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用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术 被引量:1
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作者 冯伯儒 张锦 +3 位作者 宗德蓉 刘娟 陈宝钦 刘明 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期1-4,39,共5页
用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合相移掩模技术。对这些掩模的基本原理、制作方法及性能比较进行了分析研究。研究表明,无铬相位光刻(CPL)PS... 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合相移掩模技术。对这些掩模的基本原理、制作方法及性能比较进行了分析研究。研究表明,无铬相位光刻(CPL)PSM和高透AttPSM 相结合构成的混合掩模最适合用于193nmArF光刻,以产生100nm节点抗蚀剂图形。 展开更多
关键词 激光光刻技术 相移掩模 准分子光刻 无铬相移掩模 交替相移掩模 衰减相移掩模 混合相移掩模
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衰减相移掩模光刻技术研究 被引量:2
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作者 冯伯儒 张锦 +2 位作者 侯德胜 周崇喜 陈芬 《光电工程》 CAS CSCD 1999年第5期4-8,12,共6页
论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究,给出了光刻曝光实验部分结果。
关键词 光刻相移掩模 衰减相移掩模
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衰减相移掩模及其编码制作方法研究 被引量:1
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作者 周崇喜 冯伯儒 +1 位作者 侯德胜 张锦 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第8期1110-1113,共4页
在霍普金斯( Hopkins)理论的基础上, 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明, 衰减相移掩模有提高光刻分辨率的显著功能。提出一种制作衰减相移掩模的编... 在霍普金斯( Hopkins)理论的基础上, 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明, 衰减相移掩模有提高光刻分辨率的显著功能。提出一种制作衰减相移掩模的编码方法, 理论计算表明, 该编码方法能够达到预定的衰减参数。 展开更多
关键词 衰减相移掩模 光学邻近效应 校正 编码 光刻
原文传递
一种简单的衰减相移掩模
4
作者 张锦 冯伯儒 +6 位作者 侯德胜 周崇喜 姚汉民 郭永康 陈芬 孙方 苏平 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期64-64,66,共2页
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。
关键词 光刻 衰减相移掩模 相移 单层材料
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用光致抗蚀剂膜层制作衰减相移掩模
5
作者 侯德胜 冯伯儒 +1 位作者 孙方 张锦 《微细加工技术》 2001年第2期6-8,34,共4页
提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法 ,介绍这种方法的原理和制作工艺 ,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用于准分子激光光刻实验 ,得到显著提高光刻分辨力的实验结果。
关键词 光致抗蚀剂 衰减相移掩模 分辨力 光刻
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微细加工技术与设备
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《中国光学》 EI CAS 2000年第3期100-100,共1页
TN30.5.7 2000032167准分子激光刻蚀技术在微机械中的应用研究=Applicationof the excimer laser etching technologyin micromachine[刊,中]/梁静秋,姚劲松(中科院长春光机所.吉林,长春(130022))//光学精密工程.—1999,7(5).—63-66准... TN30.5.7 2000032167准分子激光刻蚀技术在微机械中的应用研究=Applicationof the excimer laser etching technologyin micromachine[刊,中]/梁静秋,姚劲松(中科院长春光机所.吉林,长春(130022))//光学精密工程.—1999,7(5).—63-66准分子激光刻蚀技术在微机械领域有着十分广泛的应用前景,用该技术制作的聚合物结构深宽比大、精度高,并且工艺简单。分析了准分子激光刻蚀原理,探索了这种技术的工艺方法和技术条件,特别对掩模的结构和制作工艺进行了较为深入的研究。采用简易的实验装置,用自行研制的三种结构掩模进行了准分子激光刻蚀实验,得到了50 μm深的聚合物材料微机械构件。 展开更多
关键词 准分子激光刻蚀 微机械构件 精密工程 刻蚀技术 衰减相移掩模 中科院 自行研制 应用研究 聚合物结构 精度高
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微细加工技术与设备
7
《中国光学》 EI CAS 2001年第1期96-96,共1页
TN305.7 2001010649用灰阶编码掩模实现邻近效应精细校正的研究=Finecorrection of optical proximity effect by usinggray-tone coding mask[刊,中]/杜惊雷,粟敬钦,张怡霄,郭永康(四川大学物理系.四川,成都(610064)),罗克俭,崔铮(内... TN305.7 2001010649用灰阶编码掩模实现邻近效应精细校正的研究=Finecorrection of optical proximity effect by usinggray-tone coding mask[刊,中]/杜惊雷,粟敬钦,张怡霄,郭永康(四川大学物理系.四川,成都(610064)),罗克俭,崔铮(内江教育学院.内江(6141002))∥光学学报.-2000,20(4).-518-524提出了用灰阶编码的二元掩模代替灰阶掩模实现邻近效应精细校正的新方法,并阐述了新方法的特点。讨论了灰阶编码与灰阶掩模的等效关系,给出了灰阶编码掩模实现光学邻近效应校正的模拟结果。 展开更多
关键词 光学邻近效应校正 灰阶编码掩模 灰阶掩模 大学物理 校正机理 新方法 衰减相移掩模 四川 二元掩模 教育学院
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