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一种高容MLCC介质层陶瓷晶粒的分析方法
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作者 林显竣 李冬梅 +1 位作者 黄木生 吴炜坚 《节能技术》 CAS 2024年第4期359-361,381,共4页
片式多层陶瓷电容器(MLCC)介质层中陶瓷晶粒的尺寸、形状以及分布对于改善并提高MLCC的性能具有重要的研究意义。为了分析高容MLCC介质层的陶瓷晶粒的形貌,本文采用氯化铁置换MLCC剖面金属电极层,再放入箱式气氛炉进行热腐蚀,利用扫描... 片式多层陶瓷电容器(MLCC)介质层中陶瓷晶粒的尺寸、形状以及分布对于改善并提高MLCC的性能具有重要的研究意义。为了分析高容MLCC介质层的陶瓷晶粒的形貌,本文采用氯化铁置换MLCC剖面金属电极层,再放入箱式气氛炉进行热腐蚀,利用扫描电子显微镜对热腐蚀后的样品进行分析。采用化学腐蚀和热腐蚀相结合的方法,结果表明:经过氯化铁腐蚀内电极后,利用箱式氮气气氛炉,升温速率30℃/min,并控制最高温度和保温时间,腐蚀出的陶瓷晶粒边界清晰,周围无金属电极膨胀遮挡。本文的研究方法可应用于MLCC介质层陶瓷晶粒的分析。 展开更多
关键词 片式多层陶瓷电容器 陶瓷晶粒 氯化铁 箱式气氛 热腐蚀
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