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Ta基纳米薄膜扩散阻挡特性的比较研究 被引量：7
1
作者 陈海波 周继承 李幼真 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期655-658,共4页
采用直流磁控溅射方法在p型(100)Si衬底上制备了Cu/Ta、Cu/Ta-N和Cu/Ta-Al-N复合膜,并对薄膜样品进行了卤钨灯快速热退火。用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM、Alpha-step IQ台阶仪和XRD等分析测试方法对样品的形貌结构与特性进行了分... 采用直流磁控溅射方法在p型(100)Si衬底上制备了Cu/Ta、Cu/Ta-N和Cu/Ta-Al-N复合膜,并对薄膜样品进行了卤钨灯快速热退火。用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM、Alpha-step IQ台阶仪和XRD等分析测试方法对样品的形貌结构与特性进行了分析表征,并对N和Al的掺杂机理进行了讨论。实验结果表明,Ta、Ta-N和Ta-Al-N膜层的Cu扩散阻挡特性逐渐增强,Ta/Si界面上的反应和Cu通过多晶Ta膜扩散到Si底并形成Cu_3Si共同导致了Ta阻挡层的失效,而Cu通过Ta-N和Ta-Al-N结晶后产生的晶界扩散到Si底并形成Cu_3Si是两者失效的唯一机制。N的掺入促进了非晶薄膜的形成且有利于消除界面反应,而Al的掺入将进一步提高薄膜的结晶温度和热稳定性。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 Ta基纳米薄膜 Cu扩散阻挡层 阻挡特性
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纳米Ta-Al-N薄膜的制备及其扩散阻挡特性的研究 被引量：2
2
作者 周继承 陈海波 李幼真 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期327-331,共5页
采用直流反应磁控溅射方法在p型(100)Si衬底上制备了Ta-Al-N纳米薄膜与Cu/Ta-Al-N复合膜,并对薄膜样品进行了卤钨灯快速热退火(RTP)。用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM-EDS、Alpha-step IQ台阶仪和XRD等分析测试方法对样品的形貌结构... 采用直流反应磁控溅射方法在p型(100)Si衬底上制备了Ta-Al-N纳米薄膜与Cu/Ta-Al-N复合膜,并对薄膜样品进行了卤钨灯快速热退火(RTP)。用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM-EDS、Alpha-step IQ台阶仪和XRD等分析测试方法对样品的形貌结构与特性进行了分析表征。实验结果表明,本实验条件下制得的Ta-Al-N纳米薄膜表面光滑;随着Al靶溅射功率的增加,Ta-Al-N薄膜中Al含量和方块电阻相应增大,均方根粗糙度降低,而沉积速率变化不大,且Ta-Al-N膜层对Cu扩散的阻挡能力增强。但在过高的温度下退火,导致Cu通过Ta-Al-N的晶界扩散到Ta-Al-N/Si界面并形成Cu3Si,从而引起阻挡层的失效。 展开更多
关键词 反应磁控溅射 Ta—Al-N纳米薄膜 Cu扩散阻挡层 阻挡特性
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多靶磁控共溅射纳米Ta-Al-N薄膜的阻挡性能研究
3
作者 李幼真 周继承 +1 位作者 陈海波 刘正 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期460-464,共5页
采用磁控反应共溅射方法制备了纳米Ta-Al-N薄膜,并原位制备了Cu/Ta-Al-N薄膜,对薄膜进行了热处理。用四探针测试仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及台阶仪等研究了退火对薄膜结构及阻挡性能的影响。结果表明,T... 采用磁控反应共溅射方法制备了纳米Ta-Al-N薄膜,并原位制备了Cu/Ta-Al-N薄膜,对薄膜进行了热处理。用四探针测试仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及台阶仪等研究了退火对薄膜结构及阻挡性能的影响。结果表明,Ta-Al-N薄膜具有优良的热稳定性,保持非晶态且能对Cu有效阻挡的温度可达800°C;同时发现在900°C退火5 min后,薄膜开始晶化,在Cu/Ta-Al-N/Si界面处生成了Cu3Si等相,表明此时Ta-Al-N薄膜阻挡层开始失效。 展开更多
关键词 钽铝氮薄膜 热退火 表面形貌 阻挡特性
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真空镀膜实验中掺Al对Ta-N薄膜性能的影响
4
作者 李幼真 陈海波 刘正 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第16期87-90,共4页
采用磁控反应共溅射法制备了Ta-Al-N纳米薄膜及Cu/Ta-Al-N/Si结构,并在氮气保护下对薄膜进行了快速热处理,用四探针电阻测试仪、台阶仪、原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜等对薄膜进行了表征。研究表明,少量Al的掺... 采用磁控反应共溅射法制备了Ta-Al-N纳米薄膜及Cu/Ta-Al-N/Si结构,并在氮气保护下对薄膜进行了快速热处理,用四探针电阻测试仪、台阶仪、原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜等对薄膜进行了表征。研究表明,少量Al的掺入可降低薄膜的表面粗糙度,有效提高其热稳定性和Cu扩散阻挡能力,但同时也增大了薄膜的电阻率。Al原子分数为1.7%、厚约100nm的Ta-Al-N薄膜在800℃热处理5min后仍可保持稳定和对Cu扩散的有效阻挡,其作用机制与Al填充堵塞晶界及提高薄膜的晶化温度有关。 展开更多
关键词 Ta-Al-N薄膜 磁控溅射 结构 热稳定性 阻挡特性
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有机发光材料DPVBi的空穴阻挡特性 被引量：7
5
作者 姜文龙 王静 +4 位作者 丁桂英 汪津 王立忠 韩强 刘式墉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期561-565,共5页
讨论了有机发光材料4，4’-bis（2，2＇-diphenyl vinyl）-1，1’-biphenyl（DPVBi），在结构为ITO／N，N＇-bis-（1-naphthyl）-N，N＇-diphenyl-1，1’-biphenyl-4，4’-diamine（NPB）／DPVBi／tfis-（8-hydroxyquinoline）aluminum... 讨论了有机发光材料4，4’-bis（2，2＇-diphenyl vinyl）-1，1’-biphenyl（DPVBi），在结构为ITO／N，N＇-bis-（1-naphthyl）-N，N＇-diphenyl-1，1’-biphenyl-4，4’-diamine（NPB）／DPVBi／tfis-（8-hydroxyquinoline）aluminum（Alq3）／LiF／Al的有机电致发光器件中所表现出来的空穴阻挡特性。通过实验可以看到，当NPB的厚度小于DPVBi的厚度时，DPVBi对空穴的阻挡作用和其自身的厚度有关，厚度越大阻挡能力越强。DPVBi的厚度一定（120nm）且不足以将空穴完全限制于DPVBi层内时，其对空穴的阻挡能力，随着NPB厚度（30—60nm）的增加而相对减弱。当NPB的厚度大于DPVBi的厚度时，进入DPVBi层的空穴，随着它们之间厚度差别的增大而增加，从而使器件的光谱半峰全宽加大。这几条规律对于制作基于DPVBi的有机蓝光和有机白光器件具有-定的指导意义。 展开更多
关键词 有机电致发光材料 空穴 空穴阻挡特性
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利用DPVBi的空穴阻挡和发光特性而制作的白光器件 被引量：3
6
作者 姜文龙 丁桂英 +4 位作者 王静 汪津 王立忠 韩强 刘式墉 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期701-703,706,共4页
介绍了结构为：ITO／m-MTDATA（40nm）／NPB（5nm）／DPVBi（10～12nm）／Rubrene（0．5nm）／DPVBi（20～18nm）／Alq（50nm）／LiF（0．5nm）／Al的白光器件。该器件采用了两个DPVBi层中间夹一个Rubrene的薄层，这种结构充分利用了DP... 介绍了结构为：ITO／m-MTDATA（40nm）／NPB（5nm）／DPVBi（10～12nm）／Rubrene（0．5nm）／DPVBi（20～18nm）／Alq（50nm）／LiF（0．5nm）／Al的白光器件。该器件采用了两个DPVBi层中间夹一个Rubrene的薄层，这种结构充分利用了DPVBi的空穴阻挡特性和发光特性，有力地平衡了来自于DPVBi的蓝光、Alq的绿光和Rubrene的黄光，从而使器件发射性能较好的白光。当第一层的DPVBi和第二层的DPVBi的厚度分别是11nm和19nm时，其他层的厚度保持不变，该器件在15V电压下，最大亮度为11290cd／m^2，对应的效率为1．71cd／A，色坐标为（0．25，0．27），属于白光发射；在6V时，其最大效率为3．18cd／A。 展开更多
关键词 有机白光器件 空穴阻挡特性 DPVBI
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26GHz室内毫米波人体阻挡衰减特性研究 被引量：2
7
作者 耿绥燕 李杏 +5 位作者 王琦 王光波 王蒙军 孙韶辉 洪伟 赵雄文 《通信学报》 EI CSCD 北大核心 2016年第11期68-73,共6页
基于26GHz室内通信测量数据对人体阻挡衰减特性进行了研究。在Vogler多重刃形绕射场强计算的基础上，提出了包含二射线和四射线的多个人体阻挡绕射模型。结果表明，四射线人体阻挡衰减模型与实验数据非常吻合，信道测量带宽为1GHz时的... 基于26GHz室内通信测量数据对人体阻挡衰减特性进行了研究。在Vogler多重刃形绕射场强计算的基础上，提出了包含二射线和四射线的多个人体阻挡绕射模型。结果表明，四射线人体阻挡衰减模型与实验数据非常吻合，信道测量带宽为1GHz时的人体绕射衰减略大于带宽为500MHz时的衰减。在人体沿发端（TX）和收端（RX）连线平移过程中，人体位于连线中间位置时衰减最小，人体离RX端最近时衰减最大。在多人体穿过视距线阻挡测量中，人体横向穿过视距线（人脸正面面向RX喇叭口）比人体侧向（人脸侧面面向RX喇叭口）穿过视距线时衰减大。此外，人体阻挡数目越多，衰减越大，人体阻挡数目每增加1人，阻挡衰减增加5-8dB。本文结果为分析26GHz人体衰减特性和该频段毫米波无线通信系统设计提供有用信息。 展开更多
关键词 毫米波26GHz 人体阻挡特性 Vogler绕射模型 二射线和四射线多人体阻挡模型
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利用DPVBi阻挡和发光特性制作的白光器件
8
作者 王立 韩强 +2 位作者 姜文龙 王静 汪津 《微计算机信息》 北大核心 2007年第35期282-284,共3页
本文利用DPVBi的空穴阻挡特性和发光特性制作了一个白光器件。器件结构为:ITO/2T-NATA(20nm)/NPB(5nm)/DPVBi(11nm)/Rubrene(0.5nm)/DPVBi(19nm)/Alq3(50nm)/LiF(0.5nm)/Al。该器件采用了两个DPVBi层中间夹一个Rubrene的薄层,这种结构... 本文利用DPVBi的空穴阻挡特性和发光特性制作了一个白光器件。器件结构为:ITO/2T-NATA(20nm)/NPB(5nm)/DPVBi(11nm)/Rubrene(0.5nm)/DPVBi(19nm)/Alq3(50nm)/LiF(0.5nm)/Al。该器件采用了两个DPVBi层中间夹一个Rubrene的薄层,这种结构充分利用了DPVBi的空穴阻挡特性和发光特性,有力的平衡了来自于DPVBi的蓝光,Alq3的绿光和Rubrene的黄光,从而使器件发出性能较好的白光。在电压为13V时,器件的最大亮度达到22210cd/m2,对应的效率为1.97cd/A,色坐标为(0.31,0.34),属于白光发射。而当电压为6V时,其最大效率达到3.05cd/A。 展开更多
关键词 白光器件 DPVBI 空穴阻挡特性:发光特性
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可在较高温度下工作的铜和PEN制成的层压板
9
作者 杨英慧 《现代材料动态》 2004年第6期12-12,共1页
关键词 高温 铜 聚乙烯荼 层压板性能 阻挡特性 电子电路
原文传递
可达到100％覆盖的帕利灵聚合物（聚对二甲苯）涂层
10
作者 黄文梅（摘译） 《现代材料动态》 2010年第9期12-12,共1页
美国印第安纳州的一研究机构认为，在各种形式的帕利灵（聚对二甲苯）涂层中，大部分是惰性的和生物可兼容的，具有优异的湿度特性、化学性能和介质阻挡特性。这种超薄的聚合物被应用于气相沉积聚合工艺中，可以精确地控制涂层速度和厚度。
关键词 聚对二甲苯 聚合物 涂层 覆盖 印第安纳州 研究机构 湿度特性 阻挡特性
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