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紫外光直写杂化溶胶-凝胶SiO_2光波导器件 被引量：6
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作者 王玥 吴远大 +5 位作者 李建光 安俊明 王红杰 尹小杰 张家顺 胡雄伟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1130-1133,共4页
利用有机/无机杂化方法制备了光敏性溶胶-凝胶(sol-gel)SiO2材料,在硅基片上旋涂成膜.研究了薄膜折射率和厚度随紫外曝光时间、后烘温度及时间等外界工艺条件的变化关系.利用紫外光直写技术,制作出1×2,1×4多模干涉(MMI)型分束... 利用有机/无机杂化方法制备了光敏性溶胶-凝胶(sol-gel)SiO2材料,在硅基片上旋涂成膜.研究了薄膜折射率和厚度随紫外曝光时间、后烘温度及时间等外界工艺条件的变化关系.利用紫外光直写技术,制作出1×2,1×4多模干涉(MMI)型分束器,并且观测到了分光效果较好的近场输出图像. 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 紫外光直写 杂化 光波导
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光敏性杂化SiO2波导薄膜的制备、表征及应用
2
作者 王玥 吴远大 +5 位作者 李建光 安俊明 王红杰 张家顺 尹小杰 胡雄伟 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A01期327-329,共3页
利用有机/无机杂化方法制备了光敏性溶胶-凝胶（sol-gel）SiO2材料，在预生长了18μm厚的SiO2上包层的硅基片上旋涂成膜。经前烘、紫外曝光、后烘的薄膜在5μm×5μm的扫描范围内的表面粗糙度只有0．266nm，表面起伏度只有0．336nm... 利用有机/无机杂化方法制备了光敏性溶胶-凝胶（sol-gel）SiO2材料，在预生长了18μm厚的SiO2上包层的硅基片上旋涂成膜。经前烘、紫外曝光、后烘的薄膜在5μm×5μm的扫描范围内的表面粗糙度只有0．266nm，表面起伏度只有0．336nm。利用紫外光直写技术，制作出条形波导器件。SEM照片表明波导端面形状较好，侧壁陡直。对1×4多模干涉型分束器进行初步的通光测试，观察到分光效果较好的近场输出图像。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 紫外光直写 杂化 光波导 分束器
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