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用远距离等离子体激发无水氟化氢进行硅天然氧化物的选择性蚀刻
1
《等离子体应用技术快报》 1999年第7期7-8,共2页
关键词 AHF 氧化膜 硅 选择性蚀刻 等离子体蚀刻
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不同表面处理对氧化锆陶瓷表面形貌的影响 被引量：2
2
作者 李丽娟 蔡锦芬 +2 位作者 黎日照 李小龙 覃峰 《中华生物医学工程杂志》 CAS 2013年第1期23-27,共5页
目的探讨不同表面处理后氧化锆陶瓷表面形貌的变化。方法烧结48个6mm×6mm×2mm的氧化锆陶瓷方形试件，按随机数字表法分为空白对照组（n=12）、喷砂组（n=12）、e－max渗透剂组（n=12）、In—eeram渗透剂组（n=12）。空白对照... 目的探讨不同表面处理后氧化锆陶瓷表面形貌的变化。方法烧结48个6mm×6mm×2mm的氧化锆陶瓷方形试件，按随机数字表法分为空白对照组（n=12）、喷砂组（n=12）、e－max渗透剂组（n=12）、In—eeram渗透剂组（n=12）。空白对照组不做任何表面处理；喷砂组采用120txmA1203颗粒喷砂处理；e-max渗透剂组和In-ceram渗透剂组分别采用e—max上釉膏和In-ceram氧化铝渗透玻璃粉作为渗透剂进行选择性渗透蚀刻。测量表面处理后各组试件的表面粗糙度，扫描电镜下观察试件表面形貌，能谱分析仪检测试件表面元素含量变化。结果空白对照组、喷砂组、e-max渗透剂组和In-eeram渗透剂组的表面粗糙度Ra值分别为（0．0780±0．0160）μm、（0．1005±0．0031）μm、（0．4107±0．0370）μm、（0．2623±0．0143）μm。e-max渗透剂组和In-ceram渗透剂组的表面粗糙度大于空白对照组和喷砂组（均P〈0．01）；喷砂组与空白对照组的表面粗糙度的差异无统计学意义（P〉0．05）；e-max渗透剂组表面粗糙度大于In．eeram渗透剂组（P〈0．01），e—max渗透剂组表面粗糙度Ra值最大。扫描电镜和能谱分析显示表面处理后氧化锆陶瓷试件表面形貌发生改变，而表面元素含量无变化。结论选择性渗透蚀刻能使氧化锆陶瓷表面更粗糙，形成网状间隙结构，有利于树脂黏接剂的渗入。 展开更多
关键词 氧化锆陶瓷 选择性渗透蚀刻 表面处理 表面粗糙度
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