PCVD(Plasma-activated Chemical Vapour Deposition)法是用微波低压等离子体作反应源,在石英管内沉积制备光纤预制棒的一种方法,它是荷兰Philips公司在1974年首先使用的。一、基本原理PCVD法与通常广泛采用的MCVD法比较相似,主要不同...PCVD(Plasma-activated Chemical Vapour Deposition)法是用微波低压等离子体作反应源,在石英管内沉积制备光纤预制棒的一种方法,它是荷兰Philips公司在1974年首先使用的。一、基本原理PCVD法与通常广泛采用的MCVD法比较相似,主要不同点是在反应加热系统方面。原料气体被微波能激发电离产生等离子体,直接反应沉积出透明玻璃层。展开更多
文摘PCVD(Plasma-activated Chemical Vapour Deposition)法是用微波低压等离子体作反应源,在石英管内沉积制备光纤预制棒的一种方法,它是荷兰Philips公司在1974年首先使用的。一、基本原理PCVD法与通常广泛采用的MCVD法比较相似,主要不同点是在反应加热系统方面。原料气体被微波能激发电离产生等离子体,直接反应沉积出透明玻璃层。