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真空微电子触觉传感器场致发射阵列的研究
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作者 温志渝 何清义 +2 位作者 江永清 林鹏 蒋子平 《重庆大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1998年第4期12-16,共5页
阐述了真空微电子触觉传感器的工作原理。采用半导体集成电路加工技术和硅微各向异性腐蚀及氧化锐化工艺,在电阻率为3~5Ω·cm的n型(100)硅片上制备了真空微电子触觉传感器的场致发射阴极锥尖阵列,锥尖密度达3900... 阐述了真空微电子触觉传感器的工作原理。采用半导体集成电路加工技术和硅微各向异性腐蚀及氧化锐化工艺,在电阻率为3~5Ω·cm的n型(100)硅片上制备了真空微电子触觉传感器的场致发射阴极锥尖阵列,锥尖密度达3900个/mm2,起始发射电压为2~3V,反向击穿电压大于30V,收集极在20V在电压时,单尖发射电流达0.2μA,实验结果表明这种真空微电子触觉传感器具有良好的触觉效应。 展开更多
关键词 场致发射 陈列 真空微电子 触觉传感器
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