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题名光栅单色仪远波段杂散光的抑制
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作者
顾华俭
宋从龙
王培钢
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机构
苏州大学激光研究室
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出处
《苏州大学学报（自然科学版）》
CAS
1989年第2期195-199,共5页
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文摘
本文讨论了引起光栅单色仪杂散光的原因,重点分析了以Ⅳ型凹面光栅单色仪为例的远波段杂散光产生的因素,并提出抑制杂散光的措施。最后分析比较了改进前后的单色仪杂散光的测试结果及给出了改进后的单色仪在弱光谱实验中的应用效果。
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关键词
单色仪
杂散光
远波段
光栅
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Keywords
monochromators, stray light,far wave-range
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分类号
TH744.3
[机械工程—光学工程]
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题名远C波段紫外线消毒的原理及应用前景
被引量：8
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作者
李梦凯
王佳乐
孙喆
李文涛
孙文俊
强志民
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机构
中国科学院生态环境研究中心
中国科学院大学资源与环境学院
清华大学环境学院
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出处
《环境工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2022年第11期3530-3537,共8页
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基金
国家自然科学基金重大项目(52091545)
环境模拟与污染控制国家重点实验室课题(20Z01ESPCR,21L02ESPC)。
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文摘
紫外线(UV)是一种高效、绿色的消毒技术,广泛应用于气、水和物体表面的病原微生物灭活。远C波段UV (远UV-C,200~230 nm)消毒所需剂量辐照对人体的伤害尚未被发现,表明远UV-C具备人机共存原位消毒的潜力,因此该技术近期受到关注。概述了远UV-C光源、灭活机制和辐照安全性方面的研究进展:输出主峰位和半峰宽分别为222 nm和4 nm的KrCl准分子灯是最为成熟的消毒用远UV-C光源;远UV-C通过蛋白质损伤和核酸干扰2种途径实现病原微生物灭活,灭活能力较传统UV-C (如254 nm)更强;尚未发现消毒所需剂量的远UV-C辐照导致的健康危害,如红斑和角膜炎。而在实际应用中,应谨慎对待高剂量远UV-C辐照暴露,确保在现有实验证据基础上,逐步提高远UV-C安全使用的剂量阈值,并考虑与通风系统或臭氧淬灭系统协同使用以避免伴生臭氧造成的二次伤害。本文旨在为远UV-C在高效灭活病原微生物、阻断高传染性疾病传播领域的应用提供参考。
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关键词
远C波段紫外线
KrCl准分子灯
消毒
安全性
人机共存
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Keywords
far UV-C
krypton-chloride excimer lamps
disinfection
secutiry
human-machine coexistence
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分类号
X703
[环境科学与工程—环境工程]
R123.6
[医药卫生—环境卫生学]
R1874
[医药卫生—公共卫生与预防医学]
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题名远紫外光刻的实验研究
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作者
王兴无
杨云歧
邵慧玉
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出处
《光电工程》
CAS
1986年第4期9-16,共8页
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文摘
本文介绍了与远紫外光刻有关的光源、抗蚀剂、透射材料和光掩模,详细地阐述了远紫外光刻工艺及其特性。并给出远紫外光刻亚微米级图形的电镜扫描照片结果。
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关键词
远紫外光刻
亚微米级
抗蚀剂
掩模板
掩模
接近式光刻
接触光刻
远紫外波段
实验研究
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分类号
TN3
[电子电信—物理电子学]
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