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组合注入质子导致不对称耦合双量子阱界面混合效应研究 被引量:1
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作者 缪中林 陈平平 +11 位作者 蔡炜颖 李志锋 袁先漳 刘平 史国良 徐文兰 陆卫 陈昌明 朱德彰 潘浩昌 胡军 李明乾 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期116-119,共4页
用分子束外延系统 (MBE)生长了GaAs/AlGaAs不对称耦合双量子阱 (ACDQW ) ,采用组合注入质子的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入剂量的GaAs/AlGaAs不对称耦合双量子阱单元 ,没有经过快速热退火的过程 ,在常温下测量了不同注入剂量量... 用分子束外延系统 (MBE)生长了GaAs/AlGaAs不对称耦合双量子阱 (ACDQW ) ,采用组合注入质子的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入剂量的GaAs/AlGaAs不对称耦合双量子阱单元 ,没有经过快速热退火的过程 ,在常温下测量了不同注入剂量量子阱单元的显微光荧光谱和光调制反射光谱 ,发现了各区域子带间跃迁能量最大变化范围达到 81meV .由于样品未作高温热退火处理 ,为此由Al组分误差函数模型推导的扩散长度要大大高于扩散系数公式 .耦合量子阱的界面混合效应对于质子注入非常敏感 . 展开更多
关键词 不对称耦合双量子阱 组合注入 显微光荧光谱 界面混合效应 半导体 砷化镓
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GaAs/AlGaAs非对称耦合双量子阱界面混合效应光荧光谱研究
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作者 缪中林 陆卫 +10 位作者 陈平平 李志锋 刘平 袁先漳 蔡炜颖 徐文兰 沈学础 陈昌明 朱德彰 胡均 李明乾 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期15-19,共5页
用分子束外延系统生长了 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱 (ACDQW) ,用组合注入的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入离子和不同注入剂量的耦合量子阱单元 ,没有经过快速热退火过程 ,在常温下测量了不同单元的显微光荧光谱 ,发现子... 用分子束外延系统生长了 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱 (ACDQW) ,用组合注入的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入离子和不同注入剂量的耦合量子阱单元 ,没有经过快速热退火过程 ,在常温下测量了不同单元的显微光荧光谱 ,发现子带间跃迁能量最大变化范围接近 10 0 me V。 展开更多
关键词 非对称耦合双量子阱 组合注入 界面混合 光荧光谱 子带间跃迁能量移动 GAAS ALGAAS
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Littelfuse推出超低导通电阻1200V碳化硅MOSFET
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《半导体信息》 2018年第2期8-9,共2页
Littelfuse, Inc.与从事碳化硅技术开发的德州公司Monolith Semiconduc-tor Inc.近日新推出两款1200V碳化硅(SIC)n通道增强型MOSFET,为其日益扩展的第一代电源半导体器件组合注入新鲜血液。
关键词 MOSFET 碳化硅 低导通电阻 MONOLITH 半导体器件 技术开发 组合注入 增强型
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水驱后期断块油藏CO_(2)气顶与人工边水组合驱压力恢复规律 被引量:3
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作者 刘炳官 林波 +3 位作者 王智林 孙东升 葛政俊 顾骁 《油气地质与采收率》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期87-93,共7页
水驱后期断块油藏注入水无效循环造成压力提升困难,所提出的CO_(2)气顶与人工边水组合驱技术被认为可有效解决该问题。为了研究组合驱储层压力恢复规律,对压力恢复速度与注入速度等参数的关系、以及注水、注气速度和注入时机的优化开展... 水驱后期断块油藏注入水无效循环造成压力提升困难,所提出的CO_(2)气顶与人工边水组合驱技术被认为可有效解决该问题。为了研究组合驱储层压力恢复规律,对压力恢复速度与注入速度等参数的关系、以及注水、注气速度和注入时机的优化开展研究。因此,利用室内实验评价压力恢复速度与注气量、注气速度及注气注水速度比之间的定性关系;应用数值模拟方法,结合单因素分析法及正交试验设计法验证实验结果,采用响应面分析法建立压力恢复速度与三者之间的定量关系,回归了相关性预测模型。最终对比优化了组合驱技术政策。研究结果表明,组合驱效果与注入速度、注气量及注气注水速度比呈正相关,对于注气速度最敏感。组合驱注气速度与注水速度存在最优值与最优匹配关系,进而建立了组合驱注入时机确定图版。 展开更多
关键词 组合 压力恢复速度 响应面分析 最优速度组合 组合注入时机
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组合空穴注入层在有机电致蓝光器件中的应用 被引量:2
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作者 刘亚东 田杰 +2 位作者 宋新潮 李继超 张倩 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2015年第10期259-262,共4页
采用HAT-CN/Cu Pc作为有机电致发光二极管(OLED)蓝光ADN器件的组合空穴注入层(HIL)。通过采用该组合HIL后,在保证器件电流效率不下降的情况下有效地降低器件的驱动电压。一方面,这是利用HAT-CN可以大幅提高Cu Pc薄膜的有序度,有效地降低... 采用HAT-CN/Cu Pc作为有机电致发光二极管(OLED)蓝光ADN器件的组合空穴注入层(HIL)。通过采用该组合HIL后,在保证器件电流效率不下降的情况下有效地降低器件的驱动电压。一方面,这是利用HAT-CN可以大幅提高Cu Pc薄膜的有序度,有效地降低Cu Pc HIL的电阻;另一方面是因为HAT-CN/Cu Pc可以实现空穴的有效注入。这两方面因素最终使得ADN蓝光器件的启亮电压降低至3.4 V,较采用Cu Pc HIL的ADN蓝光器件低0.5 V。 展开更多
关键词 光电子学 有机电致发光二极管 蓝光器件 组合空穴注入 启亮电压
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组合离子注入导致非对称耦合双量子阱界面混合效应光调制反射光谱 被引量:1
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作者 缪中林 陆卫 +10 位作者 陈平平 李志锋 刘平 袁先漳 蔡炜颖 徐文兰 沈学础 陈昌明 朱德彰 胡军 李明乾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期721-725,共5页
用分子束外延系统 (MBE)生长了 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱 (ACDQW) ,用组合离子注入的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入离子 As+ 、 H+ 和不同注入剂量的 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱单元 ,在未经快速热退火的条件... 用分子束外延系统 (MBE)生长了 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱 (ACDQW) ,用组合离子注入的方法 ,在同一块衬底上获得了不同注入离子 As+ 、 H+ 和不同注入剂量的 Ga As/ Al Ga As非对称耦合双量子阱单元 ,在未经快速热退火的条件下 ,于常温下测量了光调制反射光谱 ,发现各单元的子带间跃迁能量最大变化范围可达80 me V . 展开更多
关键词 非对称耦合双量子阱 组合离子注入 光调制反射光谱 界面混合效应
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Fe-(Co_6Ag_(94))颗粒膜磁光芯片的制备及研究
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作者 魏仑 王长征 +4 位作者 蔡英文 李爱国 张桂林 王松有 李建国 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第10期771-775,共5页
采用二分掩膜技术向溅射沉积的Co_6Ag_(94)薄膜中组合注入Fe离子,制备成具有不同Fe含量的16单元Fe-(Co_6Ag_(94))颗粒膜磁光芯片。对制备态和退火态的Fe-(Co_6Ag_(94))颗粒膜的物相进行了XRD研究。不同退火温度下,物相的演变反映出了退... 采用二分掩膜技术向溅射沉积的Co_6Ag_(94)薄膜中组合注入Fe离子,制备成具有不同Fe含量的16单元Fe-(Co_6Ag_(94))颗粒膜磁光芯片。对制备态和退火态的Fe-(Co_6Ag_(94))颗粒膜的物相进行了XRD研究。不同退火温度下,物相的演变反映出了退火过程中Co、Fe相和FeCo相纳米微晶的析出长大过程。采用原子力显微镜(AFM)对薄膜表面的研究结果表明,在退火过程中形成了嵌于基底中的纳米颗粒相。对制备态和不同温度退火后芯片各单元的磁光性能进行了测量,结果表明极向Kerr旋转角θ_k随着注入Fe含量的增加而增大,这可归因于颗粒膜中铁磁相的增多。在500℃以下,随着退火温度的增加,Fe-(Co_6Ag_(94))颗粒膜的克尔磁光效应增加。对不同温度退火的样品进行穆斯堡尔谱测量,结果证明一定尺寸纳米Fe微晶颗粒的出现是磁光效应提高的主要原因之一。 展开更多
关键词 磁光芯片 组合离子注入 Fe-(Co6Ag94)颗粒膜 克尔效应
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As^+/N_2^+组合离子注入Si的损伤退火及杂质浓度分布
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作者 韩宇 肖鸿飞 +1 位作者 高雅君 马德录 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期394-399,共6页
采用双晶 X射线衍射仪测量了相同注入能量、不同注入剂量的 As+ / N2 + 组合离子注入 Si的衍射曲线 ,借助X射线衍射的运动学理论和离子注入的多层模型 ,对衍射曲线进行拟合 ,得到了晶格应变随注入深度的分布及辐射损伤分布 .在 5 0 0~ ... 采用双晶 X射线衍射仪测量了相同注入能量、不同注入剂量的 As+ / N2 + 组合离子注入 Si的衍射曲线 ,借助X射线衍射的运动学理论和离子注入的多层模型 ,对衍射曲线进行拟合 ,得到了晶格应变随注入深度的分布及辐射损伤分布 .在 5 0 0~ 90 0℃下进行等时热退火 ,对辐射损伤经退火的晶格恢复进行了研究 .用 L SS理论计算了同样注入条件下的杂质浓度分布 。 展开更多
关键词 组合离子注入 双晶X射线衍射 晶格应变 退火 杂质浓度
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组合离子注入的杂质浓度分布与损伤分布比较
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作者 韩宇 张宏 姜树森 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第1期4-7,共4页
用LSS理论,计算了注入能量为180keV,注入剂量为1×10^(13)~5×10^(15)ion/cm^2的N_2^+/As^+组合离子注人Si的杂质浓度分布,由X射线衍射的运动学理论,利用多层模型和试探应变函数拟合X射线衍射曲线,得到了晶格应变随注入深度的... 用LSS理论,计算了注入能量为180keV,注入剂量为1×10^(13)~5×10^(15)ion/cm^2的N_2^+/As^+组合离子注人Si的杂质浓度分布,由X射线衍射的运动学理论,利用多层模型和试探应变函数拟合X射线衍射曲线,得到了晶格应变随注入深度的分布,并将二者进行了比较.结果表明N_2^+/As^+组合离子注入单晶Si的应变分布曲线为单峰,位于杂质浓度分布曲线的双峰之间,靠近重离子峰. 展开更多
关键词 组合离子注入 杂质 浓度分布 损伤分布 双晶x射线衍射 晶格应变
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