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等离子体微弧氧化技术及其发展 被引量:34
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作者 赵玉峰 杨世彦 韩明武 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期102-104,共3页
等离子体微弧氧化技术是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜层的材料表面改性技术。详细介绍了等离子体微弧氧化技术的发展历史和研究现状,以及应用微弧氧化技术制备陶瓷膜的基本原理和制备方法,对微弧氧化技术的特点及应用进行了总... 等离子体微弧氧化技术是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷膜层的材料表面改性技术。详细介绍了等离子体微弧氧化技术的发展历史和研究现状,以及应用微弧氧化技术制备陶瓷膜的基本原理和制备方法,对微弧氧化技术的特点及应用进行了总结,并阐述了微弧氧化技术的研究动态和存在的问题。 展开更多
关键词 等离子体氧化 表面改性 陶瓷膜层 应用
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等离子体微弧氧化表面处理LY12铝合金的高温拉伸性能 被引量:3
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作者 滕敏 李垚 +1 位作者 赫晓东 关春龙 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期50-52,共3页
采用等离子体微弧氧化技术对LY12铝合金表面进行氧化处理,对处理前后材料的高温拉伸性能进行了研究,用SEN观察试样拉伸断口及陶瓷涂层形貌。结果表明:在高温条件下,LY12铝合金表面陶瓷化后拉伸强度有一定提高,且随温度的升高,拉伸强度... 采用等离子体微弧氧化技术对LY12铝合金表面进行氧化处理,对处理前后材料的高温拉伸性能进行了研究,用SEN观察试样拉伸断口及陶瓷涂层形貌。结果表明:在高温条件下,LY12铝合金表面陶瓷化后拉伸强度有一定提高,且随温度的升高,拉伸强度提高的比率增大,说明在高温条件下陶瓷涂层对铝基体起到了一定的隔热作用;表面陶瓷化对LY12铝合金的延伸率影响不大。试样为典型的韧性断裂,且断裂后陶瓷膜层没有出现大面积脱落,表明陶瓷涂层与铝基体结合良好。 展开更多
关键词 等离子体氧化 铝合金 高温条件 拉伸性能
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等离子微弧氧化膜的抗静电特性 被引量:2
3
作者 来永春 吴晓玲 +2 位作者 施修龄 华铭 杜建成 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期347-349,共3页
等离子体微弧氧化技术可以在铝合金表面原位生长 2 0 2 0 0 μm的陶瓷氧化膜 ,该膜具有很高的硬度 ,大大改善铝合金表面的耐磨、耐蚀特性 .对于某些抗静电要求较高的电子元件 ,除需有较高的耐磨、耐蚀特性外 ,还要求表面电阻控制在 10 6... 等离子体微弧氧化技术可以在铝合金表面原位生长 2 0 2 0 0 μm的陶瓷氧化膜 ,该膜具有很高的硬度 ,大大改善铝合金表面的耐磨、耐蚀特性 .对于某些抗静电要求较高的电子元件 ,除需有较高的耐磨、耐蚀特性外 ,还要求表面电阻控制在 10 610 10 Ω之间 .通过对氧化膜厚度的调整 ,可有效地控制表面电阻的大小 ,从而满足抗静电要求 . 展开更多
关键词 等离子体氧化 抗静电 特性
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铝及其合金微弧氢化过程中工艺条件对氧化膜性能的影响 被引量:2
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作者 董玉英 沈丽如 +2 位作者 铁军 李炯 马迪 《核工业西南物理研究院年报》 2001年第1期109-110,共2页
关键词 铝合金 等离子体氧化 表面改性 工艺条件 氧化 性能 表面强度 耐腐蚀性
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内壁经微弧氧化处理的微型固体火箭温度场的数值模拟 被引量:2
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作者 董磊 康小明 +2 位作者 孙小兵 金峰 赵万生 《固体火箭技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期625-628,637,共5页
介绍了等离子体微弧氧化技术(PMAO)在微型固体火箭内壁处理上的应用。采用商用CFD软件,分别对微型固体火箭燃烧室内壁经过微弧氧化处理前后的壁面温度场进行了数值仿真计算。数值仿真结果显示了生成微弧氧化层前后燃烧室壁面沿径向温度... 介绍了等离子体微弧氧化技术(PMAO)在微型固体火箭内壁处理上的应用。采用商用CFD软件,分别对微型固体火箭燃烧室内壁经过微弧氧化处理前后的壁面温度场进行了数值仿真计算。数值仿真结果显示了生成微弧氧化层前后燃烧室壁面沿径向温度变化情况,由此分析工作过程中有无微弧氧化涂层对微型固体火箭燃烧室内壁和外壁温度的影响。结果表明,微弧氧化处理可显著提高推力器的热效率及微型固体火箭燃烧室耐高温能力。 展开更多
关键词 型固火箭 等离子体氧化 温度场 数值模拟
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镁合金等离子体微弧氧化过程控制的研究 被引量:18
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作者 龚巍巍 张乐 +1 位作者 吴晓玲 杜建成 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期77-80,共4页
研究AZ31镁合金微弧氧化过程中不同控制参数对膜性能的影响。镁合金微弧氧化中存在一个二次放电过程 ,它会对已长成的膜起破坏作用。通过改变溶液成分或浓度可对镁合金微弧氧化临界点的出现时间进行控制。在此基础上进一步研究一次放电... 研究AZ31镁合金微弧氧化过程中不同控制参数对膜性能的影响。镁合金微弧氧化中存在一个二次放电过程 ,它会对已长成的膜起破坏作用。通过改变溶液成分或浓度可对镁合金微弧氧化临界点的出现时间进行控制。在此基础上进一步研究一次放电不同控制过程对膜层性能的影响 ,发现采用渐进式升压方式能提高膜的致密层和疏松层的比例 ,但对膜的总厚度影响不大。合适的阴极匹配电压 ,可减小功耗 ,降低气孔率 ,改善膜的性能。 展开更多
关键词 等离子体氧化(MAO) 二次放电 镁合金
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