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题名PLD法制备BiFeO_3薄膜及其性能研究
被引量：6
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作者
黄艳芹
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机构
新乡学院化学与化工学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第10期1469-1471,共3页
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基金
国家自然科学基金资助项目(11074066)
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文摘
采用快速等离子烧结法(SPS)制得纯相BiFeO3靶材,利用脉冲激光沉积(PLD)法将其沉积在Si(100)衬底上,制得BiFeO3薄膜。通过调节各种工艺参数,在沉积温度650℃,氧压2Pa,靶基距5cm,脉冲激光频率7Hz、激光能量350mJ条件下获得了高择优取向、高结晶度的BiFeO3薄膜。在此工艺条件下,又制备了不同厚度的BiFeO3薄膜。用XRD、SEM等手段对薄膜相和形貌进行了表征。结果表明,制备的薄膜有较高的形貌质量,薄膜的铁电、铁磁性能呈现出与厚度的强相关性;其中300nm厚的薄膜质量最好。
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关键词
多铁性
BIFEO3
快速等离子烧结
铁电铁磁性
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Keywords
multiferroic
BiFeO3
spark plasma sintering （SPS）
ferromagnetic and ferroelectric properties
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分类号
TM28
[一般工业技术—材料科学与工程]
TB33
[电气工程—电工理论与新技术]
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题名取向对PLD法制备BiFeO_3薄膜性能的影响
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作者
黄艳芹
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机构
新乡学院化学与化工学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第13期1932-1935,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(11074066)
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文摘
以快速等离子烧结法(SPS)制备的BiFeO3块体为靶材,用激光脉冲沉积(PLD)法在不同衬底上制备了BiFeO3(100)/LaNiO3(100)/Si(100)、BiFeO3(111)/LaNiO3(111)/SrTiO3(111)、BiFeO3(110)/Pt/TiO2/SiO2/Si、BiFeO3(110)LaNiO3(110)/Pt/TiO2/SiO2/Si不同择优取向的薄膜,并对薄膜进行了XRD和SEM分析。X射线衍射结果表明,BiFeO3薄膜外延沉积在导电层衬底上,并且它们具有相同的高度取向。SEM分析表明,薄膜上的晶粒是柱状形态,表面光滑致密且颗粒分布非常均匀,晶粒的边界和尺寸也能被清晰地观察到。通过铁电铁磁性能研究,BiFeO3(111)择优取向性能最佳。SrTiO3衬底上(111)取向的BiFeO3薄膜铁电剩余极化值达到了30.3μC/cm2,漏电流为1.0×10-3 A/cm2,饱和磁化强度为20.0kA/m。
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关键词
BIFEO3薄膜
铁电铁磁性
激光脉冲沉积(PLD)
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Keywords
BiFeO3 films
ferromagnetic and ferroelectric properties
pulsed laser deposition（PLD） method
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分类号
TN304.9
[电子电信—物理电子学]
O484.4
[理学—固体物理]
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