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用充Kr(CH_4)的屏栅电离室测量^(64)Zn(n,α) ^(61)Ni反应截面和角分布
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作者 袁镜 陈泽民 +4 位作者 唐国有 陈金象 张国辉 Yu.M.Gledonov M.V.Sedysheva 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期442-444,461,共4页
用屏栅电离室重点对 5 .0、5 .7、6 .5 Me V中子 64Zn(n,α) 61Ni反应角分布和微分截面进行了测量 ,同时兼测 10 B(n,α) 7Li,利用氚气体通过 D(d,n) 3 He反应来刻度 ,工作气体采用 Kr+ 4 .71% CH4,由于采用了 Kr+ 4 .71% CH4为工作气... 用屏栅电离室重点对 5 .0、5 .7、6 .5 Me V中子 64Zn(n,α) 61Ni反应角分布和微分截面进行了测量 ,同时兼测 10 B(n,α) 7Li,利用氚气体通过 D(d,n) 3 He反应来刻度 ,工作气体采用 Kr+ 4 .71% CH4,由于采用了 Kr+ 4 .71% CH4为工作气体 ,消除了 16O的 (n,α)干扰。首次很清晰地得到了多组激发态的64Zn(n,α) 61Ni的事件双维谱以及激发态的 10 B(n,α) 7L i事件双维谱 ,测量结果表明 64Zn(n,α) 61Ni的角分布在 5 .7Me V时很接近 90°对称 ,而到 6 .5 Me V时明显后倾。 展开更多
关键词 Kr(CH4) 测量 反应截面 角分布 屏栅电离室 快中子 核反应 锌64 镍61
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