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题名基于红外光干涉技术的微纳结构内部三维形貌测量
被引量：1
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作者
牛康康
丑修建
杜妙璇
薛晨阳
张文栋
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机构
中北大学电子测试技术国家重点实验室
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出处
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期196-199,共4页
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基金
国家863计划(2007AA04Z321)
国家自然科学基金(50535030)
中国博士后科学基金项目(20090461275)
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文摘
基于红外光在半导体材料中的透射特性,将白光扫描干涉方法从可见光波段推广到红外光波段。设计研制了Linnik结构红外光干涉系统,对具有三层台阶结构的微器件进行了无损三维形貌测试。实验结果表明,采用红外光对半导体材料微纳结构透射后的反射干涉技术,可以准确实现微纳结构内部三维形貌测量。可实现百nm量级台阶高度的准确透射测试,纵向测量误差控制在5%以内。该方法可广泛应用于半导体微纳器件结构测量技术领域,实现半导体器件封装后的内部形貌测试、键合界面质量评估以及在线工艺检测等。
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关键词
白光扫描
红外光干涉
微纳结构
形貌测量
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Keywords
white-light scanning
infrared-light interference
micro-nano structure
profile measurement
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分类号
O436.1
[机械工程—光学工程]
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题名光程补偿近红外光透射反射干涉重构微结构内部形貌
被引量：2
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作者
史健华
韩丙辰
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机构
山西大同大学物理与电子科学学院
山西太原师范学院物理学院
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出处
《中国光学》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第2期395-404,共10页
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基金
国家自然科学基金青年基金(No.11705107)
山西省科技攻关项目(No.2015031002-1)
山西大同大学博士学位研究基金(No.2014B15).
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文摘
高深宽比微结构的底部及侧壁形貌重构是微机电系统领域亟待解决的一个问题。本文提出光程补偿近红外光透射反射干涉技术重构微结构内部形貌的方法,所采用的近红外光干涉技术将白光干涉系统中的光源扩展至近红外光源,将反射干涉技术扩展至透射反射干涉技术,近红外光干涉测量系统由近红外光光源、干涉显微镜、红外光CCD、高精度压电陶瓷和数据采集系统组成。设计了具有两个台阶的GaAs半导体微结构待测样品,采用近红外光垂直扫描干涉法并通过光程补偿,重构了微结构的内部三维形貌,并与扫描电镜结果进行对比。光程补偿近红外光透射反射干涉技术测量的台阶相对高度分别为2. 132μm和0. 766μm,与扫描电镜和近红外光反射干涉测量结果基本一致,分别对应2. 16%和2. 68%的相对误差。测量结果表明,该测量系统能够测量高深宽比微结构底部及侧壁形貌。
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关键词
近红外光透射反射干涉
微结构
重构内部形貌
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Keywords
near-infrared light transmission reflection interference
microstructures
internal profile reconstruction
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分类号
TH-39
[机械工程]
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