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组合刻蚀法制备窄带滤光片列阵 被引量：9
1
作者 王少伟 王利 +5 位作者 吴永刚 王占山 刘定权 林炳 陈效双 陆卫 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期746-751,共6页
介绍了组合刻蚀法制备窄带滤光片列阵的基本原理和制备工艺，这是一种效率非常高的制备方法，只需N次刻蚀就可以完成2^N通道窄带滤光片列阵的制备，而且可以用于制备不同波段窄带滤光片列阵。展示了可见一近红外波段32通道窄带滤光片列... 介绍了组合刻蚀法制备窄带滤光片列阵的基本原理和制备工艺，这是一种效率非常高的制备方法，只需N次刻蚀就可以完成2^N通道窄带滤光片列阵的制备，而且可以用于制备不同波段窄带滤光片列阵。展示了可见一近红外波段32通道窄带滤光片列阵和中红外波段16通道窄带滤光片列阵的实验结果，其中32通道窄带滤光片列阵的带通峰位基本呈线性分布在774．7～814．2nm之间，所有滤光片的半峰全宽都非常窄（δλ〈1．5nm），相应于淑δλ/λ〈0．2％，半峰全宽最窄的滤光片达到0．8nm，相应于δλ/λ〈0．1％，其带通峰位λ=794．3nm；各通道的带通透过率在21．2％～32．4％之间，大部分在30％左右。 展开更多
关键词 光学器件 滤光片 集成 组合刻蚀法 列阵 制备
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16通道微型集成滤光片制备技术的研究 被引量：6
2
作者 林炳 于天燕 +2 位作者 李大琪 刘定权 张凤山 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期287-290,共4页
多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和重量更轻的方向发展,而用于分光的多通道滤光片是其关键光学元件,需要相应发展新型多光谱窄带集成滤光片制备技术.提出了组合刻蚀法布里-珀罗(F-P)滤光片间隔层的方法,将光... 多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和重量更轻的方向发展,而用于分光的多通道滤光片是其关键光学元件,需要相应发展新型多光谱窄带集成滤光片制备技术.提出了组合刻蚀法布里-珀罗(F-P)滤光片间隔层的方法,将光学薄膜制备技术,离子束刻蚀技术与掩膜法技术相结合,形成新的多通道集成滤光片的制备方法.并在单个微型基片上,成功制备了集成16通道窄带线阵滤光片,获得的单元滤光片几何线宽为0.7mm,相对半峰全宽优于1.0%,透射峰定位精度优于0.25%.这一方法不但可满足集成度更高的滤光器件的要求,而且拓展了薄膜制备的方法. 展开更多
关键词 光学薄膜 集成滤光片 组合刻蚀法 多通道滤光片 微型滤光片
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