期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到5篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
自支撑透射光栅的设计、制作和测试 被引量：4
1
作者 马杰 谢常青 +1 位作者 叶甜春 刘明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期2564-2570,共7页
采用标量衍射理论和严格耦合波理论分别计算和讨论了金自支撑透射光栅的衍射效率随波长和光栅周期变化的情况并设计了光栅的结构参数.制作了周期为300nm、线宽/周期比为0.55、厚度为200nm、总面积为1mm×1mm、有效面积比为65%的金... 采用标量衍射理论和严格耦合波理论分别计算和讨论了金自支撑透射光栅的衍射效率随波长和光栅周期变化的情况并设计了光栅的结构参数.制作了周期为300nm、线宽/周期比为0.55、厚度为200nm、总面积为1mm×1mm、有效面积比为65%的金自支撑透射光栅.在国家同步辐射实验室检测了该光栅在5.5—38nm波长范围内的绝对衍射效率.检测结果表明所制作的光栅在8nm附近具有接近10%的最大衍射效率,并且该光栅对于波长15—35nm范围内的极紫外波段具有基本稳定的衍射效率. 展开更多
关键词 自支撑透射光栅 电子束光刻 电镀
原文传递
1000线/毫米软X射线自支撑闪耀透射光栅的设计与制作 被引量：2
2
作者 陈勇 邱克强 +3 位作者 徐向东 刘正坤 刘颖 付绍军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期148-154,共7页
基于标量衍射理论讨论了软X射线自支撑闪耀透射光栅的特性并设计了光栅的结构参数.采用全息光刻和湿法腐蚀技术,成功制作了周期1μm、占空比0.1—0.2、高宽比约100、栅线厚度10μm、有效面积比为65%的自支撑闪耀透射光栅.单元尺寸为15mm... 基于标量衍射理论讨论了软X射线自支撑闪耀透射光栅的特性并设计了光栅的结构参数.采用全息光刻和湿法腐蚀技术,成功制作了周期1μm、占空比0.1—0.2、高宽比约100、栅线厚度10μm、有效面积比为65%的自支撑闪耀透射光栅.单元尺寸为15mm×15mm的硅绝缘体上含有四个5 mm×5 mm的自支撑闪耀透射光栅窗口.在国家同步辐射实验室检测了该光栅在5—50 nm波长范围内的衍射效率.波长扫描测量结果表明,闪耀效应明显地发生在类似镜面的光栅侧壁镜面反射方向上,闪耀级次位置及其特征与标量理论预测的一致.衍射效率的实测结果基本与理论模拟符合,只是因光栅结构上的缺陷致使衍射效率偏低,峰值只有理论值的38%—49%.实验结果证明了闪耀透射光栅的概念和湿法制作工艺的可行性. 展开更多
关键词 自支撑透射光栅 闪耀效应 全息光刻 各向异性腐蚀
原文传递
高线密度X射线双光栅的研制 被引量：2
3
作者 何宽 易涛 +3 位作者 刘慎业 牛洁斌 陈宝钦 朱效立 《微纳电子技术》 北大核心 2014年第6期381-385,共5页
研究了采用高分辨率的100 kV电子束光刻和光学光刻系统相结合制作高线密度X射线双光栅的工艺技术,并且分析了电子束邻近效应校正技术在高线密度光栅制备中的应用。首先,利用电子束曝光和纳米电镀技术在同一衬底上制备两种不同线密度光... 研究了采用高分辨率的100 kV电子束光刻和光学光刻系统相结合制作高线密度X射线双光栅的工艺技术,并且分析了电子束邻近效应校正技术在高线密度光栅制备中的应用。首先,利用电子束曝光和纳米电镀技术在同一衬底上制备两种不同线密度光栅图形;然后,利用光学光刻在2 000 lp/mm光栅上制备了自支撑加强筋结构。通过此技术制备的X射线双光栅成功集成了高线密度5 000 lp/mm透射光栅和2 000 lp/mm自支撑透射光栅,其栅线宽度分别为100和250 nm,金吸收体厚度达到400 nm。 展开更多
关键词 X射线双光栅 自支撑透射光栅 电子束光刻 纳米电镀 电子束邻近效应校正(EPC)
下载PDF
多能点X射线透射光栅的制作技术 被引量：1
4
作者 陈国太 谢常青 +5 位作者 胡昕 潘一鸣 朱效立 刘明 吴秀龙 陈军宁 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第1期45-49,共5页
针对X射线自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪中的应用,采用电子束和光学匹配曝光、微电镀和高密度等离子体刻蚀技术,成功制备了周期为500nm、金吸收体厚度为350nm、占空比接近1∶1,满足三个能点成像需求的2000lp/mm X射线自支撑... 针对X射线自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪中的应用,采用电子束和光学匹配曝光、微电镀和高密度等离子体刻蚀技术,成功制备了周期为500nm、金吸收体厚度为350nm、占空比接近1∶1,满足三个能点成像需求的2000lp/mm X射线自支撑透射光栅。首先利用电子束光刻和微电镀技术制备金光栅图形,然后采用紫外光刻和微电镀技术制作自支撑结构,最后通过腐蚀体硅和感应耦合等离子体刻蚀聚酰亚胺完成X射线自支撑透射光栅的制作。在电子束光刻中,采用几何校正和高反差电子束抗蚀剂实现了对纳米尺度光栅图形的精确控制。实验结果表明,同一个器件分布的三块光栅占空比合理,栅线平滑,可以满足单能点单色成像谱仪的要求。 展开更多
关键词 X射线透射光栅 电子束曝光 邻近效应校正 微电镀 自支撑透射光栅
下载PDF
大面积软X射线自支撑金透射光栅的研制 被引量：1
5
作者 邱克强 刘正坤 +4 位作者 陈火耀 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期2589-2595,共7页
针对等离子体诊断及空间环境探测等领域对软X射线透射光栅的需要,采用全息光刻和微电镀技术制作了自支撑软X射线金透射光栅。在基底与光刻胶之间增加减反膜层以降低高反射基底引起的驻波效应对掩模槽形的影响,使用全息光刻技术获得了侧... 针对等离子体诊断及空间环境探测等领域对软X射线透射光栅的需要,采用全息光刻和微电镀技术制作了自支撑软X射线金透射光栅。在基底与光刻胶之间增加减反膜层以降低高反射基底引起的驻波效应对掩模槽形的影响,使用全息光刻技术获得了侧壁陡直的光栅掩模。然后,在掩模顶部镀保护层并使用反应离子刻蚀获得电镀掩模,通过改变保护层厚度来调节电镀掩模的占宽比。最后,利用微电镀技术沉积金,成功制作了线条密度为3 450gr/mm的自支撑透射光栅,光栅周期约为290nm,占宽比为0.55,金吸收体为500nm,光栅尺寸达到10mm×15mm。在国家同步辐射装置上,测得在5～12nm软X射线波段其+1级透射衍射效率约为5%。 展开更多
关键词 自支撑金透射光栅 全息光刻 电镀
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部