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高速喷射电沉积块体纳米晶Co-Ni合金 被引量：20
1
作者 乔桂英 荆天辅 +3 位作者 高明 王艳 高聿为 韩东升 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期61-65,共5页
采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co Ni合金 ,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co Ni合金沉积层组织结构的影响 ,并与槽镀沉积层进行了对比。结果表明 :采用该方法后允许使用的极限电流... 采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co Ni合金 ,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co Ni合金沉积层组织结构的影响 ,并与槽镀沉积层进行了对比。结果表明 :采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大 ,沉积速率高达 4 7 33μm/min,是一般槽镀的 90倍左右。随着电流密度的增加 ,沉积速率呈近似线性增加 ,但电流效率增大到一定值后基本不变。电流密度对沉积层成分影响不大 ,但明显减小沉积层的晶粒尺寸。与一般槽镀相比 ,晶粒尺寸由 2 3 0 7nm减小到 9 18nm。 展开更多
关键词 高速喷射电沉积 块体纳米晶Co-Ni合金 沉积速率 微观结构
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