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ULSI用193nm光刻胶的研究进展 被引量:9
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作者 郑金红 黄志齐 文武 《精细化工》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期348-353,共6页
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
关键词 193nm 光刻胶 主体树脂 光致产 基团 溶解抑制剂 碱性添加剂
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LiBF4催化醛转化成偕二醋酸酯
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《精细化工原料及中间体》 2004年第7期45-45,共1页
关键词 LiBF4 催化 偕二醋 性保护基团
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