基于遮挡矩阵的膜厚修正挡板的设计 被引量：12

1

作者 张立超 高劲松 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2757-2763,共7页

为了在光学元件镀膜过程中精确控制膜厚均匀性,通常需要有针对性地设计并制作膜厚修正挡板。然而,由于基底在真空室内运动方式复杂,实际工作中通常采用多次试验,反复进行局部修正的方法来确定挡板形状。为解决这一问题,本文提出了遮挡... 为了在光学元件镀膜过程中精确控制膜厚均匀性,通常需要有针对性地设计并制作膜厚修正挡板。然而,由于基底在真空室内运动方式复杂,实际工作中通常采用多次试验,反复进行局部修正的方法来确定挡板形状。为解决这一问题,本文提出了遮挡矩阵的概念。基于这一概念,提出了膜厚修正挡板的设计方法。通过对挡板进行合理的划分,对膜厚空间分布与挡板形状建立起精确的定量关系,从而可在不需进行事后修正的情况下,准确计算出修正挡板的形状。针对平面行星夹具,设计并制作了膜厚修正挡板,在φ300mm的口径上实现了膜厚均匀性的PV值优于0.3%、rms值优于0.1%。这些结果验证了这一方法的有效性,表明该方法满足光学元件镀膜过程中高效、可靠地调整膜厚均匀性的要求。 展开更多

关键词 热蒸发 膜厚控制 膜厚均匀性 行星夹具 修正挡板 遮挡矩阵

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静电自组装技术及其应用 被引量：5

2

作者 李小甫 余海湖 姜德生 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2002年第11期51-54,共4页

静电自组装技术有许多优点 :工艺简单 ,能精确控制膜厚 ,每层膜厚都能控制在分子级水平 ,膜的稳定性较传统方法有较大提高 ,适用于制造大面积的薄膜器件。本文综述了静电自组装技术的特点、注意事项及其应用前景。

关键词 分子器件 静电自组装 薄膜器件 平面光波导 纳米材料 膜厚控制

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用化学镀法制备Pd/Ag膜时膜厚和组成的控制 被引量：4

3

作者 曾高峰 史蕾 徐恒泳 《催化学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第12期1227-1232,共6页

研究了不同Pd2+含量的镀液在多孔陶瓷载体上的化学沉积规律,发现当Pd沉积层厚度达到约5μm后,即使镀液中反应物的消耗比例很小,膜厚增长也明显变缓,沉积反应主要受膜层表面的催化活性位控制;当镀液中Pd2+含量只能沉积形成小于4μm的Pd膜... 研究了不同Pd2+含量的镀液在多孔陶瓷载体上的化学沉积规律,发现当Pd沉积层厚度达到约5μm后,即使镀液中反应物的消耗比例很小,膜厚增长也明显变缓,沉积反应主要受膜层表面的催化活性位控制;当镀液中Pd2+含量只能沉积形成小于4μm的Pd膜时,在323K化学镀180min后,镀液中Pd2+的转化率高于90%.与之相似,当Ag镀液中的Ag+含量等于0.5～2μm的Ag膜层所需量时,在333K化学镀120min后,Ag+的转化率可达95%.Ag+的高转化率与Ag颗粒的择向生长特性有关.根据Pd和Ag的化学镀沉积规律,通过调节镀液中金属离子的含量能够预先设计和精确控制超薄Pd/Ag膜的膜厚和组成. 展开更多

关键词 钯 银 复合膜 化学镀 膜厚控制 组成控制 沉积规律

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双离子束溅射技术制备带通滤光片 被引量：5

4

作者 申林 熊胜明 +2 位作者 刘洪祥 李凌辉 张云洞 《光学仪器》 2004年第2期87-90,共4页

研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波通和长波... 研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波通和长波通的工艺过程,最后测试并分析了由短波通和长波通组成带通滤光片的光学性能。实验结果表明,采用双离子束溅射技术,以沉积时间作为膜厚监控手段能够制备出具有优良光性能并满足应用设计要求的带通滤光片。 展开更多

关键词 双离子束溅射 制备 带通滤光片 沉积时间 膜厚控制

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极紫外光源用大口径Mo/Si多层膜厚度控制与热稳定性研究

5

作者 刘翔月 张哲 +10 位作者 蒋励 宋洪萱 姚殿祥 黄思怡 徐文杰 霍同林 周洪军 齐润泽 黄秋实 张众 王占山 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第7期187-195,共9页

Mo/Si多层膜是13.5 nm极紫外波段理想的反射镜膜系,它与极紫外光源的结合使得极紫外光刻成为了目前最先进的制造手段之一。极紫外光源的实际应用对Mo/Si多层膜提出了高反射率、高热稳定性、抗辐照损伤、大口径等诸多要求。针对极紫外光... Mo/Si多层膜是13.5 nm极紫外波段理想的反射镜膜系,它与极紫外光源的结合使得极紫外光刻成为了目前最先进的制造手段之一。极紫外光源的实际应用对Mo/Si多层膜提出了高反射率、高热稳定性、抗辐照损伤、大口径等诸多要求。针对极紫外光源用Mo/Si多层膜面临的膜厚梯度控制和高温环境问题,利用掩模板辅助法对大口径曲面基底上不同位置处的多层膜膜厚进行修正;选择C作为扩散阻隔层材料,对磁控溅射法制备的Mo/Si、Mo/Si/C和Mo/C/Si/C三种多层膜在300℃高温应用环境下的热稳定性展开了研究。研究结果表明:通过掩模板辅助的方式能够将300 mm口径曲面基底上不同位置处的Mo/Si多层膜膜厚控制在预期厚度的±0.45%以内,基底上不同位置处Mo/Si多层膜的膜层结构和表面粗糙度基本相同;引入C扩散阻隔层后,经过300℃退火,Mo/Si多层膜的反射率损失从9.0%减少为1.8%,说明C的引入能够有效减少高温对多层膜微结构的破坏和对光学性能的影响,提高了多层膜的热稳定性。 展开更多

关键词 激光光学 极紫外光源 MO/SI多层膜 磁控溅射 膜厚控制 热稳定性

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极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计 被引量：3

6

作者 孔伟金 吴福全 +1 位作者 郝殿中 王吉明 《光学技术》 CAS CSCD 2003年第6期696-698,701,共4页

分析了光学薄膜厚度的极值控制法,并利用矩阵的方法给出了极值法膜厚控制误差。基于极值法膜厚控制的原理,利用由IC/5薄膜沉积控制器和晶震探头组成的反馈系统,控制蒸发速率的大小,光控的信号由可编程的计算机探测接收。分别对ZrO2/SiO2... 分析了光学薄膜厚度的极值控制法,并利用矩阵的方法给出了极值法膜厚控制误差。基于极值法膜厚控制的原理,利用由IC/5薄膜沉积控制器和晶震探头组成的反馈系统,控制蒸发速率的大小,光控的信号由可编程的计算机探测接收。分别对ZrO2/SiO2,膜料进行了两组交替镀制实验测试。结果表明,整个系统稳定性好,自动化程度高,膜厚控制精度在1 02%左右。 展开更多

关键词 膜厚控制 极值法光学 IC/5薄膜沉积控制器 晶震探头 反馈系统 误差分析 改进设计 光学薄膜

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光谱测量在宽带膜厚监控系统中的应用 被引量：2

7

作者 尚小燕 韩军 孔英秀 《西安工业学院学报》 2006年第1期25-28,共4页

在宽带膜厚监控系统中,对光谱光强的实时准确测量是系统控制成败的关键.根据系统结构,分析了影响系统光谱分辨率的因素,选取合适的光栅、CCD.实验表明:增加狭缝宽度虽然提高了信号强度,但降低了系统分辨率.根据控制要求,确定狭缝宽度为1... 在宽带膜厚监控系统中,对光谱光强的实时准确测量是系统控制成败的关键.根据系统结构,分析了影响系统光谱分辨率的因素,选取合适的光栅、CCD.实验表明:增加狭缝宽度虽然提高了信号强度,但降低了系统分辨率.根据控制要求,确定狭缝宽度为1.4mm.采用汞灯的特征谱线对CCD像元与光谱波长的对应关系进行标定,实验结果表明满足对膜系光谱特性的要求. 展开更多

关键词 膜厚控制 光谱光强 光谱分辨率 标定

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离子束辅助沉积红外增透薄膜工艺 被引量：4

8

作者 傅晶晶 付秀华 邢政 《长春理工大学学报（自然科学版）》 2008年第2期43-45,共3页

光纤接入网络的快速发展对光纤传输的光学性能方面提出了严格的要求。文中阐述了电子束离子辅助沉积系统在室温下镀制光纤端面近红外1520nm～1580nm范围增透膜的应用。讨论了膜料的选择、膜系的设计以及镀制过程中光学监控的工艺参数,... 光纤接入网络的快速发展对光纤传输的光学性能方面提出了严格的要求。文中阐述了电子束离子辅助沉积系统在室温下镀制光纤端面近红外1520nm～1580nm范围增透膜的应用。讨论了膜料的选择、膜系的设计以及镀制过程中光学监控的工艺参数,制备出了光学性能较好的薄膜。 展开更多

关键词 离子束辅助沉积 红外增透膜 光纤 膜厚控制

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水工金属结构防腐涂装质量检测与控制

9

作者 李金波 《葛洲坝集团科技》 2023年第1期63-66,共4页

为了控制水工金属结构防腐涂装质量,本文运用归纳、总结的方法,从影响产品防腐涂装质量的两个主控过程入手,对现场检测、评判标准以及常见质量问题产生的原因、整改措施等进行了阐述。旨在为厂家、施工、检测等单位的防腐涂装质量管理... 为了控制水工金属结构防腐涂装质量,本文运用归纳、总结的方法,从影响产品防腐涂装质量的两个主控过程入手,对现场检测、评判标准以及常见质量问题产生的原因、整改措施等进行了阐述。旨在为厂家、施工、检测等单位的防腐涂装质量管理和检测工作提供借鉴和参考。 展开更多

关键词 水工金结 钢材除锈 结构处理 涂料施工 膜厚控制

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基于腔内倍频的457 nm激光器高反射腔镜的研制 被引量：3

10

作者 刘冬梅 李五一 +2 位作者 付秀华 张静 张功 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第11期132-136,共5页

基于倍频反射膜的设计理论,结合膜系设计软件实现了多波段激光腔面高反射膜的设计。在制备过程中,基于最小二乘法原理建立了残余蒸镀量与膜层厚度之间的关系式,解决了膜厚控制误差累积导致薄膜光谱性能变差的问题。制备的薄膜在457 nm和... 基于倍频反射膜的设计理论,结合膜系设计软件实现了多波段激光腔面高反射膜的设计。在制备过程中,基于最小二乘法原理建立了残余蒸镀量与膜层厚度之间的关系式,解决了膜厚控制误差累积导致薄膜光谱性能变差的问题。制备的薄膜在457 nm和914 nm波长处的反射率分别为99.9%和99.6%,在808,1064,1342 nm波长处的透射率分别为97.2%、96.8%和93.1%,满足457 nm激光器的使用要求。 展开更多

关键词 薄膜 腔面高反射膜 倍频反射 膜厚控制 最小二乘法

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薄膜滤光片淀积过程实时光学监控系统 被引量：2

11

作者 林宇翔 章岳光 +1 位作者 顾培夫 唐晋发 《光学仪器》 2004年第2期105-108,共4页

介绍了一种薄膜制造实时光学监控系统,对监控系统的组成及各个模块的功能和工作原理进行分析。系统由计算机对信号进行采集、分析和判断,根据膜层的不同特点采取相应的监控方式,可以对各种规整和非规整膜系进行监控,自动开闭蒸发源挡板。

关键词 薄膜滤光片 淀积 光学监控 实时监控系统 光学薄膜 膜厚控制

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微光系统CMOS光学调色膜的研制 被引量：2

12

作者 张静 孙宇勃 +3 位作者 付秀华 刘冬梅 母一宁 李爽 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2020年第9期255-261,共7页

针对微光系统光子数量较少的问题,研制出符合色度学的光学调色膜,构成六基色彩色滤镜,从而提升色彩还原度。通过对光谱特性的分析,利用Essential Macleod膜系设计软件以及Mathcad工程计算软件,建立采点迭代法优化模型,实现光学调色膜的... 针对微光系统光子数量较少的问题,研制出符合色度学的光学调色膜,构成六基色彩色滤镜,从而提升色彩还原度。通过对光谱特性的分析,利用Essential Macleod膜系设计软件以及Mathcad工程计算软件,建立采点迭代法优化模型,实现光学调色膜的膜系设计。采用电子束热蒸发方法制备薄膜。利用光控与晶控相结合的方法进行膜厚控制,以膜堆为单元进行反演分析,实现光学调色膜的研制。该薄膜通过光谱测试,满足使用要求。 展开更多

关键词 薄膜 彩色微光夜视 彩色滤镜 光学调色膜 膜系设计 膜厚控制

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晶振膜厚监控技术中Tooling Factor的精确标定 被引量：2

13

作者 张立超 《光机电信息》 2010年第11期56-60,共5页

晶振监控法是一种实现非规整膜系监控的重要手段。在晶振监控中,晶振片与镀膜基片上沉积薄膜厚度的比值,即Tooling Factor是相对固定的。采用晶振监控法实现薄膜厚度的精确控制必须对Tooling Factor进行精确标定。本文提出了精确标定Too... 晶振监控法是一种实现非规整膜系监控的重要手段。在晶振监控中,晶振片与镀膜基片上沉积薄膜厚度的比值,即Tooling Factor是相对固定的。采用晶振监控法实现薄膜厚度的精确控制必须对Tooling Factor进行精确标定。本文提出了精确标定Tooling Factor的方法,并对这种方法进行了实验验证。结果表明,该方法能够将膜厚控制误差从～20%降低到6%的水平,从而使多层膜的反射率曲线更加接近设计结果,实现多层膜膜厚的精确控制。 展开更多

关键词 膜厚控制 晶振监控 TOOLING FACTOR

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纳米压印光刻中抗蚀剂膜厚控制研究 被引量：2

14

作者 严乐 李寒松 +1 位作者 刘红忠 卢秉恒 《机械设计与制造》 北大核心 2010年第4期201-203,共3页

研究了纳米压印光刻匀胶工艺中抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速、匀胶时间和滴胶量之间的关系。实验研究表明,抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间均呈幂指数关系;当匀胶转速达到一定值,匀胶时间足够大时,膜厚不再随匀胶时间... 研究了纳米压印光刻匀胶工艺中抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速、匀胶时间和滴胶量之间的关系。实验研究表明,抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间均呈幂指数关系;当匀胶转速达到一定值,匀胶时间足够大时,膜厚不再随匀胶时间变化而变化,存在最小厚度,即抗蚀剂膜厚与滴胶量无关。建立了抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间之间的量化关系公式,实现了对抗蚀剂膜厚的控制。 展开更多

关键词 纳米压印光刻 抗蚀剂 匀胶 膜厚控制

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彩涂涂机轴承改型分析及应用 被引量：1

15

作者 康海林 《有色金属加工》 CAS 2012年第1期37-40,共4页

介绍了攀钢彩涂生产线辊式涂机的工作原理和存在的问题,结合生产工艺和现有设备,着重阐述了对涂辊轴承改型的分析计算,优化了涂机工艺参数,对降低涂层厚度产生了较大的经济效益。

关键词 辊涂机 膜厚控制 轴承改型 UCC211 21312CK+H312

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辊涂机膜厚神经网络控制系统分析

16

作者 于正安 程军周 +2 位作者 谢咏山 浦文杰 刘鹏 《重型机械》 2007年第3期1-4,共4页

阐述了影响辊涂机膜厚的因素,分析了神经网络系统控制的特点,并将神经网络系统应用于辊涂机膜厚控制,对影响辊涂机膜厚的主要因素进行模糊处理,达到了将膜厚控制在一定工艺范围内的目的,解决了传统控制方法造成膜厚不符合工艺要求的问题。

关键词 表面工程 涂覆机 膜厚控制 顺涂 逆涂 辊间压力

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基于反射光谱的单层抗反射膜的非在位膜厚精确控制 被引量：1

17

作者 徐建明 熊兵 +2 位作者 袁贺 孙长征 罗毅 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1507-1510,共4页

提出一种基于反射光谱分析的非在位膜厚控制技术,首先利用椭圆偏振光谱仪确定波长300～1 700 nm范围内的薄膜折射率,由此确定对应于特定波长(如1 550 nm)的最佳抗反射(AR)镀膜沉积条件。然后计算最佳AR镀膜厚度所对应的反射谱,得到相应... 提出一种基于反射光谱分析的非在位膜厚控制技术,首先利用椭圆偏振光谱仪确定波长300～1 700 nm范围内的薄膜折射率,由此确定对应于特定波长(如1 550 nm)的最佳抗反射(AR)镀膜沉积条件。然后计算最佳AR镀膜厚度所对应的反射谱,得到相应的CIE标准色谱坐标。通过对比实测镀膜颜色和计算得到的最佳颜色,可以实现小尺寸器件端面上AR镀膜厚度的优化控制。利用这一方法,由等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的SiNx单层AR镀膜,获得了4.4×10-4的反射率。 展开更多

关键词 膜厚控制 抗反射(AR)镀膜 反射光谱 等离子体增强化学气相淀积(PECVD)

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无机硅酸锌涂料在液货船货油舱内的应用 被引量：1

18

作者 罗耘 《广船科技》 2003年第4期27-28,共2页

通过对无机硅酸锌涂料的性能、技术要求及施工工艺的探讨,分析我公司 承接建造使用无机硅酸锌作为货油舱保护涂料在技术上的可行性。

关键词 液货船 货油舱 无机硅酸锌涂料 表面处理 粗糙度 温湿度 膜厚控制

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能精调光学膜层的镀膜设备

19

作者 黄俊峰 《光机电信息》 2004年第3期19-21,共3页

关键词 光学膜层 镀膜设备 光通信 通信元件 蒸镀源 膜厚控制

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ZnO薄膜中缓冲层厚度的研究

20

作者 李宁 苑改红 张新喜 《科学技术与工程》 2009年第3期591-595,共5页

采用溶胶-凝胶法制备ZnO缓冲层,并在其上沉积ZnO薄膜。研究了匀胶的膜厚控制公式,达到对膜厚的控制。采用X射线衍射仪和原子力显微镜分析了缓冲层厚度对ZnO薄膜结晶质量和表面形貌的影响规律。

关键词 ZNO薄膜 缓冲层 膜厚控制 XRD衍射图 AFM图

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