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压印光刻中的两步对正技术
被引量：
2
1
作者
王莉
卢秉恒
+1 位作者
丁玉成
刘红忠
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第10期1608-1612,共5页
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正.实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记.利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正,其准确度在精对正信号的捕捉范围内;利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号,在莫尔信号的线区进行精对正...
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正.实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记.利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正,其准确度在精对正信号的捕捉范围内;利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号,在莫尔信号的线区进行精对正.由于线性区的斜率大,精对正过程中得到相应x,y方向的对正误差信号灵敏度高,利用高灵敏度对正误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行驱动定位,实现精对正.最终使X,Y方向上的重复对正准确度分别达到了±21nm(±3σ)和±24nm(±3σ).
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关键词
压印光刻
对
正
准确度
光栅
莫尔信号
粗
对
正
精
对
正
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职称材料
题名
压印光刻中的两步对正技术
被引量：
2
1
作者
王莉
卢秉恒
丁玉成
刘红忠
机构
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第10期1608-1612,共5页
基金
国家自然科学基金(50275118)
国家863计划重点(2002AA420050)
国家重点基础研究发展计划(2003CB716203)资助
文摘
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正.实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记.利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正,其准确度在精对正信号的捕捉范围内;利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号,在莫尔信号的线区进行精对正.由于线性区的斜率大,精对正过程中得到相应x,y方向的对正误差信号灵敏度高,利用高灵敏度对正误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台进行驱动定位,实现精对正.最终使X,Y方向上的重复对正准确度分别达到了±21nm(±3σ)和±24nm(±3σ).
关键词
压印光刻
对
正
准确度
光栅
莫尔信号
粗
对
正
精
对
正
Keywords
Imprint lithography
Alignment accuracy
Grating
Moir
signal
Coarse alignment
Fine alignment
分类号
TH705 [机械工程—仪器科学与技术]
TN249 [机械工程—精密仪器及机械]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
压印光刻中的两步对正技术
王莉
卢秉恒
丁玉成
刘红忠
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
2
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职称材料
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