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软X射线投影光刻原理装置的设计
被引量:
14
1
作者
金春水
王占山
曹健林
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第1期66-70,共5页
首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻...
首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成。 0 .1倍的 Schwarzchild微缩投影物镜具有小于 0 .
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关键词
软
x射线
投影
光刻
多层膜反射镜
下载PDF
职称材料
软X射线投影光刻技术
2
作者
王占山
曹健林
《科技导报》
CAS
CSCD
1997年第9期9-11,共3页
关键词
大规模集成电路芯片
软
x射线
投影
光刻技术
缩小倍率
分辨率
下载PDF
职称材料
题名
软X射线投影光刻原理装置的设计
被引量:
14
1
作者
金春水
王占山
曹健林
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第1期66-70,共5页
基金
国家自然科学基金!批准号 :6962 5710
文摘
首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成。 0 .1倍的 Schwarzchild微缩投影物镜具有小于 0 .
关键词
软
x射线
投影
光刻
多层膜反射镜
Keywords
soft X ray projection lithography
multilayer reflector
laser plasma source
elementary arrangement for soft X ray projection lithography
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
软X射线投影光刻技术
2
作者
王占山
曹健林
机构
中科院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
出处
《科技导报》
CAS
CSCD
1997年第9期9-11,共3页
关键词
大规模集成电路芯片
软
x射线
投影
光刻技术
缩小倍率
分辨率
分类号
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
软X射线投影光刻原理装置的设计
金春水
王占山
曹健林
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
2000
14
下载PDF
职称材料
2
软X射线投影光刻技术
王占山
曹健林
《科技导报》
CAS
CSCD
1997
0
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职称材料
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