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题名基于光刻工艺的阶跃滤光片式微型分光器件研制
被引量：7
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作者
王少伟
陈效双
陆卫
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机构
中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第5期1358-1362,共5页
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基金
国家自然科学基金(60508018
60711120168
+4 种基金
10874196)
上海市青年科技启明星及跟踪计划(05QMX1459
08QH14025)
上海市研发基地协作能力建设专项(08DZ2201000)
中国科学院知识创新工程青年人才领域前沿资助课题
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文摘
为了消除机械掩模的尺寸限制和阴影效应,采用基于光刻掩膜的组合刻蚀法来制备阶跃滤光片,并成功地实现了16×1通道阶跃滤光片式微型分光器件的制备,该分光器件中滤光片单元的宽度只有90μm,总体尺寸不到2 mm。各滤光片通道分布在632.4 nm到739.6 nm之间,带宽均小于2.9 nm,透过率均高于70%,这样的阶跃滤光片最小单元尺寸可达微米量级,阴影效应可减小到微米甚至亚微米量级,与电荷耦合器件(CCD)完全匹配,可以作为微型分光器件来构建应用于空间等领域的微型光谱系统,从而促进相应光潜仪器的微型化。
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关键词
光学器件
阶跃滤光片
微型
分光
光刻
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Keywords
optical devices step filter miniature wavelength-division photolithography
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分类号
O484
[理学—固体物理]
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