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ULSI用193nm光刻胶的研究进展
被引量:
9
1
作者
郑金红
黄志齐
文武
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期348-353,共6页
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
关键词
193nm
光刻胶
主体树脂
光致产
酸
剂
酸
敏
基团
溶解抑制剂
碱性添加剂
下载PDF
职称材料
LiBF4催化醛转化成偕二醋酸酯
2
《精细化工原料及中间体》
2004年第7期45-45,共1页
关键词
LiBF4
催化
醛
偕二醋
酸
酯
酸
敏
性保护
基团
下载PDF
职称材料
题名
ULSI用193nm光刻胶的研究进展
被引量:
9
1
作者
郑金红
黄志齐
文武
机构
北京化学试剂研究所有机室
出处
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期348-353,共6页
基金
国家 863计划项目(2002AA3Z1330)~~
文摘
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
关键词
193nm
光刻胶
主体树脂
光致产
酸
剂
酸
敏
基团
溶解抑制剂
碱性添加剂
Keywords
nm
photoresist
matrix resin
photo-acid generator
acid-labile group
dissolution inhibitor
base additives
分类号
O64 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
LiBF4催化醛转化成偕二醋酸酯
2
出处
《精细化工原料及中间体》
2004年第7期45-45,共1页
关键词
LiBF4
催化
醛
偕二醋
酸
酯
酸
敏
性保护
基团
分类号
TQ225.24 [化学工程—有机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ULSI用193nm光刻胶的研究进展
郑金红
黄志齐
文武
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
9
下载PDF
职称材料
2
LiBF4催化醛转化成偕二醋酸酯
《精细化工原料及中间体》
2004
0
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