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题名纳米薄膜脉冲激光沉积技术
被引量：1
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作者
李美成
赵连城
杨建平
陈学康
吴敢
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机构
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院
兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室
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出处
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第4期1-4,48,共5页
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基金
国防科技预研跨行业综合技术项目 :18.9.2
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文摘
简要介绍了脉冲激光薄膜沉积 (PLD)技术的物理原理、独具的特点 ,并且介绍了在PLD基础上结合分子束外延 (MBE)特点发展起来的激光分子束外延 (L -MBE) ,以及采用L
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关键词
脉冲激光薄膜沉积
PLD
激光分子束外延
L-MBE
硅基纳米
PtSi薄膜
薄膜科学
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Keywords
Pulsed laser deposition, Nanometer thin film, Laser molecular beam epitaxy (L MBE),Infrared detector
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分类号
TB43
[一般工业技术]
TB383
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题名PLD法制备Cu膜生长的计算机模拟与实验
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作者
崔海涛
王永仓
段章山
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机构
空军工程大学理学院
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出处
《微计算机信息》
北大核心
2007年第31期197-198,289,共3页
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基金
国家自然科学基金资助项目(50331040
60171043)
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文摘
介绍了脉冲激光薄膜沉积技术(PLD)的原理,建立了PLD成膜过程初期生长的物理模型,并运用动力学蒙特卡罗方法对基于硅衬底的铜膜PLD生长进行了计算机模拟,得到生长形态图及剖面图,在相同的参数下做PLD实验,将所得原子力测试图与模拟进行了比较,结果相近。
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关键词
脉冲激光薄膜沉积
计算机模拟
动力学蒙特卡罗方法
薄膜生长
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Keywords
Pulsed Laser Deposition, Kinetic Monte Carlo, growth of thin films
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分类号
TN249
[电子电信—物理电子学]
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