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高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究 被引量：1
1
作者 冯宗财 王跃川 +2 位作者 陈毅敏 陈波 杜春蕾 《影像技术》 CAS 2001年第3期12-14,共3页
将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光致抗蚀剂,因其独特的三维结构而具有的低粘度,高活性使抗蚀剂膜收缩率小,而具有良好的成像显影性。通过控制合适的树脂酸值及成像显影条件,可得到良好断面的图像,并且抗蚀剂线条图分辨率可达～1μm。... 将高支化碱溶性丙烯酸化聚酯用于光致抗蚀剂,因其独特的三维结构而具有的低粘度,高活性使抗蚀剂膜收缩率小,而具有良好的成像显影性。通过控制合适的树脂酸值及成像显影条件,可得到良好断面的图像,并且抗蚀剂线条图分辨率可达～1μm。当光源分别为平行光和点光源时图像清晰程度不一样:平行光比点光源好。 展开更多
关键词 感光聚合物 抗蚀剂 光成像 光刻胶 高支化碱溶性丙烯酸化聚酯 集成电路 刻蚀
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