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基于PECVD方法制备的透明硅氧烷(SiOxCyHz)阻隔薄膜特性研究 被引量：2
1
作者 董茂进 冯煜东 +6 位作者 韩仙虎 蔡宇宏 秦丽丽 王毅 王冠 马凤英 王济洲 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期99-103,共5页
柔性、透明的高阻隔性薄膜在有机太阳能薄膜电池、柔性有机发光二极管、电子纸和真空绝热板等领域都有需求。采用对电极辊结构的等离子体增强化学气相沉积方法,卷对卷的方式在聚酯(PET)基膜上,以硅醚(HMDSO)为单体,氧气(O;)为反应气体,... 柔性、透明的高阻隔性薄膜在有机太阳能薄膜电池、柔性有机发光二极管、电子纸和真空绝热板等领域都有需求。采用对电极辊结构的等离子体增强化学气相沉积方法,卷对卷的方式在聚酯(PET)基膜上,以硅醚(HMDSO)为单体,氧气(O;)为反应气体,制备了柔性硅氧烷(SiOxCyHz)薄膜。研究了膜厚,氧气/单体比例、压力等参数对透水率(WVTR)的影响规律、测试了膜层的组分、透射光谱、应力等特性。研究结果表明,透水率随硅氧烷薄膜厚度增大而减小,随氧气/单体比例增大而减小,随压力减小而增大。500 nm厚的硅氧烷薄膜透水率低于5×10;g/(m;·day),可见光谱段(380-760 nm)透光率达到88.6%,表面粗糙度为1.8 nm,薄膜应力随薄膜厚度增加显著增大。 展开更多
关键词 硅氧烷薄膜 对电极辊 等离子体增强化学气相沉积方法 阻隔膜 透水率
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PECVD布气装置气流场的模拟分析 被引量：2
2
作者 金捷 朱红萍 王成刚 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2012年第12期93-96,123,共5页
采用Fluent、Templot等相关软件对PECVD布气装置气流的流动过程进行模拟,并进行可视化分析;得出气流入口采用直口开孔方式,同时,气流入口到布气板距离L=4.5mm时布气最均匀,这为均匀布气装置的研制提供了依据。
关键词 等离子体增强化学气相沉积方法 布气装置 气流场分布 模拟分析
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掺硼p型非晶硅薄膜的制备及光学性能的表征 被引量：2
3
作者 夏冬林 王慧芳 +2 位作者 石正忠 张兴良 刘俊 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期296-304,共9页
以高氢稀释的硅烷(Si H4)为反应气体,硼烷(B2H6)为掺杂气体,利用RF-PECVD方法,在玻璃衬底上制备出掺硼的氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了硼掺杂量对氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜的光学性能的影响.利用NKD-7000 W光学薄膜分析系统测试薄膜的... 以高氢稀释的硅烷(Si H4)为反应气体,硼烷(B2H6)为掺杂气体,利用RF-PECVD方法,在玻璃衬底上制备出掺硼的氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了硼掺杂量对氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜的光学性能的影响.利用NKD-7000 W光学薄膜分析系统测试薄膜的透射谱和反射谱,并利用该系统的软件拟合得出薄膜的折射率、消光系数、吸收系数等光学性能参数,利用Tauc法计算掺硼的非晶硅薄膜的光学带隙.实验结果表明,随着硼掺杂量的增加,掺杂非晶硅薄膜样品在同一波长处的折射率先增大后减小,而且每一样品均随着入射光波长的增加而减小,在波长500 nm处的折射率均达到4.3以上;薄膜的消光系数和吸收系数随着硼掺杂量的增大而增大,在500 nm处的吸收系数可高达1.5×105cm-1.在实验的硼掺杂范围内,光学带隙从1.81 eV变化到1.71 eV. 展开更多
关键词 RF-等离子体增强化学气相沉积方法 非晶硅薄膜 折射率 消光系数 吸收系数 光学带隙
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