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烧结压力对SPS制备MoSi_(2)涂层高温抗氧化性能的影响
1
作者 茅晨浩 朱路 +3 位作者 任宣儒 王晓虹 张平 冯培忠 《材料与冶金学报》 CAS 北大核心 2023年第5期456-463,共8页
以废弃硅钼棒为原料,采用放电等离子烧结(spark plasma sintering, SPS)技术在钽基体上制备出MoSi_(2)涂层,研究了烧结压力对涂层微观形貌及其1 600℃下抗氧化性能的影响.结果表明:在10~40 MPa的范围内,提高烧结压力可增强涂层的致密性... 以废弃硅钼棒为原料,采用放电等离子烧结(spark plasma sintering, SPS)技术在钽基体上制备出MoSi_(2)涂层,研究了烧结压力对涂层微观形貌及其1 600℃下抗氧化性能的影响.结果表明:在10~40 MPa的范围内,提高烧结压力可增强涂层的致密性和阻氧能力,并且涂层表面大尺寸的裂纹消失,仅存在少量的微裂纹;经1 600℃氧化50 h后,烧结压力分别为20,30,40 MPa下所制备的涂层表面均完整无剥落,并形成连续的SiO_(2)保护膜,可有效阻碍氧气扩散;当烧结压力为40 MPa时,涂层的质量增益最低(7.4 mg/cm~2),其扩散层和玻璃膜较薄,此时涂层表现出最佳的防护效果. 展开更多
关键词 废弃MoSi_(2) 抗氧化涂层 烧结压力 放电等离子烧结 钽基体
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氢化物发生法-ICP-AES测定钽中微量杂质元素 被引量：1
2
作者 陈秋莲 杜方才 《硬质合金》 CAS 2004年第4期229-230,共2页
采用氢化还原法,分离富集钽中微量杂质元素,然后采用ICP-AES测定其中铋、硒、碲等杂质元素。方法检出限可达ng/g,回收率在90%以上。
关键词 氢化物发生法 ICP-AES 钽基体 铋、硒、碲
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