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软X射线投影光刻原理装置的设计 被引量:14
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作者 金春水 王占山 曹健林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2000年第1期66-70,共5页
首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻... 首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软 X射线投影光刻技术的特性 ,其次介绍了软 X射线投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的 Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成。 0 .1倍的 Schwarzchild微缩投影物镜具有小于 0 . 展开更多
关键词 x射线投影 光刻 多层膜反射镜
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软X射线投影光刻技术
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作者 王占山 曹健林 《科技导报》 CAS CSCD 1997年第9期9-11,共3页
关键词 大规模集成电路芯片 x射线投影光刻技术 缩小倍率 分辨率
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