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MBE生长的InAs_(1-x)Sb_x外延层Eg和x测量
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作者 罗振华 吴仲墀 邱绍雄 《华东师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期50-55,共6页
MBE生长的外延三元化合物材料InAs1 xSbx/AlSb/GaAs等是研制红外光通讯探测器的重要材料 ,准确检测这些半导体的禁带宽度Eg和组份x是个重要课题。该文简要地提出与本研究有关的二维 (2D)体系态密度D2D和自由载流子面密度等物理量的数... MBE生长的外延三元化合物材料InAs1 xSbx/AlSb/GaAs等是研制红外光通讯探测器的重要材料 ,准确检测这些半导体的禁带宽度Eg和组份x是个重要课题。该文简要地提出与本研究有关的二维 (2D)体系态密度D2D和自由载流子面密度等物理量的数学表达式并采用变温Vander Pauw Hall实验对上述半导体样品进行测试 ,分别用 2D和 3D体系的理论对实验数据进行分析处理 ,实验结果表明 :2D理论得出的Eg和x比 3D理论处理有明显改善 。 展开更多
关键词 2D半导体 自由载流子面密度 禁带宽度 MBE 外延生长 红外光通讯探测器 三元化合物 InAs1-xSbx 测量 铟砷锑化合物
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