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X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用
1
作者 孙宝银 陈梦真 +1 位作者 朱樟震 伊福廷 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第3期176-178,共3页
阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上，采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30～40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。
关键词 镂空硅掩模 X射线 深层光刻 同步辐射
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