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基于标准CMOS工艺的UV/blue光电探测器 被引量:4
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作者 董威锋 谢生 +3 位作者 毛陆虹 廖建文 朱长举 乔静 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第9期32-37,共6页
基于UMC 0.18μm CMOS工艺,提出一种适合紫外/蓝光探测的探测器,该器件由栅体互联的NMOS晶体管和横向/纵向光电二极管构成.其中,浅结的光电二极管由UMC工艺中Twell层(浅P阱)和Nwell层形成,以增强其对紫外/蓝光的吸收,栅体互联的NMOS晶... 基于UMC 0.18μm CMOS工艺,提出一种适合紫外/蓝光探测的探测器,该器件由栅体互联的NMOS晶体管和横向/纵向光电二极管构成.其中,浅结的光电二极管由UMC工艺中Twell层(浅P阱)和Nwell层形成,以增强其对紫外/蓝光的吸收,栅体互联的NMOS晶体管可以放大光电流,提高探测器的灵敏度和动态范围.仿真结果表明,本文设计的紫外/蓝光探测器具有低的工作电压和暗电流,对300~550nm波长范围的光具有高的响应度和宽的动态范围.在弱光条件下(光强小于1μW/cm2),响应度优于105 A/W,随着光强增大,响应度逐渐降低,但总体仍超过103 A/W. 展开更多
关键词 光电器件 响应度 弱光探测 紫外/蓝光 CMOS工艺 动态范围 选择性
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防眩光及紫外/蓝光防护功能涂层的制备及性能研究 被引量:1
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作者 路芳 史华红 +3 位作者 宋森川 李伟浩 王飞 李岱远 《塑料工业》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期148-154,共7页
以气相二氧化硅粒子及紫外吸收剂为功能助剂,氟碳改性高反应丙烯酸树脂为主体树脂,聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)聚酯膜为基材,采用湿法涂布工艺制备了具有防眩光和紫外/蓝光防护特性的功能涂层。研究了二氧化硅粒子含量、紫外吸收剂类型... 以气相二氧化硅粒子及紫外吸收剂为功能助剂,氟碳改性高反应丙烯酸树脂为主体树脂,聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)聚酯膜为基材,采用湿法涂布工艺制备了具有防眩光和紫外/蓝光防护特性的功能涂层。研究了二氧化硅粒子含量、紫外吸收剂类型、所占比例以及涂层厚度对功能涂层性能的影响。结果表明,制备的UV固化吸光防眩光涂层兼具优异的防眩光和紫外/蓝光吸收性能,能有效改善显示屏幕表面发白和晃眼的问题。随着二氧化硅粒子含量的增加,涂层的雾度升高,同时光透过率和镜面光泽减小。紫外吸收剂HY-UV5具有最优的紫外/蓝光吸收性能。紫外吸收剂含量以及涂层厚度的增加,都能有效提高涂层的紫外/蓝光防护性能。此外,该涂层还具有优异的耐污和耐划伤性能。 展开更多
关键词 UV固化涂层 防眩光 紫外/蓝光防护 耐污 耐划伤
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