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远紫外光刻的实验研究
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作者 王兴无 杨云歧 邵慧玉 《光电工程》 CAS 1986年第4期9-16,共8页
本文介绍了与远紫外光刻有关的光源、抗蚀剂、透射材料和光掩模,详细地阐述了远紫外光刻工艺及其特性。并给出远紫外光刻亚微米级图形的电镜扫描照片结果。
关键词 远紫外光刻 亚微米级 抗蚀剂 掩模板 掩模 接近式光刻 接触光刻 远紫外波段 实验研究
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