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球心处有附加电极的半圆形容器等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化 被引量：8
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作者 刘成森 李晓红 +1 位作者 王德真 刘天伟 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期415-419,共5页
本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程。考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束流密度分布和注入剂量分布随时... 本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程。考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束流密度分布和注入剂量分布随时间的变化规律。研究结果显示,容器内表面附近鞘层扩展到附加电极后,其中的离子逐渐都注入到容器内表面、电场分布逐渐趋于稳定。同时,在容器内表面上,离子注入剂量不再增加。 展开更多
关键词 半圆形容器 等离子体源离子注入 鞘层演化
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