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二氧化铈电沉积的研究进展
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作者 郝利峰 蒋泽文 +3 位作者 曹枫 金建忠 稽兴林 傅斌 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2022年第11期76-84,共9页
二氧化铈属于面心立方晶体结构,四面体间隙位置由阴离子填充。由于其物理化学性能较为特殊,二氧化铈极易形成氧空位,CeO_(2)薄膜作为镀锌钢板和铝合金的防腐涂层受到了广泛关注。论文对CeO_(2)电沉积工艺方法、沉积机理和成核生长方式... 二氧化铈属于面心立方晶体结构,四面体间隙位置由阴离子填充。由于其物理化学性能较为特殊,二氧化铈极易形成氧空位,CeO_(2)薄膜作为镀锌钢板和铝合金的防腐涂层受到了广泛关注。论文对CeO_(2)电沉积工艺方法、沉积机理和成核生长方式进行回顾与总结,归纳了多种电沉积法,介绍和评述了碱化电沉积机理、三步反应机理和光助阳极电沉积的“空穴氧化”机理,以期对未来相关科研工作的开展提供良好的支持。 展开更多
关键词 CeO_(2) 直流电沉积 阳极同时沉积 光助阳极沉积 机理 研究进展
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