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源漏轻掺杂结构多晶硅薄膜晶体管模拟研究
被引量:
3
1
作者
纪世阳
李牧菊
杨柏梁
《液晶与显示》
CAS
CSCD
2001年第2期129-134,共6页
采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的...
采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的变化关系。
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关键词
多晶硅薄膜晶体管
同型结
热电子
漏电流
源漏轻掺杂结构
高清晰度
彩色
有源
平板
显示
模拟研究
下载PDF
职称材料
题名
源漏轻掺杂结构多晶硅薄膜晶体管模拟研究
被引量:
3
1
作者
纪世阳
李牧菊
杨柏梁
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
北方液晶工程研究开发中心
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
2001年第2期129-134,共6页
基金
中国科学院"九五"重大项目 ( KY951 -A1 -50 2 )
吉林省"九五"科技攻关项目 ( 970 1 0 3 -0 1 )
国家自然科学基金资助项目
文摘
采用同型结模型模拟计算了源漏轻掺杂结构的关态漏极电流 ,同时考虑热电子效应修正漏极电流模拟结果 ,使漏极电流降低到 1 0 - 11A量级 ,晶体管的开关电流比值达到 1 0 6量级。模拟研究掺杂区浓度和宽度与多晶硅薄膜晶体管开关电流比的变化关系。
关键词
多晶硅薄膜晶体管
同型结
热电子
漏电流
源漏轻掺杂结构
高清晰度
彩色
有源
平板
显示
模拟研究
Keywords
lightly doped drain
polysilicon thin film transistor
homojunction
hot carrier
leakage current
分类号
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
TN873.91
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
源漏轻掺杂结构多晶硅薄膜晶体管模拟研究
纪世阳
李牧菊
杨柏梁
《液晶与显示》
CAS
CSCD
2001
3
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