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邻近效应校正函数及参数确定
被引量:
2
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作者
覃志国
刘志杰
《微细加工技术》
2001年第4期21-25,5,共6页
对高斯圆束矢量扫描作图邻近效应校正的函数进行了深入探讨 。
关键词
高斯
圆
束
矢量扫描
邻近效应
半导体集成电路
下载PDF
职称材料
高斯圆束矢量扫描作图图形剂量计算方法
被引量:
1
2
作者
覃志国
刘志杰
《微细加工技术》
2001年第4期16-20,共5页
使用改进的高斯圆束的能量分布密度函数 ,结合矢量扫描作图方式 ,推导出图形各关键位置的剂量计算公式 。
关键词
高斯
圆
束
矢量扫描
能量分布密度函数
集成电路
半导体工艺
下载PDF
职称材料
题名
邻近效应校正函数及参数确定
被引量:
2
1
作者
覃志国
刘志杰
机构
信息产业部电子第四十八研究所
出处
《微细加工技术》
2001年第4期21-25,5,共6页
文摘
对高斯圆束矢量扫描作图邻近效应校正的函数进行了深入探讨 。
关键词
高斯
圆
束
矢量扫描
邻近效应
半导体集成电路
Keywords
Gauss beam
vector scan
proximity effect,backscattering
forward scattering
critical dosage
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
高斯圆束矢量扫描作图图形剂量计算方法
被引量:
1
2
作者
覃志国
刘志杰
机构
信息产业部电子第四十八研究所
出处
《微细加工技术》
2001年第4期16-20,共5页
文摘
使用改进的高斯圆束的能量分布密度函数 ,结合矢量扫描作图方式 ,推导出图形各关键位置的剂量计算公式 。
关键词
高斯
圆
束
矢量扫描
能量分布密度函数
集成电路
半导体工艺
Keywords
Gauss beam
vector scan
proximity effect
backscattering
forward scattering
density function of energy distribution
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
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1
邻近效应校正函数及参数确定
覃志国
刘志杰
《微细加工技术》
2001
2
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职称材料
2
高斯圆束矢量扫描作图图形剂量计算方法
覃志国
刘志杰
《微细加工技术》
2001
1
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