TB43 2004064364 离子束溅射沉积Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>光学薄膜的实验研究=Experimental study of ion beam sputtering deposition of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> optical t...TB43 2004064364 离子束溅射沉积Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>光学薄膜的实验研究=Experimental study of ion beam sputtering deposition of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> optical thin film[刊,中]/刘洪祥（中科院光电技术研究所.四川,成都（610209））,熊胜明…∥光电工程.—2004,31（3）.—41-43,55 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>展开更多
文摘TB43 2004064364 离子束溅射沉积Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>光学薄膜的实验研究=Experimental study of ion beam sputtering deposition of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> optical thin film[刊,中]/刘洪祥（中科院光电技术研究所.四川,成都（610209））,熊胜明…∥光电工程.—2004,31（3）.—41-43,55 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>
