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等离子体刻蚀并沉积类金刚石膜制备超疏水木材 被引量:7
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作者 解林坤 王洪艳 +1 位作者 代沁伶 杜官本 《林业工程学报》 北大核心 2016年第5期10-14,共5页
为使木材表面具备疏水性能,采用等离子体刻蚀并沉积亲水性类金刚石(DLC)薄膜的方法对糖枫木(Acer saccharum)进行表面改性研究,通过扫描电子显微镜(SEM)、激光扫描共聚焦显微镜(LSCM)、接触角测量仪、椭圆偏振光谱仪、X-射线光电子能谱... 为使木材表面具备疏水性能,采用等离子体刻蚀并沉积亲水性类金刚石(DLC)薄膜的方法对糖枫木(Acer saccharum)进行表面改性研究,通过扫描电子显微镜(SEM)、激光扫描共聚焦显微镜(LSCM)、接触角测量仪、椭圆偏振光谱仪、X-射线光电子能谱仪(XPS),分析和表征了处理前后木材表面的微观形貌、粗糙度、润湿性能、沉积薄膜的厚度及元素组成和化学状态。结果表明:刻蚀时间小于30 min时,木材表面的平均粗糙度、均方根光洁度和高低差均随着刻蚀时间的延长逐渐增大;当刻蚀时间延长至45 min时,表面的粗糙度略有减小。木材表面的接触角随着刻蚀时间的延长先增大后减小,当刻蚀30 min并沉积DLC薄膜1.5 min时,接触角最大可达157.2°;而延长刻蚀时间至45 min时,其接触角为152.3°。相同的刻蚀时间下,木材表面的接触角随着DLC薄膜沉积时间的延长逐渐减小。通过计算,DLC薄膜的沉积速率为(51.7±4.5)nm/min;沉积DLC薄膜后,表面氧元素的含量明显减少,出现了石墨特征峰sp2-C和金刚石特征峰sp3-C。 展开更多
关键词 木材表面 等离子体刻蚀 等离子体沉积 类金刚石薄膜 超疏水
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氟含量对类金刚石薄膜结构及摩擦学性能的影响 被引量:7
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作者 魏利 张斌 +1 位作者 曹忠跃 张俊彦 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期66-71,共6页
采用直流等离子体沉积的方法制备了具有不同氟含量的类金刚石薄膜。并利用多功能X射线光电子能谱仪(XPS)、拉曼光谱仪、纳米压痕仪、应力测试仪和摩擦磨损试验机等手段分析和研究了含氟类金刚石薄膜的结构、力学性能以及摩擦学性能,并... 采用直流等离子体沉积的方法制备了具有不同氟含量的类金刚石薄膜。并利用多功能X射线光电子能谱仪(XPS)、拉曼光谱仪、纳米压痕仪、应力测试仪和摩擦磨损试验机等手段分析和研究了含氟类金刚石薄膜的结构、力学性能以及摩擦学性能,并利用场发射扫描电镜(SEM)观察了薄膜断面形貌。结果表明:所制备薄膜的力学性能和摩擦学性能均受到薄膜中氟含量的影响,当F含量(原子数分数)为5.92%时,薄膜显示了优异的力学性能及摩擦学性能,硬度值高达21GPa,压应力低至0.75GPa,摩擦因数为0.013,磨损率为9×10-19 m3/(N.m)。 展开更多
关键词 氟化类金刚石 等离子体沉积 摩擦性能
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过滤真空弧等离子体沉积成膜系统的磁过滤管道传输特性的实验 被引量:6
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作者 王广甫 张荟星 张孝吉 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1997年第3期361-365,共5页
介绍了采用90°螺旋管的过滤真空弧等离子体沉积成膜系统,对磁过滤管道的传输特性进行了实验研究.实验观察到,弧源聚焦磁场和过滤管道正偏压越高,过滤管道的传输效率越高.但聚焦磁场高过一定阈值时,会出现起弧不稳现象,此阈... 介绍了采用90°螺旋管的过滤真空弧等离子体沉积成膜系统,对磁过滤管道的传输特性进行了实验研究.实验观察到,弧源聚焦磁场和过滤管道正偏压越高,过滤管道的传输效率越高.但聚焦磁场高过一定阈值时,会出现起弧不稳现象,此阈值的大小同过滤管道磁场及偏压的大小有关.过滤管道正偏压在40~60V范围内,管道磁场在7~11mT时传输效率较高,偏压越高达到最佳传输效率所需的过滤管道磁场越高. 展开更多
关键词 真空弧 等离子体沉积 磁过滤管道 传输特性 薄膜
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脉冲偏压对等离子体沉积DLC膜化学结构的影响 被引量:4
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作者 孙明仁 夏立芳 +2 位作者 孙跃 马欣新 孙立海 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2002年第1期51-54,共4页
以乙炔为气源,用等离子体基脉冲偏压沉积(plasmabasedpulsdbiasdeposition缩写PBPBD)技术进行了不同负脉冲偏压条件下制备DLC膜的试验.通过X射线光电子谱(XPS)、激光喇曼光谱〔Raman〕以及电阻分析方法考察了负脉冲偏压幅值对DLC膜化学... 以乙炔为气源,用等离子体基脉冲偏压沉积(plasmabasedpulsdbiasdeposition缩写PBPBD)技术进行了不同负脉冲偏压条件下制备DLC膜的试验.通过X射线光电子谱(XPS)、激光喇曼光谱〔Raman〕以及电阻分析方法考察了负脉冲偏压幅值对DLC膜化学结构的影响.结果表明由-50kV到-10kV随负脉冲偏压降低,DLC膜中SP3键分数单调增加,但当脉冲偏压为0时形成高电阻的类聚合物膜,说明荷能离子的轰击作用是形成DLC化学结构的必要条件.键角混乱度和SP2簇团尺寸与脉冲偏压之间不具有单调关系,在中等幅值负脉冲偏压条件下,键角混乱度较大且SP2簇团尺寸细小. 展开更多
关键词 脉冲偏压 DLC膜 化学结构 等离子体沉积 类金刚石碳膜
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沉积温度对NbN膜层微观结构的影响 被引量:3
5
作者 宋教花 张涛 +3 位作者 侯君达 邓志威 李永良 马芙蓉 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期41-44,共4页
利用有磁过滤器的等离子体沉积装置 ,在不同温度的Si基底上沉积氮化铌 (NbN)薄膜 ,通过XRD ,XPS ,SEM等分析 ,研究了NbN薄膜的表面形貌与微观结构跟温度的关系 .发现沉积温度对择优取向有较强的影响 :从室温到约 30 0℃得到的薄膜在 (2 ... 利用有磁过滤器的等离子体沉积装置 ,在不同温度的Si基底上沉积氮化铌 (NbN)薄膜 ,通过XRD ,XPS ,SEM等分析 ,研究了NbN薄膜的表面形貌与微观结构跟温度的关系 .发现沉积温度对择优取向有较强的影响 :从室温到约 30 0℃得到的薄膜在 (2 2 0 )峰表现出很强的择优取向 ,50 0℃ (2 2 0 )峰变得很弱 ,(2 0 0 )峰表现出择优取向 ,但不明显 .同时 ,膜层中N和Nb的原子比先随温度的升高而升高 ,后稍有降低 .温度升高 ,δ NbN的晶粒变大 .室温到 30 0℃很难得到完整的NbN膜 ,而在 50 0℃得到的薄膜完整且光滑 ,膜层中得到单一的δ 展开更多
关键词 等离子体沉积 氮化铌薄膜 沉积温度 微观结构 择扰取向 表面形貌 基底温度
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磁过滤等离子体沉积和注入技术 被引量:1
6
作者 张荟星 李强 吴先映 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期695-698,共4页
利用阴极真空弧放电技术能够产生高密度的金属等离子体。经过 90度的磁过滤器 ,可以除去金属等离子体中的大颗粒微粒 ,从而为制备高质量的、致密的各种薄膜提供了一种全新的技术。利用该技术制备薄膜具有非常广泛的应用。本文介绍了阴... 利用阴极真空弧放电技术能够产生高密度的金属等离子体。经过 90度的磁过滤器 ,可以除去金属等离子体中的大颗粒微粒 ,从而为制备高质量的、致密的各种薄膜提供了一种全新的技术。利用该技术制备薄膜具有非常广泛的应用。本文介绍了阴极真空弧放电技术的应用 。 展开更多
关键词 磁过滤器 等离子体沉积 阴极真空弧技术 等离子体注入 薄膜 金属等离子体 材料 表面改性
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NbN沉积膜的抗腐蚀特性研究 被引量:2
7
作者 李永良 宋教花 张涛 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第5期395-398,共4页
利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜 ,用XPS ,XRD和SEM对膜层进行测量和分析 ,结果表明 ,沉积膜为δ NbN ,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关 ,衬底温度越高 ,生成的膜越致密 ,膜的表面越平整光滑。多次... 利用磁过滤等离子体沉积技术在单晶Si和碳钢衬底上生长一层NbN沉积膜 ,用XPS ,XRD和SEM对膜层进行测量和分析 ,结果表明 ,沉积膜为δ NbN ,沉积膜的质量与样品的衬底温度有关 ,衬底温度越高 ,生成的膜越致密 ,膜的表面越平整光滑。多次循环阳极极化扫描曲线测量表明 ,沉积膜样品的致钝电流密度 (Ip)较碳钢降低 (1~ 2 )个数量级 ,抗腐蚀性能大幅度提高。 展开更多
关键词 VAPD NBN 沉积 抗腐蚀性 等离子体沉积 氮化铌
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Al/TiN软硬交替多层膜的制备及摩擦磨损性能研究 被引量:2
8
作者 范晓彦 李镇江 +3 位作者 孟阿兰 李春 吴志国 闫鹏勋 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期70-75,80,共7页
软硬交替的多层膜体系具有超硬、强韧、耐磨、自润滑的优势,能大大提高金属切削刀具在现代加工过程中的耐用度和适应性。设计Al/Ti N软硬交替纳米多层膜体系,并采用直流磁控溅射和阴极弧磁过滤等离子体沉积相结合的技术,室温下在单晶硅S... 软硬交替的多层膜体系具有超硬、强韧、耐磨、自润滑的优势,能大大提高金属切削刀具在现代加工过程中的耐用度和适应性。设计Al/Ti N软硬交替纳米多层膜体系,并采用直流磁控溅射和阴极弧磁过滤等离子体沉积相结合的技术,室温下在单晶硅Si(100)衬底上制备一系列不同Ti N层厚度纳米多层膜,研究其结构、形貌、力学及摩擦磨损性能。结果表明:该涂层具有良好的多层结构,多层膜中Al呈非晶态或纳米晶态,Ti N结晶质量随其厚度增加得到提高;Al/Ti N多层膜硬度均高于混合法则计算的硬度值,出现了硬度增强效应;该多层膜体系虽具有较高的摩擦因数,但表现出较好的韧性。 展开更多
关键词 等离子体沉积 多层膜 摩擦性能
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辉光放电等离子体沉积抗菌素控释膜的研究 被引量:2
9
作者 李天全 万昌秀 《生物医学工程学杂志》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期69-72,共4页
研究了在聚氨酯、环丙沙星复合物基质上,通过射频辉光放电,沉积等离子体膜层,借以控制药物释放速率的方法,测定了膜的结构,并在体外对药物释放规律进行了讨论。
关键词 辉光放电 等离子体沉积 抗菌素控释膜 药物释放 生物材料
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射频等离子体沉积类金刚石膜微结构的表征 被引量:2
10
作者 杨伟毅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第1期6-12,共7页
利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线激发的CKLL俄歇谱的一次微分表征了类金刚石(DLC)膜的微结构。指出在高离子能量轰击和低CH_4压强下所形成的DLC膜内以sp^3C-C键为主,并且sp^3碳成分随V/Pa^(1/2) 增加而增加,与退火温度从200℃ 到800℃... 利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线激发的CKLL俄歇谱的一次微分表征了类金刚石(DLC)膜的微结构。指出在高离子能量轰击和低CH_4压强下所形成的DLC膜内以sp^3C-C键为主,并且sp^3碳成分随V/Pa^(1/2) 增加而增加,与退火温度从200℃ 到800℃无关,DLC膜具有好的热稳定性。DLC膜密度研究指出:膜密度与沉积参量和基底材料有关。 展开更多
关键词 类金刚石膜 α-C:H膜 等离子体沉积
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阴极弧等离子体沉积NbN薄膜 被引量:1
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作者 宋教花 张涛 +2 位作者 侯君达 邓志威 李永良 《真空》 CAS 北大核心 2001年第1期28-31,共4页
利用磁过滤等离子体沉积装置 ,结合金属等离子体沉积技术 ,在 Si基底上分别用动态离子束增强沉积和非增强沉积的方法来制备 Nb N膜 ,对二者予以比较 ,并探讨了非增强沉积过程中基底温度对 Nb N膜层的影响。温度升高使膜层中 N的含量先... 利用磁过滤等离子体沉积装置 ,结合金属等离子体沉积技术 ,在 Si基底上分别用动态离子束增强沉积和非增强沉积的方法来制备 Nb N膜 ,对二者予以比较 ,并探讨了非增强沉积过程中基底温度对 Nb N膜层的影响。温度升高使膜层中 N的含量先呈上升趋势 ,随后又稍微降低 ;温度升高促进晶粒生长 ,使晶粒尺寸变大 ,从室温到约 30 0℃的温度下得到的薄膜在 (2 2 0 )峰表现出很强的择优取向 ,5 0 0℃的沉积温度下 ,(2 2 0 )峰变的很弱 ,(2 0 0 )峰表现出择优取向 ,5 0 0℃时膜层中得到单一的 δ- Nb N相 ;表面形貌方面 ,温度越低 ,薄膜越不完整 ,在 5 0 0℃左右才能得到光滑完整的 Nb N膜。与非增强沉积相比 ,增强沉积不需加热 ,在低温下就能得到光滑致密的 Nb N膜 ,膜层中 N的含量更高 ,且没有明显的择优取向。 展开更多
关键词 等离子体沉积 动态离子束增强沉积 温度 氮化铌薄膜 性能 制备
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PLASMA IMMERSION ION IMPLANTER FOR THE MODIFICATION OF INDUSTRIAL AEROSPACE COMPONENTS
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作者 TONGHong-hui CHENQin-chuan +5 位作者 HUOYan-feng WANGKe FENGTan-min MULi-lan ZHAOJun PaulKChu 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期186-192,共7页
A commercial plasma immersion ion implanter has been designed and constructed to enhance the surface properties of parts and components used in aerospace applications. The implanter consists of a vacuum chamber, pumpi... A commercial plasma immersion ion implanter has been designed and constructed to enhance the surface properties of parts and components used in aerospace applications. The implanter consists of a vacuum chamber, pumping and gas inlet system, custom sample chuck, four sets of hotfilaments, threefiltered vacuum arc plasma sources, special high voltage modulator, as well as monitoring and control systems. Special attention has been paid to improve the uniformity of plasma in the chamber. The power modulator operates in both the pulse bunching and single pulse modes. The maximum pulse voltage output is 80kV, maximum pulse current is 60A, and repetition frequency is 50~500Hz. The target chuck has been specially designed for uniform implantation into multiple aerospace components with irregular geometries as well as effective sample cooling. An in situ temperature monitoring device comprising dual thermocouples has been developed. The instrument was installed in an aerospace company and has been operating reliably for a year. In addition to reporting some of the hardware innovations, data on the improvement of the lifetime of an aircraft hydraulic pump disk using a dual nitrogen treatment process m-2; 30~45kV are presented. This treatment protocol has been adopted as a standard production procedure in the factory. 展开更多
关键词 等离子体沉积 离子注入 薄膜沉积 等离子体
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电子回旋共振等离子体沉积氮化碳(CN)膜的工艺及XPS研究 被引量:1
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作者 张大忠 孙官清 +3 位作者 刘仲阳 陈剑 梁学才 钟光武 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期530-533,共4页
电子回旋共振等离子体沉积氮化碳(CN)膜的工艺及XPS研究*张大忠孙官清刘仲阳陈剑王宣梁学才(原子核科学技术研究所)钟光武(西南物理研究院核聚变研究所)低温低压沉积的硬质材料不仅可用于涂敷热稳定材料以改善其表面特性,... 电子回旋共振等离子体沉积氮化碳(CN)膜的工艺及XPS研究*张大忠孙官清刘仲阳陈剑王宣梁学才(原子核科学技术研究所)钟光武(西南物理研究院核聚变研究所)低温低压沉积的硬质材料不仅可用于涂敷热稳定材料以改善其表面特性,而且还可作为薄膜型光、电、磁器件的... 展开更多
关键词 电子回旋共振 等离子体沉积 氮化碳膜 XPS
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阳极真空弧及其特性研究 被引量:1
14
作者 王瑞光 宋世战 《真空科学与技术》 CSCD 1996年第4期296-298,共3页
介绍阳极真空弧设备和现象。对弧等离子体特性、阳极的蒸发和起弧方式进行了实验研究。在25A弧电流下,电子温度0.4~0.7eV,电子浓度1015~1017m-3,离子通量1018~1020m-2s-1。
关键词 阳极斑 等离子体沉积 背散射
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PCVD-Ti(CNO)薄膜的制备及性能的研究 被引量:1
15
作者 彭红瑞 石玉龙 +2 位作者 谢雁 李世直 赵程 《表面技术》 EI CAS CSCD 1998年第5期11-13,共3页
研究了Ti(CN)薄膜内氧的作用.研究结果表明,Ti(CN)薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构,薄膜的断口呈致密的纤维状组织.随着反应气体中空气或CO_2气体流量的增加,Ti(CNO)薄膜的硬度呈上升趋势,并在空气的流量为40ml/min或CO_2的流量... 研究了Ti(CN)薄膜内氧的作用.研究结果表明,Ti(CN)薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构,薄膜的断口呈致密的纤维状组织.随着反应气体中空气或CO_2气体流量的增加,Ti(CNO)薄膜的硬度呈上升趋势,并在空气的流量为40ml/min或CO_2的流量为15ml/min时(分别约占总量的15%和6%)、薄膜的硬度达到最大值. 展开更多
关键词 PCVD 薄膜 等离子体沉积 金属 涂层
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用阴极弧等离子体沉积合成的(TiAl)N薄膜的高温耐磨性 被引量:1
16
作者 马民 《等离子体应用技术快报》 1998年第2期19-20,共2页
关键词 阴极弧 耐磨性 高温 等离子体沉积 TiAl)N 薄膜
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聚合物等离子体处理和等离子体沉积在生物医学中的应用
17
作者 豫民 《等离子体应用技术快报》 1999年第1期1-3,共3页
关键词 聚合物 等离子体处理 等离子体沉积 生物医学
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利用等离子体沉积金属膜的粉末粒子表面改性
18
作者 马丁 《等离子体应用技术快报》 2000年第2期9-10,共2页
关键词 等离子体沉积 金属膜 表面改性 等离子体 粉末粒子
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用混合的碳和钛等离子体流沉积碳化钛薄膜
19
作者 李兵 《等离子体应用技术快报》 1998年第5期8-9,共2页
关键词 碳化钛 等离子体沉积 薄膜沉积 离子 离子
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用ECR反应性等离子沉积非晶和多晶硅薄膜
20
作者 一丁 《等离子体应用技术快报》 1994年第7期6-7,共2页
关键词 电子回旋共振 等离子体沉积 非晶硅 多晶硅 薄膜
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