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自发射荧光猝灭测定Gemini阴离子表面活性剂胶团聚集数 被引量：3
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作者 刘金彦 赵剑曦 杨连枝 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期682-685,共4页
Gemini表面活性剂C11pPHCNa分子联接链上的对苯氧基在激发下自发射荧光。当浓度超过0.45mmol.L-1时,激发光谱谱带的拓扑结构发生一系列变化,导致不同于对应的吸收光谱。由于联接链上的对苯氧基明显猝灭了外加探针芘发射的荧光,所以不能... Gemini表面活性剂C11pPHCNa分子联接链上的对苯氧基在激发下自发射荧光。当浓度超过0.45mmol.L-1时,激发光谱谱带的拓扑结构发生一系列变化,导致不同于对应的吸收光谱。由于联接链上的对苯氧基明显猝灭了外加探针芘发射的荧光,所以不能用传统的方法测定这类胶团的聚集数。文章利用甲基紫精(MV2+)可有效猝灭C11pPHCNa分子自发射荧光的原理,建立了测定这类胶团平均聚集数的方法。由该方法获得C11pPHCNa胶团平均聚集数为20.6;在溶液体相摩尔比为3∶7的C11pPHCNa/C12-S2-E1-C12.2Br体系中,混合胶团的平均聚集数为11.8。 展开更多
关键词 自发射荧光猝灭 胶团聚集数
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