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电子束端面熔炼法制备高纯钨的研究
被引量：
7
1
作者
马运柱
刘业
+1 位作者
刘文胜
龙路平
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第1期30-35,共6页
采用250 kW的电子束熔炼炉对纯度为99.955%的钨棒进行提纯研究,利用扫描电镜、电感耦合等离子体光谱法(ICP-MS)和微米压痕仪分别对原料钨棒和熔炼后钨锭的形貌、纯度和显微硬度进行观察和测试.研究表明:在电子束轰击原料钨棒的过程中,...
采用250 kW的电子束熔炼炉对纯度为99.955%的钨棒进行提纯研究,利用扫描电镜、电感耦合等离子体光谱法(ICP-MS)和微米压痕仪分别对原料钨棒和熔炼后钨锭的形貌、纯度和显微硬度进行观察和测试.研究表明:在电子束轰击原料钨棒的过程中,钨棒端面的边缘最先熔化;经电子束熔炼后,钨棒的整体纯度显著提高,达到了99.975%,间隙杂质O和C的脱除率分别达到55.5%和45.8%;非间隙杂质的蒸汽压与脱除率密切相关,高蒸汽压的杂质元素Cd、As、K、Mg脱除较为完全,其脱除率分别为95%、90%、75%和71.4%,在钨棒中含量分别降至1、1、5和10μg/g.
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关键词
电子束熔炼
高纯钨
净化提纯
间隙
杂质
非
间隙
杂质
下载PDF
职称材料
题名
电子束端面熔炼法制备高纯钨的研究
被引量：
7
1
作者
马运柱
刘业
刘文胜
龙路平
机构
中南大学粉末冶金国家重点实验室
出处
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第1期30-35,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(50774098)
文摘
采用250 kW的电子束熔炼炉对纯度为99.955%的钨棒进行提纯研究,利用扫描电镜、电感耦合等离子体光谱法(ICP-MS)和微米压痕仪分别对原料钨棒和熔炼后钨锭的形貌、纯度和显微硬度进行观察和测试.研究表明:在电子束轰击原料钨棒的过程中,钨棒端面的边缘最先熔化;经电子束熔炼后,钨棒的整体纯度显著提高,达到了99.975%,间隙杂质O和C的脱除率分别达到55.5%和45.8%;非间隙杂质的蒸汽压与脱除率密切相关,高蒸汽压的杂质元素Cd、As、K、Mg脱除较为完全,其脱除率分别为95%、90%、75%和71.4%,在钨棒中含量分别降至1、1、5和10μg/g.
关键词
电子束熔炼
高纯钨
净化提纯
间隙
杂质
非
间隙
杂质
Keywords
electron beam melting
high purity tungsten
purification
interstitial impurity
non-interstitial impurity
分类号
TF804.8 [冶金工程—有色金属冶金]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子束端面熔炼法制备高纯钨的研究
马运柱
刘业
刘文胜
龙路平
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
7
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职称材料
已选择
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参考文献
引证文献
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