TFT-LCD成盒工程中配向不良的改善 被引量：6

1

作者 王银春 李卓 李荣玉 《现代显示》 2009年第6期25-28,共4页

从生产角度研究了TFT-LCD成盒工程中配向不良发生的原因,通过对TFT基板、PI液的调查,通过对彩膜基板色层断差、角断差等的量测明确了角断差对此不良的影响,分别在摩擦工程、本硬化工程对这项不良进行改善,结果表明本硬化工程工艺条件的... 从生产角度研究了TFT-LCD成盒工程中配向不良发生的原因,通过对TFT基板、PI液的调查,通过对彩膜基板色层断差、角断差等的量测明确了角断差对此不良的影响,分别在摩擦工程、本硬化工程对这项不良进行改善,结果表明本硬化工程工艺条件的改进对改善该不良有明显效果,并通过一组实验得到最优化本硬化条件,最终改善了该不良。 展开更多

关键词 薄膜晶体管液晶显示 角断差 配向

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Moldflow MPI模块的模型建构要求及单元修正方法 被引量：2

2

作者 陈爱霞 吴俊超 《现代制造工程》 CSCD 2008年第5期56-58,共3页

运用CAE技术进行注塑成型模拟时,为了获得准确的分析结果,对模型单元有一定的要求,比如纵横比的要求,连接性的要求,方向性的要求等等。如果没有达到要求,就必须对模型进行修正。

关键词 MOLDFLOW 纵横比 自由边 多重边 配向 匹配率

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摩擦配向方式所致灰度不均不良改善方案研究

3

作者 薛红伟 刘俊豪 +2 位作者 陈霖东 孔益 汪剑成 《电子世界》 2015年第19期122-124,共3页

本文研究了TFT-LCD行业摩擦配向方式所致灰度不均不良改善的方案。本方案从产品设计角度考虑,提供了一种显示面板及其制作方法,通过设置段差一致的复位区,从而解决由于摩擦辊摩擦面的平坦度低,导致制备的取向程度不均一而造成的灰度不良... 本文研究了TFT-LCD行业摩擦配向方式所致灰度不均不良改善的方案。本方案从产品设计角度考虑,提供了一种显示面板及其制作方法,通过设置段差一致的复位区,从而解决由于摩擦辊摩擦面的平坦度低,导致制备的取向程度不均一而造成的灰度不良,并从方案的机理方面进行了说明,通过实际生产验证了方案的有效性。 展开更多

关键词 阵列 摩擦 配向 段差

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TFT-LCD残影不良的研究与改善 被引量：8

4

作者 范恒亮 汤展峰 +3 位作者 刘利萍 李静 黄静 刘岩龙 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期270-275,共6页

影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大。本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析。发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效... 影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大。本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析。发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影,实验得出配向膜膜厚高于110nm,摩擦强度高于5.5N·m时无残影发生。通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5h,摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10h,并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场,从而降低残影。通过以上措施,对于15.6HD产品,良率提升了10%,为企业高效生产奠定基础。 展开更多

关键词 残影 扭曲向列型 配向弱区 内部电场

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光配向PI固烤时间与曝光能量对LCD光学及残影的影响 被引量：6

5

作者 周学芹 杨丽 +1 位作者 刘政明 林熙乾 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2017年第8期596-600,共5页

采用光配向技术使PI获得配向能力并制得IPS型LCD,通过AOI光学自动检测设备以及DMS光学测量系统对在不同PI固烤时间和UV曝光能量下获得样品的预倾角、对比度及穿透率进行了量测,并研究了各条件下样品的残影(Image Sticking)性能。结果显... 采用光配向技术使PI获得配向能力并制得IPS型LCD,通过AOI光学自动检测设备以及DMS光学测量系统对在不同PI固烤时间和UV曝光能量下获得样品的预倾角、对比度及穿透率进行了量测,并研究了各条件下样品的残影(Image Sticking)性能。结果显示:在900~2 700s,400~600mJ/cm^2范围内,固烤时间和曝光能量对LCD光学性能影响较小,但对残影性能影响较大,IS随曝光量增大有恶化的趋势,且该趋势在高亚胺化程度下趋于平缓;调整固烤时间及曝光能量可以获得较佳的残影性能,固烤时间1 800s,曝光能量400~500mJ/cm^2条件的LCD残影性能较佳。 展开更多

关键词 光配向 固烤时间 UV曝光能量 光学性能 残影

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基于光配向的主链型液晶聚合物预倾角的控制

6

作者 李川 胡超 +4 位作者 房启鹏 刘敏轩 焦玢璋 沈俊 尹韶云 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期420-426,共7页

液晶的方位角和预倾角的调制广泛应用于各类液晶光子器件的研究。液晶预倾角调控常使用的小分子液晶容易受外场干扰导致液晶预倾角的改变,影响液晶器件稳定性和可靠性。液晶聚合物具有相变温度高、耐热、耐强光、耐机械振动、更加稳定... 液晶的方位角和预倾角的调制广泛应用于各类液晶光子器件的研究。液晶预倾角调控常使用的小分子液晶容易受外场干扰导致液晶预倾角的改变,影响液晶器件稳定性和可靠性。液晶聚合物具有相变温度高、耐热、耐强光、耐机械振动、更加稳定不易受外场干扰等优点,因此液晶聚合物预倾角的可控制备有着重要研究意义。由于液晶单体受液晶与空气界面的锚定能的影响,RM257液晶聚合物的预倾角与液晶层的厚度有关,难以实现预倾角的稳定可控。本研究利用两步法曝光偶氮染料亮黄(BY)薄膜诱导液晶单体RM257倾斜,采用多层旋凃及液晶单体RM257光聚合的方式降低液晶与空气界面锚定能对预倾角的影响,实现RM257主链型液晶聚合物预倾角可控制备。结果表明,采用这一方法制备的液晶聚合物薄膜预倾角可在0°~16°之间连续可调,并具有光热稳定的优点,具备实现液晶光子器件所需的图案化能力。本研究有望为液晶光子与显示器件的制备提供新的材料设计思路。 展开更多

关键词 主链型液晶聚合物 光配向 偶氮材料 预倾角 光热稳定性

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PS-VA模式预倾角的影响因素研究

7

作者 梁瑞祥 徐凯 +5 位作者 温刚 崔青 员国良 李元元 王岩 段楠 《河北省科学院学报》 CAS 2024年第3期55-58,63,共5页

TFT-LCD有多种显示模式,其中PS-VA模式以其高透过率、高对比度而被广泛应用。与传统的VA显示模式相比,PS-VA模式不需要通过PI来控制预倾角大小。PS-VA模式是在液晶中添加一定量的可聚合性化合物(RM),通过改变制程条件实现不同的预倾角... TFT-LCD有多种显示模式,其中PS-VA模式以其高透过率、高对比度而被广泛应用。与传统的VA显示模式相比,PS-VA模式不需要通过PI来控制预倾角大小。PS-VA模式是在液晶中添加一定量的可聚合性化合物(RM),通过改变制程条件实现不同的预倾角大小。本文主要研究了RM浓度、UV1加电电压、UV1固化光计量三个条件对预倾角大小的影响。结果表明,预倾角大小和RM浓度、UV1加电电压、UV1固化光计量均有很强的正相关性。在现实生产的过程中,可以根据不同产品的需求来调整相应的影响因素,以达到最佳的预倾角设计。 展开更多

关键词 可聚合垂直配向 预倾角 可聚合性化合物

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TFT-LCD的新型VA八畴驱动技术 被引量：5

8

作者 王志军 朱修剑 李荣玉 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期372-376,共5页

提出了一种应用于TFT-LCD的新型8畴驱动技术,可以简化现有的驱动电路,节省成本。通过在A、B像素的TFT栅极上施加具有不同削角电压的栅极信号,利用TFT像素的Feed through效应,可以在A、B像素上得到不同的显示电压,实现8畴显示。本技术只... 提出了一种应用于TFT-LCD的新型8畴驱动技术,可以简化现有的驱动电路,节省成本。通过在A、B像素的TFT栅极上施加具有不同削角电压的栅极信号,利用TFT像素的Feed through效应,可以在A、B像素上得到不同的显示电压,实现8畴显示。本技术只需要1组伽玛电压就可以实现8畴显示,而传统的TT-Type则需要2组。模拟结果表明:采用文章中提出的技术可以得到8畴的显示效果。由于栅极线GnA、GnB同时打开,相比两根栅极线分时打开的传统TT-Type结构,液晶电容有更多的充电时间。这样,不需要增加TFT的W/L就可以得到很好的充电效果。同时,由于不同灰阶电压下A、B像素的电压差取决于电容的耦合效应以及削角电压V1和V2的值,因此相对于CC-type而言,由于增加了V1和V2两个变量,所以调试更加灵活。 展开更多

关键词 垂直配向 8畴 削角电压 FEED THROUGH

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基于双层液晶功能膜的多维防伪技术 被引量：1

9

作者 王芳 袁丛龙 +3 位作者 王翼飞 沈冬 王骁乾 郑致刚 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2023年第8期1022-1030,共9页

防伪与伪造之间的矛盾日益加深,研发保密性强、安全性高、不可复制的防伪技术已成为社会与经济发展的迫切需求。在此背景下,液晶防伪技术因其性能优异、实用性高、广受市场好评而成为备受关注的领域。然而,现有的防伪技术层次结构不够丰... 防伪与伪造之间的矛盾日益加深,研发保密性强、安全性高、不可复制的防伪技术已成为社会与经济发展的迫切需求。在此背景下,液晶防伪技术因其性能优异、实用性高、广受市场好评而成为备受关注的领域。然而,现有的防伪技术层次结构不够丰富,隐藏图文颜色单一,因此,本研究提出了一种双信息防伪层的器件结构,由宾主液晶防伪膜层和胆甾相液晶防伪膜层组成,每层包含不同的信息内容。通过不同的光照模式,可以获得不同的显示内容,从而达到了多维防伪的效果。相较于传统单层宾主液晶防伪膜层,该设计具有与偏振相关的透反射差异和在透射方向上不对称的光响应特点。使用这种易制备的防伪膜层叠加设计不仅提高了防伪码的安全水平,还降低了应用成本。 展开更多

关键词 宾主液晶 二色性染料 胆甾相液晶 防伪 光配向

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光配向技术在液晶电视面板中的应用 被引量：5

10

作者 周刘飞 王杰 王鸣昕 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期87-92,共6页

采用UV^2A技术的像素较之MVA,其穿透率可以提升20%,这意味着UV^2A技术可以大幅度降低系统功耗及背光成本。采用光配向技术,开发了165cm(65in)UHD液晶面板,其具备出色的显示性能,比如全视角,更快的响应时间,超高的对比度等等。采用Cs-Sw... 采用UV^2A技术的像素较之MVA,其穿透率可以提升20%,这意味着UV^2A技术可以大幅度降低系统功耗及背光成本。采用光配向技术,开发了165cm(65in)UHD液晶面板,其具备出色的显示性能,比如全视角,更快的响应时间,超高的对比度等等。采用Cs-Swing八畴技术,进一步降低了色偏现象。采用网状结构的Cs线设计,降低了其电阻电容信号延迟。开发了一种新型的hG-2D像素结构及其驱动电路,解决了65in UHD面板在120 Hz驱动下充电时间严重不足的难题。 展开更多

关键词 光配向 八畴 超高清解析度 像素 充电时间

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TFT-LCD残像原理与分析-加强篇二 被引量：5

11

作者 焦峰 王海宏 《现代显示》 2012年第6期17-22,共6页

残像是TFT-LCD的一种显示特性,主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面,在把画面切换到下一个画面时,原先的画面会残留在下一个画面中。本文的加强篇二从材料面的彩膜、液晶、配向膜及工艺面的配向膜工程、ODF工程导致的残像具体... 残像是TFT-LCD的一种显示特性,主要表现为当液晶显示器长时间显示同一个画面,在把画面切换到下一个画面时,原先的画面会残留在下一个画面中。本文的加强篇二从材料面的彩膜、液晶、配向膜及工艺面的配向膜工程、ODF工程导致的残像具体分析了其原因和改善方法。 展开更多

关键词 液晶显示器 残像 配向膜

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窄边框产品周边配向膜Mura分析及改善研究 被引量：4

12

作者 王海成 申载官 +3 位作者 刘萌 史秋飞 封宾 文斌 《电子世界》 2018年第10期5-7,共3页

在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)行业中,高世代线往往采用喷墨打印(Inkjet)技术进行配向膜涂覆。为了实现产品的窄边框化,显示区周边空间被进一步压缩,但这对喷墨型配向膜扩散会产生不利影响,配向膜边缘的均一性无法得到有效保障。本... 在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)行业中,高世代线往往采用喷墨打印(Inkjet)技术进行配向膜涂覆。为了实现产品的窄边框化,显示区周边空间被进一步压缩,但这对喷墨型配向膜扩散会产生不利影响,配向膜边缘的均一性无法得到有效保障。本文针对窄边框产品周边配向膜Mura产生原因进行分析,发现显示区边缘用于导通公共电级的过孔处有明显配向膜堆积现象,此处的堆积对周边显示区PI膜扩散形成阻碍,导致显示区配向膜偏厚,影响了周边液晶分子排布状态,从而产生不良。通过对该处过孔密度及大小进行调整并结合配向膜预固化工艺的优化,周边配向膜Mura得到了明显改善,极大的提高了产品品质,为今后新产品开发奠定了理论基础。 展开更多

关键词 TFT-LCD 喷墨打印 配向膜 过孔

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高分辨率UV^2A面板光学特性改善研究 被引量：4

13

作者 李淑君 李卓 +1 位作者 黄秋蓉 林佳玲 《光电子技术》 CAS 2017年第1期52-56,共5页

通过一系列实验研究了高分辨率TFT液晶显示器的对比度和透过率特性。改善了UV^2A光配向技术在提高分辨率的同时像素透过率和对比度下降的情况。提高了面板光学性能的同时也降低了生产成本。

关键词 光配向 多畴 超高透过率 超高对比度

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负性液晶在FFS模式下的残像研究 被引量：4

14

作者 童芬 郭小军 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期393-398,共6页

图像残像是评价画面质量的最重要因素之一,大部分工程师研究了组合物的材料和液晶面板的制造工艺,以改善影像残留,但之前的研究主要是以正性液晶材料为基础进行探讨的,本文主要以负性液晶材料为基础研究了用边缘场驱动的面板残像。首先... 图像残像是评价画面质量的最重要因素之一,大部分工程师研究了组合物的材料和液晶面板的制造工艺,以改善影像残留,但之前的研究主要是以正性液晶材料为基础进行探讨的,本文主要以负性液晶材料为基础研究了用边缘场驱动的面板残像。首先为了比较正性液晶与负性液晶,测量了离子密度及电压保持率(VHR),其次为了比较两种配向材料(PI)与液晶材料的搭配特性并选择合适的组合,量测了样品的直流残留(RDC)电压和Vcom电压随时间的变化。从量测结果可知,紫外(UV)光照前负性液晶离子密度是正性液晶的39倍,经过紫外光照,后负性液晶的离子密度为560Pc/cm,且其紫外光照后电压保持率变化量为2.7%;使用负性液晶搭配PI1的样品A-1的直流残留电压和Vcom(等效为交流驱动电压的中心值)随时间变化量都是最大的,分别为0.5V和250mV,负性液晶搭配PI2材料的面板和正性液晶的面板的直流残留电压均小于0.2V,其Vcom随时间变化量均在50mV以内。负性液晶材料的离子浓度含量高,且其稳定性比正性液晶材料差,负性液晶材料比正性液晶材料更容易发生残像;对于使用负性液晶材料,边缘场驱动模式的面板,搭配PI2配向膜材料能够保持低的直流残留电压及低的Vcom电压变化量,从而对改善残像现象有帮助。 展开更多

关键词 边缘场切换广视角技术 负性液晶 残像 配向膜

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阵列基板设计对配向膜印刷的影响 被引量：4

15

作者 赵成明 王丹 +3 位作者 马国靖 罗会月 申载官 宋勇志 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期138-141,共4页

目前,TFT-LCD行业已经趋于成熟。各大面板厂都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等。配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用,其印刷的质量对产品良率起很大影响。喷墨打印作为大世代... 目前,TFT-LCD行业已经趋于成熟。各大面板厂都在提升自身产品的竞争力:高分辨率、高色域、轻质化、窄边框化以及高对比度等等。配向膜作为LCD面板的主要构成起着重要的取向作用,其印刷的质量对产品良率起很大影响。喷墨打印作为大世代线配向膜印刷方法被越来越广泛的应用,但是其带来的印刷性不良也多种多样。本文重点介绍了阵列基板的设计对配向膜的影响。通过实验验证得出,阵列基板深孔设计对配向膜扩散起到了阻碍扩散的不良影响。从此结论出发,从配向膜印刷工艺和设计提出改善方案并取得了改善效果。 展开更多

关键词 聚酰亚胺 配向膜 喷墨打印 深孔

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配向膜材料与面残影的关联性研究 被引量：4

16

作者 刘晓那 宋勇志 +6 位作者 徐长健 周波 马国靖 陈松飞 袁剑峰 林承武 邵喜斌 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期317-321,共5页

利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究。一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,... 利用mini-cell作为评价平台,从配向膜材料自身特性角度,对配向膜材料与面残影之间的关联性进行了综合研究。一方面,配向膜材料自身优异的稳定性有助于维持电压保持率(VHR);另一方面,配向膜材料自身的低电阻率特性有助于存储电荷的释放,利于实现较低的残余电流(RDC)。而当配向膜材料的RDC和高低温间VHR变化值同时处于较低水平时,可以获得面残影水平较低的TFT-LCD模块。因此,利用mini-cell对配向膜材料进行评估,通过比较RDC以及ΔVHR数值,可以间接实现对TFT-LCD的残影结果评估,为实际生产中产品残影的改善提供了基础理论指导,具有重要的指导性作用。 展开更多

关键词 配向膜 电压保持率 残余电流 残影

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TN型产品Zara Domain理论研究与分析改善 被引量：4

17

作者 高荣荣 陈杰 +4 位作者 刘俊豪 郭红光 张周生 左爱翠 桑胜光 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期242-248,共7页

Zara Domain是高PPI TN型TFT-LCD制成中较为常见的一种不良,为了提高产品品质,急需改善Zara Domain。以3.97in TN产品(PPI 235)为例,Zara Domain发生率30%,对产品良率影响较大,文章结合生产情况对Zara Domain发生的原因进行理论分析和... Zara Domain是高PPI TN型TFT-LCD制成中较为常见的一种不良,为了提高产品品质,急需改善Zara Domain。以3.97in TN产品(PPI 235)为例,Zara Domain发生率30%,对产品良率影响较大,文章结合生产情况对Zara Domain发生的原因进行理论分析和实验验证,得出改善Zara Domain的方法。首先,产品设计上可以通过增加平坦膜改善彩膜侧平坦度。其次,材料上可以选择高预倾角的配向膜以及低Pitch的液晶分子。最后工艺上优化摩擦强度和对盒后冷却工艺。实验结果表明:通过设计,材料,工艺三方面改善,最终生产过程中Zara Domain发生率<1%,提高了产品品质。 展开更多

关键词 ZARA DOMAIN 配向膜&液晶材料 摩擦工艺 急速冷却

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非接触式配向工艺(光配向工艺)Zara Particle不良产生机理分析及改善方向研究 被引量：3

18

作者 张龙 陈霖东 +2 位作者 江桥 陈维诚 刘俊豪 《电子世界》 2017年第11期117-119,共3页

目前在TFT-LCD生产中最为广泛运用的配向技术是摩擦配向(Rubbing alignment)法。光配向工艺以非接触式配向正在逐渐取代现有的摩擦配向方式,其配向原理及材料与摩擦配向方式有着本质区别。光配向使用PI Ink需要在Coating固化以后再次进... 目前在TFT-LCD生产中最为广泛运用的配向技术是摩擦配向(Rubbing alignment)法。光配向工艺以非接触式配向正在逐渐取代现有的摩擦配向方式,其配向原理及材料与摩擦配向方式有着本质区别。光配向使用PI Ink需要在Coating固化以后再次进行断链和重组,并且需要将断开分子链进行去除。由于其分解特性及断开分子链的去除效果、固化后膜层与CF侧PS间摩擦挤压都与盒内产生Zara相关,随着行业内对产品品质需求的提高,客户对Zara不良的容忍度也在一度降低。通过对Oven条件(断链分子的去除)和Polish条件(PS对PI膜层摩擦挤压)进行测试,找出最佳断链去除条件以及摩擦挤压条件,为后续光配向量产寻找可靠条件,降低Zara发生率。 展开更多

关键词 非接触式配向 光配向 ZARA PARTICLE

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液晶自组装多层级结构及其应用 被引量：3

19

作者 郭清仪 吴赛博 +1 位作者 钱妍 胡伟 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2020年第5期484-500,共17页

液晶的分层组装与刺激响应特性使其在先进功能材料的开发与应用领域具有独特的优势.通过特定的技术手段诱导其自组装行为,可带来新奇的光学、机械、电磁等性能,进而实现一系列全新的技术应用.本文主要针对近晶相、胆甾相、蓝相这三种特... 液晶的分层组装与刺激响应特性使其在先进功能材料的开发与应用领域具有独特的优势.通过特定的技术手段诱导其自组装行为,可带来新奇的光学、机械、电磁等性能,进而实现一系列全新的技术应用.本文主要针对近晶相、胆甾相、蓝相这三种特殊的液晶相态,系统介绍了多形态焦锥畴结构,分层油纹,螺旋结构,双螺旋扭曲柱立方晶格等多层级结构,重点论述了材料组分优化,几何结构限制以及外场激励等条件下液晶多层级结构的大面积精细操控,回顾了其在粒子操控、表面改性、光子技术等领域的相关技术应用,并总结展望了液晶组装技术与应用的发展前景. 展开更多

关键词 液晶 光配向 软物质 粒子操控 光子元件

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周边配向膜Mura改善研究 被引量：3

20

作者 徐长健 陆顺沙 +6 位作者 马国靖 王丹 任锦宇 周波 宋勇志 陈维涛 冯莎 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2018年第10期831-835,共5页

在大世代线液晶面板厂,因产品切换便捷、产能高等优势,配向膜材料涂布多采用喷墨印刷方式。但随着高分辨率、无边框等技术升级,喷墨印刷方式面临的挑战也随之增加,产生了很多新的配向膜不良。本文研究了一种周边配向膜Mura,分析原因为... 在大世代线液晶面板厂,因产品切换便捷、产能高等优势,配向膜材料涂布多采用喷墨印刷方式。但随着高分辨率、无边框等技术升级,喷墨印刷方式面临的挑战也随之增加,产生了很多新的配向膜不良。本文研究了一种周边配向膜Mura,分析原因为阵列基板上的配向膜固化时,在基板周边过孔处出现堆积,造成周边显示区配向膜厚不均匀,导致显示区边缘形成暗线不良。文章从配向膜边界位置、预固化温度、预固化环境气压和配向膜膜厚4个方面进行分析实验,证明了外扩配向膜边界、降低预固化温度、降低预固化环境气压和降低配向膜膜厚,可以有效减轻配向膜在周边过孔处堆积,进而成功解决此不良,获得优异的显示品质。 展开更多

关键词 液晶屏 配向膜 喷墨印刷 周边过孔 固化

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