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PVD Si涂层用于SiC陶瓷的表面改性研究 被引量:6
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作者 唐惠东 谭寿洪 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第16期68-70,共3页
为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVDSi涂层。采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率。结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表... 为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVDSi涂层。采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率。结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVDSi涂层后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度的均方根RMS可达埃级,反射率提升幅度明显。并简单分析了反射率提高的主要原因。 展开更多
关键词 PVDSi涂层 RBSiC SSiC 表面粗糙度方根rms 反射率
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