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混合基钡钨阴极优良性能的研究
被引量:
4
1
作者
张红卫
吴华夏
贺兆昌
《电子器件》
EI
CAS
2006年第1期121-123,137,共4页
混合基钡钨阴极在1050℃时,电流密度约为8A/cm2以上,是普通钡钨阴极(B型或S型)的3至4倍,而且其寿命比普通钡钨阴极(B型或S型)高一个量级。文中用理查逊公式的推导和计算机模拟法(Muller法)解释了混合基钡钨阴极的优良性能。尤其是建立...
混合基钡钨阴极在1050℃时,电流密度约为8A/cm2以上,是普通钡钨阴极(B型或S型)的3至4倍,而且其寿命比普通钡钨阴极(B型或S型)高一个量级。文中用理查逊公式的推导和计算机模拟法(Muller法)解释了混合基钡钨阴极的优良性能。尤其是建立在去极化模型和集簇法基础上的计算机模拟法(Muller法)更是从微观上解释了混合基钡钨阴极的大发射性能,特别是Os-W(hcp)合金基底。
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关键词
混合基钡钨阴极
发射电流密度
理查逊公式
计算机模拟
法
(
muller
法
)
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职称材料
题名
混合基钡钨阴极优良性能的研究
被引量:
4
1
作者
张红卫
吴华夏
贺兆昌
机构
合肥工业大学
安徽华东光电技术研究院
出处
《电子器件》
EI
CAS
2006年第1期121-123,137,共4页
文摘
混合基钡钨阴极在1050℃时,电流密度约为8A/cm2以上,是普通钡钨阴极(B型或S型)的3至4倍,而且其寿命比普通钡钨阴极(B型或S型)高一个量级。文中用理查逊公式的推导和计算机模拟法(Muller法)解释了混合基钡钨阴极的优良性能。尤其是建立在去极化模型和集簇法基础上的计算机模拟法(Muller法)更是从微观上解释了混合基钡钨阴极的大发射性能,特别是Os-W(hcp)合金基底。
关键词
混合基钡钨阴极
发射电流密度
理查逊公式
计算机模拟
法
(
muller
法
)
Keywords
Mixed Barium-Tungsten Cathode
Current Density
Richard Formula
Computer Simulation
分类号
O462 [理学—电子物理学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
混合基钡钨阴极优良性能的研究
张红卫
吴华夏
贺兆昌
《电子器件》
EI
CAS
2006
4
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