续在硅片融合上的承诺。Altera公司资深副总裁兼首席技术官MishaBurich在接受本刊记者采访时说，Altera在20nm的体系结构、软件和工艺的创新，大幅度提高了下一代FPGA的性能、带宽、集成度和功效，并能支持更强大的混合系统架构的开发。
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关键词
FPGA
20nm工艺制程
Attera
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分类号
TN791
[电子电信—电路与系统]
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题名光刻技术实现20纳米工艺芯片新突破
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出处
《自动化博览》
2003年第1期77-77,共1页
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关键词
光刻技术
20纳米工艺芯片
美国威斯康星大学
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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