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测量计算金属-半导体接触电阻率的方法 被引量:13
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作者 李鸿渐 石瑛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期155-159,共5页
如何测量、计算得到精确接触电阻值已凸显重要。介绍了多种测量计算金属-半导体欧姆接触电阻率的模型和方法,如矩形传输线模型、圆点传输线模型、多圆环传输线模型等,对各方法的利弊进行了讨论,并结合最新的研究进展进行了评述和归纳。... 如何测量、计算得到精确接触电阻值已凸显重要。介绍了多种测量计算金属-半导体欧姆接触电阻率的模型和方法,如矩形传输线模型、圆点传输线模型、多圆环传输线模型等,对各方法的利弊进行了讨论,并结合最新的研究进展进行了评述和归纳。综合多种因素考虑,认为圆点传输线模型是一种较好的测量金属半导体接触电阻率的方法。 展开更多
关键词 金属-半导体接触 接触电阻率 传输线模型
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CTLM测量金属/半导体欧姆接触电阻率 被引量:6
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作者 孙燕杰 何山虎 +3 位作者 甄聪棉 龚恒翔 杨映虎 王印月 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期241-244,共4页
系统地介绍了用圆形传输线模型( C T L M) 测量金属/ 半导体欧姆接触电阻率的基本原理。以 Al/ Si 接触为例研究了不同掺杂浓度和不同温度退火对接触特性和接触电阻率ρ C 的影响。测量得到 Al/ Si 欧姆接触电阻率的... 系统地介绍了用圆形传输线模型( C T L M) 测量金属/ 半导体欧姆接触电阻率的基本原理。以 Al/ Si 接触为例研究了不同掺杂浓度和不同温度退火对接触特性和接触电阻率ρ C 的影响。测量得到 Al/ Si 欧姆接触电阻率的最小值约为2 .4 ×10 - 5 Ω·cm 2 。 展开更多
关键词 圆形传输线模型 金属/半导体接触 接触电阻率
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对半导体pn结接触电势的一个讨论 被引量:2
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作者 茹国平 《大学物理》 北大核心 2003年第6期10-13,共4页
讨论了半导体 pn结内建电场和接触电势的形成与可测性 ,回答了在半导体物理学 pn结内容教学中学生经常会提出的一个似是而非的问题 .从热力学第一定律、金属 -半导体接触等不同角度详细解释了热平衡 (零偏下 )时pn结不可能对外输出电压... 讨论了半导体 pn结内建电场和接触电势的形成与可测性 ,回答了在半导体物理学 pn结内容教学中学生经常会提出的一个似是而非的问题 .从热力学第一定律、金属 -半导体接触等不同角度详细解释了热平衡 (零偏下 )时pn结不可能对外输出电压和电流的原因 . 展开更多
关键词 PN结 金属-半导体接触 接触电势 内建电场
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Direct Tunneling Effect in Metal-Semiconductor Contacts Simulated with Monte Carlo Method 被引量:2
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作者 孙雷 杜刚 +1 位作者 刘晓彦 韩汝琦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1364-1368,共5页
Considering the tunneling effect and the Schottky effect,the metal semiconductor contact is simulated by using self consistent ensemble Monte Carlo method.Under different biases or at different barrier heights,the i... Considering the tunneling effect and the Schottky effect,the metal semiconductor contact is simulated by using self consistent ensemble Monte Carlo method.Under different biases or at different barrier heights,the investigation into the tunneling current indicates that the tunneling effect is of great importance under reverse biases.The Schottky barrier diode current due to Schottky effect is in agreement with the theoretical one.The barrier lowering is found a profound effect on the current transport at the metal semiconductor interface. 展开更多
关键词 Monte Carlo device simulation metal semiconductor contact direct tunneling Schottky effect
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金刚石肖特基二极管的研究进展 被引量:2
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作者 彭博 李奇 +3 位作者 张舒淼 樊叔维 王若铮 王宏兴 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期732-745,共14页
金刚石具有宽带隙(5.47 eV)、高载流子迁移率(空穴3800 cm^(2)/(V·s)、电子4500 cm^(2)/(V·s))、高热导率(22 W·cm^(-1)·K^(-1))、高临界击穿场强(>10 MV/cm),以及最优的Baliga器件品质因子,使得金刚石半导体器... 金刚石具有宽带隙(5.47 eV)、高载流子迁移率(空穴3800 cm^(2)/(V·s)、电子4500 cm^(2)/(V·s))、高热导率(22 W·cm^(-1)·K^(-1))、高临界击穿场强(>10 MV/cm),以及最优的Baliga器件品质因子,使得金刚石半导体器件在高温、高频、高功率,以及抗辐照等极端条件下有良好的应用前景。随着单晶金刚石CVD生长技术和p型掺杂的突破,以硼掺杂金刚石为主的肖特基二极管(SBD)的研究广泛展开。本文详细介绍了金刚石SBD的工作原理,探讨了高掺杂p型厚膜、低掺杂漂移区p型薄膜的生长工艺,研究了不同金属与金刚石形成欧姆接触、肖特基接触的条件,分析了横向、垂直、准垂直器件结构的制备工艺,以及不同结构对SBD正向、反向、击穿特性的影响,阐述了场板、钝化层、边缘终端等器件结构对SBD内部电场的调制作用,进而提升器件反向击穿电压,最后总结了金刚石SBD的应用前景及面临的挑战。 展开更多
关键词 金刚石 肖特基二极管 金属-半导体接触 场板 钝化层 边缘终端
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ZnO纳米线阵列膜的自组装生长及其金属接触特性 被引量:3
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作者 贺永宁 张雯 +3 位作者 崔吾元 崔万照 张瑞智 徐友龙 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期17-20,共4页
以磁控溅射制备的ZnO纳米晶薄膜作为籽晶层,用水热法在80℃氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)玻璃衬底上,实现了大面积ZnO纳米线阵列膜的取向生长,制备了3种金属-半导体-金属(metal-semiconductor-metal,MSM)结构的ZnO半导体纳米线阵列膜... 以磁控溅射制备的ZnO纳米晶薄膜作为籽晶层,用水热法在80℃氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)玻璃衬底上,实现了大面积ZnO纳米线阵列膜的取向生长,制备了3种金属-半导体-金属(metal-semiconductor-metal,MSM)结构的ZnO半导体纳米线阵列膜样品,测试了薄膜样品的光学特性和I-V特性。结果表明:在相同的生长液浓度下,籽晶层对所生长的纳米线尺度分布有显著影响。所制备的纳米线薄膜在室温下具有显著的紫外带边发射特性。ZnO纳米线/Ag和ZnO纳米线/Al的金属-半导体接触均具有明显的Schottky接触特性,而ZnO纳米线/Au的金属-半导体接触具有明显Ohmic接触特性。 展开更多
关键词 氧化锌纳米线 自组装生长 金属-半导体接触
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金属/碲镉汞接触研究的发展 被引量:1
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作者 王忆锋 刘黎明 +1 位作者 孙祥乐 王丹琳 《红外》 CAS 2012年第5期7-22,共16页
介绍了金属/碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe,MCT)接触研究的发展状况,包括基本概念、生长结构、化学活性以及电学性能。金属/MCT接触有两类:一类是电子(欧姆)接触,另一类是整流(Shottky)接触。欧姆接触是MCT红外探测器的一个重要组成部分,它决... 介绍了金属/碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe,MCT)接触研究的发展状况,包括基本概念、生长结构、化学活性以及电学性能。金属/MCT接触有两类:一类是电子(欧姆)接触,另一类是整流(Shottky)接触。欧姆接触是MCT红外探测器的一个重要组成部分,它决定了器件的性能和可靠性。欧姆接触的电阻小,与MCT黏附性好,并且在热循环条件下可保持性能稳定。由于需要具有较大功函数的接触金属,p型MCT很难实现,而n型MCT则可以用很多金属实现。 展开更多
关键词 金属/半导体接触 金属/半导体界面 金属/碲镉汞接触 欧姆接触 碲镉汞红外探测器
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Schottky势垒高度理论计算中的平均键能方法 被引量:2
8
作者 李书平 王仁智 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期542-546,共5页
以平均键能Em 作为参考能级 ,计算了 10种不同半导体的Schottky接触势垒高度 ,计算值与实验值符合较好 .计算值与实验值的符合程度与Tersoff的电中性能级EB 方法相当 ,优于Harrison和Cardona等人采用sp3平均杂化能εh和介电函数隙中能级... 以平均键能Em 作为参考能级 ,计算了 10种不同半导体的Schottky接触势垒高度 ,计算值与实验值符合较好 .计算值与实验值的符合程度与Tersoff的电中性能级EB 方法相当 ,优于Harrison和Cardona等人采用sp3平均杂化能εh和介电函数隙中能级ED 的计算结果 . 展开更多
关键词 Schottky势垒高度 平均键能方法 费米能级 计算方法 二极管 肖特基势垒 金属-半导体接触
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二硫化钼场效应晶体管金属接触的研究进展 被引量:2
9
作者 张亚东 贾昆鹏 +1 位作者 吴振华 田汉民 《微纳电子技术》 北大核心 2020年第2期109-118,共10页
二硫化钼(MoS2)作为一种代表性的半导体二维原子晶体材料,具有优异的物理及电学特性,这使其在光电器件尤其是逻辑器件的应用中具有广泛的前景。总结了MoS2的表面电荷转移掺杂和替位掺杂,并分析了不同掺杂方法的优劣,同时介绍了降低费米... 二硫化钼(MoS2)作为一种代表性的半导体二维原子晶体材料,具有优异的物理及电学特性,这使其在光电器件尤其是逻辑器件的应用中具有广泛的前景。总结了MoS2的表面电荷转移掺杂和替位掺杂,并分析了不同掺杂方法的优劣,同时介绍了降低费米能级钉扎效应的两种接触电阻的优化方法。依据肖特基理论改变金属功函数可以调节金属与MoS2的肖特基势垒高度,但由于金属与MoS2之间存在费米能级钉扎效应,接触时会产生较大的肖特基势垒,降低载流子的发射效率,从而增加金属与MoS2之间的接触电阻。最后,指出MoS2器件接触电阻的研究趋势并展望了MoS2的应用前景。 展开更多
关键词 二硫化钼(MoS2) 场效应晶体管 二维晶体材料 金属-半导体接触 功函数
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Ⅲ—V族化合物半导体欧姆接触研究的进展
10
作者 孙序文 《光通信研究》 1987年第2期45-49,共5页
本文介绍一种解释欧姆接触的比接触电阻ρ_c的新模型。并从理论上分析了利用RF溅射清洗半导体表面可使ρ_c降低的机理。
关键词 欧姆接触 半导体表面 接触电阻 溅射清洗 肖特基势垒 金属-半导体接触 化合物半导体
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外电场和双轴应变对MoSH/WSi2N4肖特基结势垒的调控 被引量:1
11
作者 梁前 钱国林 +2 位作者 罗祥燕 梁永超 谢泉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期274-282,共9页
鉴于实验上最新合成的二维半导体材料WSiN(WSN)和二维金属材料MoSH(MSH),构建了金属-半导体MSH/WSN肖特基结.在实际的金属-半导体接触应用中,肖特基势垒的存在严重降低了器件的性能.因此,获得较小的肖特基势垒甚至是欧姆接触至关重要.... 鉴于实验上最新合成的二维半导体材料WSiN(WSN)和二维金属材料MoSH(MSH),构建了金属-半导体MSH/WSN肖特基结.在实际的金属-半导体接触应用中,肖特基势垒的存在严重降低了器件的性能.因此,获得较小的肖特基势垒甚至是欧姆接触至关重要.本文使用第一性原理计算研究了在外电场和双轴应变作用下MSH/WSN肖特基结势垒的变化.计算结果表明,外电场和双轴应变均可以有效地调控MSH/WSN肖特基结势垒.正向外电场能实现MSH/WSN肖特基结p型与n型肖特基接触之间的动态转化,而负向外电场可实现MSH/WSN肖特基结向欧姆接触的转化.此外,较大的双轴应变可实现MSH/WSN肖特基结p型与n型肖特基接触的相互转化.此项工作为基于WSN半导体的肖特基功能器件及场效应晶体管提供理论指导. 展开更多
关键词 WSi2N4 MoSH 金属-半导体接触 肖特基接触
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Piezotronic transistors in nonlinear circuit:Model and simulation
12
作者 HU GongWei ZHANG YuJing +3 位作者 LUO Lu YANG Yang ZHANG Yan WANG ZhongLin 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第8期1348-1354,共7页
For the materials that simultaneously exhibit piezoelectric and semiconductor properties,such as wurtzite Zn O,Ga N and In N,as well as two-dimensional single Mo S2,piezoelectric charges induced by externally applied ... For the materials that simultaneously exhibit piezoelectric and semiconductor properties,such as wurtzite Zn O,Ga N and In N,as well as two-dimensional single Mo S2,piezoelectric charges induced by externally applied strain can tune/control carrier transport at a metal-semiconductor contact or semiconductor junction,which is named piezotronic effect.Metal-semiconductor-metal piezotronic transistors are key piezotronic nanodevices for electromechanical applications,and they are typical nonlinear elements.In this paper,a simplified current-voltage analysis solution of piezotronic transistors is developed,which can be used for circuit design and simulation.Furthermore,the typical nonlinear circuit:Chua's circuit based on piezotronic transistors is simulated.We find that the output signal of the piezotronic transistor circuit can be switched and changed asymmetrically by externally applied strain.This study provides insight into the nonlinear properties of the piezotronic transistor,as well as guidance for piezotronic transistor nonlinear circuit application. 展开更多
关键词 piezotronic transistor nonlinear nanodevice electromechanical application nonlinear circuit
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硅太阳电池电极系统的分析与制备 被引量:1
13
作者 申兰先 陈庭金 +2 位作者 刘祖明 张鹤仙 夏朝凤 《云南师范大学学报(自然科学版)》 2006年第5期25-28,54,共5页
文章分析了硅太阳电池电极设计必须考虑到电池的表面状态,表面扩散层的掺杂浓度,金属—半导体接触以及遮光损失等的影响,因而是一个电极系统的设计和制备问题。给出了栅状电极的设计实例,并用于太阳电池的制作获得较满意的输出特性。
关键词 硅太阳电池 金属-半导体接触 太阳电池电极系统 丝网印刷
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可透基区晶体管的制造和微波性能
14
作者 C.O.Bozler 梁春广 《微纳电子技术》 1980年第6期43-46,共4页
已经制出了具有极高频率性能潜力的新型晶体管。二维数值模拟计算指出,此种晶体管最高振荡频率可达1000千兆赫。此晶体管的独特之点是在 n 型砷化镓单晶内埋置极为精细的钨栅。
关键词 最高振荡频率 器件 晶体管 半导体三极管 基区 肖特基势垒 金属-半导体接触 基极 集电极电流 千兆赫 发射极
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GaAs激光器几个物理量的测量
15
作者 张敬明 王仲明 《中国激光》 EI CAS 1977年第4期15-24,共10页
GaAs激光器是在很大的电流密度下工作的,因此器件的串联电阻(体电阻和接触电阻)对器件的性能有很大影响。为了得到尽可能小的串联电阻,首先必须判定GaAs和金属电极之间的接触是否是欧姆接触,并测出器件串联电阻的数值。
关键词 激光器 异质结 热阻 受激发射 串联电阻 光激射器 电子器件 半导体 热传导 激光发射 GAAS 肖特基势垒 金属-半导体接触 物理量
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掩埋金属自对准工艺对SiGe HBT性能的改善
16
作者 陈建新 吴楠 +1 位作者 史辰 杨维明 《北京工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1048-1051,共4页
为了改善传统的双台面工艺受光刻设备和工艺精度限制这一缺陷,引入了掩埋金属自对准工艺.新工艺使SiGe HBT的制作不受最小光刻条宽的限制,从而有效利用了现有的光刻精度.由此工艺得到的器件测量结果证明,在不提高现有光刻设备精度的基础... 为了改善传统的双台面工艺受光刻设备和工艺精度限制这一缺陷,引入了掩埋金属自对准工艺.新工艺使SiGe HBT的制作不受最小光刻条宽的限制,从而有效利用了现有的光刻精度.由此工艺得到的器件测量结果证明,在不提高现有光刻设备精度的基础上,掩埋金属自对准工艺对器件的性能有了改进. 展开更多
关键词 掩埋金属 自对准 结面积利用率 金属-半导体接触
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杂质分凝技术对肖特基势垒高度的调制
17
作者 毛淑娟 罗军 闫江 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第1期55-59,共5页
为降低金属或金属硅化物源漏与沟道的肖特基势垒高度以改善肖特基势垒源漏场效应晶体管(SBSD-MOSFET)的开关电流比(Ion/Ioff),采用硅化诱发杂质分凝技术(SIDS)调节NiSi/n-Si肖特基二极管(NiSi/n-Si SJD)的肖特基势垒高度,系统地研究了S... 为降低金属或金属硅化物源漏与沟道的肖特基势垒高度以改善肖特基势垒源漏场效应晶体管(SBSD-MOSFET)的开关电流比(Ion/Ioff),采用硅化诱发杂质分凝技术(SIDS)调节NiSi/n-Si肖特基二极管(NiSi/n-Si SJD)的肖特基势垒高度,系统地研究了SIDS工艺条件如杂质注入剂量、注入能量和硅化物形成工艺对肖特基势垒高度调节的影响。实验结果表明,适当增加BF2杂质的注入剂量或能量均能显著提高有效电子势垒高度(φBn,eff),也即降低了有效空穴势垒高度(φBp,eff),从而减小反向偏置漏电流。同时,与传统的一步退火工艺相比,采用两步退火工艺形成NiSi也有利于提高有效电子势垒高度,减小反向漏电流。最后,提出了一种优化的调制肖特基势垒高度的SIDS工艺条件。 展开更多
关键词 肖特基势垒高度 NISI n—Si肖特基二极管 硅化诱发杂质分凝技术 镍硅化物 金属-半导体接触
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用硫注入砷化镓制作的微波场效应晶体管
18
作者 邓先灿 《微纳电子技术》 1976年第1期58-60,共3页
据了解,西德慕尼黑西门子公司的W·Kellner等人1975年8月在美国华盛顿举行的《国际电子器件会议》上作了“用硫注入砷化镓制作的微波场效应晶体管”的报告。该报告的摘要如下:对于制备砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管(MESFET)所... 据了解,西德慕尼黑西门子公司的W·Kellner等人1975年8月在美国华盛顿举行的《国际电子器件会议》上作了“用硫注入砷化镓制作的微波场效应晶体管”的报告。该报告的摘要如下:对于制备砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管(MESFET)所需的均匀的n型掺杂层来说,硫离子注入半绝缘砷化镓已显示出它是一种有吸引力的可与气相外延抉择的方法。开始用与资料相似的实验条件(150千电子伏。 展开更多
关键词 场效应晶体管 单极晶体管 场效应器件 肖特基势垒 金属-半导体接触
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金属In与掺Nb的SrTiO_3金属半导体接触研究
19
作者 王世奇 马玉彬 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期19-22,共4页
研究了金属In与掺不同Nb浓度的SrTiO3(Nb-STO)衬底之间构成的金属半导体结(金-半结)。测量了不同温度下的I-V曲线。在掺杂浓度为0.05wt.%衬底构成的金-半结I-V曲线中,反向电压部分得到的有效因子n在1.05~1.10之间,且随温度变化很小,而... 研究了金属In与掺不同Nb浓度的SrTiO3(Nb-STO)衬底之间构成的金属半导体结(金-半结)。测量了不同温度下的I-V曲线。在掺杂浓度为0.05wt.%衬底构成的金-半结I-V曲线中,反向电压部分得到的有效因子n在1.05~1.10之间,且随温度变化很小,而正向的n很大,表明出势垒随着偏压的变化改变很大。金属In与Nb-STO衬底之间构成的金-半结在浓度为0.05wt.%和0.7wt.%的掺杂情况下,结点都表现出非线性的I-V关系,均不能视为欧姆接触。 展开更多
关键词 Nb掺杂SrTiO3 金属-半导体接触
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微波场效应晶体管的研制
20
作者 Michacl.C.Drirer 东邵 晓白 《微纳电子技术》 1975年第4期1-21,共21页
本报告叙述了能给出微波功率的砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管的研究结果。这个方案在3千兆赫下已达到1.2瓦的饱和功率,它是在单个的基片载体上由六个栅宽为500微米的小器件并联而成。在3千兆赫下单个器件的小信号增益高达10分贝(截止... 本报告叙述了能给出微波功率的砷化镓肖特基势垒栅场效应晶体管的研究结果。这个方案在3千兆赫下已达到1.2瓦的饱和功率,它是在单个的基片载体上由六个栅宽为500微米的小器件并联而成。在3千兆赫下单个器件的小信号增益高达10分贝(截止频率为10千兆赫)。用六个器件并联在3千兆赫下可获得5分贝的增益,输出功率达到800毫瓦。在小信号电平下相互调制分量的测量方法给出-23分贝的三级相互调制分量的结果,对于低的谐波失真来说,这是并未最佳化的器件的典型结果。为了迅速鉴定出制造场效应晶体管的外延材料的质量,采用了水银探针这种技术。从这一工作所得到的结论是欲获较大功率只能靠增大单一器件的尺寸来实现,这是因为在单一基片载体上并联比六个还多的子器件要引起放大器性能的退化。文中对宽为5000微米的自对准栅的器件制造过程作了描述。 展开更多
关键词 夹断电压 厚度 器件 场效应晶体管 单极晶体管 场效应器件 千兆赫 外延层 输出功率 肖特基势垒 金属-半导体接触 毫瓦 载流子浓度 载流子密度 栅长 自对准工艺 击穿电压 光致抗蚀剂 光刻胶 抗腐蚀 跨导 饱和电流 小信号增益
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