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微弯曲面成型技术—多线成面技术
被引量:
4
1
作者
蒋振新
丁桂甫
+2 位作者
杨春生
倪智萍
张永华
《电子工艺技术》
2003年第5期210-213,共4页
熔融图形化的光刻胶是三维曲面微结构加工的常用方法,但是,一次成型的熔胶工艺制作的弯曲面曲率半径较小,为此我们提出了一种借助二次熔胶工艺实现微弯曲面成型的新工艺—多线成面技术。此方法工艺简单,一般具备光刻条件的实验室就能够...
熔融图形化的光刻胶是三维曲面微结构加工的常用方法,但是,一次成型的熔胶工艺制作的弯曲面曲率半径较小,为此我们提出了一种借助二次熔胶工艺实现微弯曲面成型的新工艺—多线成面技术。此方法工艺简单,一般具备光刻条件的实验室就能够实现,与传统工艺兼容性好,用它制作的弯曲面可以与灰阶掩膜光刻相比拟,介绍了该工艺的原理和特点。
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关键词
高深
宽比
光刻胶
结构
熔融成型
二次涂
胶
定型
微弯曲面
任意形状表面
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职称材料
题名
微弯曲面成型技术—多线成面技术
被引量:
4
1
作者
蒋振新
丁桂甫
杨春生
倪智萍
张永华
机构
上海交通大学微米纳米研究院薄膜与微细加工技术教育部开放实验室
出处
《电子工艺技术》
2003年第5期210-213,共4页
基金
国防重点实验室基金项目(5148502030)
电科院预研课题(024130805)。
文摘
熔融图形化的光刻胶是三维曲面微结构加工的常用方法,但是,一次成型的熔胶工艺制作的弯曲面曲率半径较小,为此我们提出了一种借助二次熔胶工艺实现微弯曲面成型的新工艺—多线成面技术。此方法工艺简单,一般具备光刻条件的实验室就能够实现,与传统工艺兼容性好,用它制作的弯曲面可以与灰阶掩膜光刻相比拟,介绍了该工艺的原理和特点。
关键词
高深
宽比
光刻胶
结构
熔融成型
二次涂
胶
定型
微弯曲面
任意形状表面
Keywords
High aspect ratio photoresist structures
Melting photoresist
Second coating phothoresist
Micro-buckling surfaces
Arbitrary surfaces
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微弯曲面成型技术—多线成面技术
蒋振新
丁桂甫
杨春生
倪智萍
张永华
《电子工艺技术》
2003
4
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