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等离子喷涂-物理气相沉积的气相沉积机理 被引量:8
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作者 邓子谦 刘敏 +3 位作者 毛杰 张小锋 陈文龙 陈志坤 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第12期1285-1291,共7页
以等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)喷涂团聚的Zr O_2-7wt%Y_2O_3(7YSZ)粉末在五个喷距下制备了热障涂层。通过场发射-扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射(XRD)分析了五个涂层样品的微观结构和相成分差异。另外,通过发射光谱(OES)诊断研究了... 以等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)喷涂团聚的Zr O_2-7wt%Y_2O_3(7YSZ)粉末在五个喷距下制备了热障涂层。通过场发射-扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射(XRD)分析了五个涂层样品的微观结构和相成分差异。另外,通过发射光谱(OES)诊断研究了射流中7YSZ粉末气相浓度随喷距的变化。最后,阐述了3种不同的气相沉积涂层生长机制,说明了射流中粉末的状态和气相浓度对涂层结构的影响。研究表明:(1)350 mm和1800 mm喷距下形成的均是致密结构涂层,而650~1250 mm喷距下形成的是典型的PS-PVD柱状结构涂层。(2)350 mm喷距下制备的涂层由四方相(t’)和单斜相(m)氧化锆构成;当喷距大于650 mm时,涂层以四方相(t’)氧化锆为主。(3)350 mm喷距下涂层是由高浓度气相过饱和自发形核形成的新核和液/固粒子共同作用形成的;喷距650~1250 mm下,涂层生长以气相沉积于基体进行非自发形核为主,气相在射流中的自发形核为辅;喷距1800 mm下涂层由气相过冷凝固的粒子堆积而成。 展开更多
关键词 PS-PVD 涂层生长 自发形核 自发形核 光谱诊断
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基于三垂面上形核的润湿角
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作者 郝晓辉 高随祥 《中国科学院研究生院学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期433-439,共7页
对三垂面基体上非自发形核进行了研究.根据非自发形核的条件,对临界形核半径和临界形核功进行了推导,得到了临界形核功与润湿角的数学表达式.结果表明,临界形核功仅与润湿角有关,说明润湿角在非自发形核中起非常重要的作用.对形核润湿... 对三垂面基体上非自发形核进行了研究.根据非自发形核的条件,对临界形核半径和临界形核功进行了推导,得到了临界形核功与润湿角的数学表达式.结果表明,临界形核功仅与润湿角有关,说明润湿角在非自发形核中起非常重要的作用.对形核润湿角进行的讨论表明了,与自发形核相比,非自发形核具有更小的临界形核功. 展开更多
关键词 自发形核 润湿角 形核半径 形核
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非自发形核表面能与润湿角的关系 被引量:1
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作者 郝晓辉 《唐山师范学院学报》 2010年第2期45-46,62,共3页
根据形核理论,对三个相互垂直平面基体上非自发形核表面能进行推导,给出了表面能与润湿角关系的数学表达式。
关键词 自发形核 表面能 润湿角
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非自发形核功与润湿角的数学模型
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作者 郝晓辉 廖福成 《数学的实践与认识》 CSCD 北大核心 2010年第4期157-161,共5页
根据两个垂直相交平面基体上非自发形核功与润湿角数学模型,对临界形核半径和临界形核功进行了详细的推导,表明了临界形核功与润湿角的关系,完善了两个垂直相交平面基体上形核功与润湿角数学模型的研究.
关键词 自发形核 形核 润湿角 数学模型
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