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连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜及其光致发光性能研究 被引量：1
1
作者 高相东 李效民 于伟东 《纳米科技》 2004年第2期-,共5页
将连续离子层吸附与反应法(SILAR)和液相非均相沉淀技术相结合,提出ZnO薄膜的连续非均相沉淀液相制备技术。以[Zn(NH_3)_4]^(2+)络离子为前驱体,以玻璃和Si(100)为衬底,从90℃水溶液中沉积得到ZnO薄膜。XRD分析表明,所得薄膜为六方纤锌... 将连续离子层吸附与反应法(SILAR)和液相非均相沉淀技术相结合,提出ZnO薄膜的连续非均相沉淀液相制备技术。以[Zn(NH_3)_4]^(2+)络离子为前驱体,以玻璃和Si(100)为衬底,从90℃水溶液中沉积得到ZnO薄膜。XRD分析表明,所得薄膜为六方纤锌矿型多晶结构,沿(002)晶面择优取向。AFM测试表明,薄膜表面致密、均匀,ZnO粒子尺度约为200nm～300nm。在340nm室温紫外光激发下,薄膜产生强的近紫外光发射(～390nm)和若干较弱的深能级发射(～450nm～500nm)。初步探讨了连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜的机理。 展开更多
关键词 氧化锌 薄膜 连续非均相沉淀法 紫外发光
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