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4H-SiC隐埋沟道MOSFET亚阈特性研究 被引量:1
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作者 郜锦侠 张义门 +1 位作者 张玉明 汤晓燕 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期130-134,共5页
在推导一个等效沟道厚度模型的基础上,对SiC隐埋沟道MOSFET亚阈特性进行了研究。首先利用泊松方程的解对等效沟道厚度的计算式进行了推导,计算结果表明,在ND+/NA-≤43的情况下,等效沟道厚度与栅压和沟道深度无关,亚阈区峰值电势随栅压... 在推导一个等效沟道厚度模型的基础上,对SiC隐埋沟道MOSFET亚阈特性进行了研究。首先利用泊松方程的解对等效沟道厚度的计算式进行了推导,计算结果表明,在ND+/NA-≤43的情况下,等效沟道厚度与栅压和沟道深度无关,亚阈区峰值电势随栅压线性变化,推出了一个简化的亚阈电流表达式,并在计算中计入了界面态的影响。该表达式可用来对沟道载流子浓度进行提取。 展开更多
关键词 等效沟道厚度 SIC 沟道 MOSFET 亚阈特性
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基于平均迁移率模型的SiC埋沟MOSFET Ⅰ-Ⅴ特性 被引量:1
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作者 郜锦侠 张义门 +1 位作者 张玉明 夏杰 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期170-175,共6页
提出了一种SiC隐埋沟道MOSFET平均迁移率模型,并在此基础上对器件I-V特性进行了研究。采用一个随栅压变化的平均电容公式,并用一个简单的解析表达式来描述沟道平均迁移率随栅压的变化关系。计算漏电流时考虑了埋沟器件的三种工作模式,... 提出了一种SiC隐埋沟道MOSFET平均迁移率模型,并在此基础上对器件I-V特性进行了研究。采用一个随栅压变化的平均电容公式,并用一个简单的解析表达式来描述沟道平均迁移率随栅压的变化关系。计算漏电流时考虑了埋沟器件的三种工作模式,推出了各种工作模式下的漏电流表达式,并用实验值对模型进行了验证。 展开更多
关键词 碳化硅 沟道 金属氧化物半导体场效应晶体管 平均迁移率模型 伏安特性
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Study of Electron Mobility in 4H-SiC Buried-Channel MOSFETs
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作者 郜锦侠 张义门 张玉明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期283-289,共7页
The effects of several factors on mobility in 4H-SiC buried-channel (BC) MOSFETs are studied,A simple model that gives a quantitative analysis of series resistance effects on the effective mobility and field-effect ... The effects of several factors on mobility in 4H-SiC buried-channel (BC) MOSFETs are studied,A simple model that gives a quantitative analysis of series resistance effects on the effective mobility and field-effect mobility is proposed.A series resistance not only decreases field-effect mobility but also reduces the gate voltage corresponding to the peak field-effect mobility. The dependence of the peak field-effect mobility on series resistance follows a simple quadratic polynomial. The effects of uniform and exponential interface state distributions in the forbidden band on field-effect mobility are analyzed with an analytical model. The effects of non-uniform interface states can be ignored at lower gate voltages but become more obvious as the gate bias increases. 展开更多
关键词 4H-SIC buried-channel MOSFET MOBILITY series resistance interface states
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C-V法提取SiC隐埋沟道MOSFET沟道载流子浓度 被引量:8
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作者 郜锦侠 张义门 +1 位作者 汤晓燕 张玉明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期2992-2996,共5页
本文对用C-V法提取SiC隐埋沟道MOSFET沟道载流子浓度的方法进行了理论和实验分析.pn结的存在所造成的埋沟MOS结构C-V曲线的畸变为沟道载流子浓度的提取带来一些问题.SiC/SiO2界面上界面态的存在也会使提取出的数值与实际数值产生偏差.... 本文对用C-V法提取SiC隐埋沟道MOSFET沟道载流子浓度的方法进行了理论和实验分析.pn结的存在所造成的埋沟MOS结构C-V曲线的畸变为沟道载流子浓度的提取带来一些问题.SiC/SiO2界面上界面态的存在也会使提取出的数值与实际数值产生偏差.本文首先从理论上分别分析了沟道深度和界面态对沟道载流子浓度提取结果的影响,然后对两种沟道深度的埋沟MOS结构C-V曲线进行了测试,提取出了沟道掺杂浓度.在测试中,采用不同的扫描速率,分析了界面态对提取结果的影响.理论分析结果和实验测试结果相一致. 展开更多
关键词 C-V法 SIC 沟道MOSFET 沟道载流子浓度
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