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高频低压等离子体浸没离子注入技术研究
被引量：
1
1
作者
田修波
汤宝寅
+1 位作者
王小峰
曾照明
《新技术新工艺》
北大核心
2000年第1期40-42,共3页
利用低电压注入可以在相同的温度下较传统高压PIII获得更高的注入剂量率,同时在注入脉冲过程中形成较薄的离子阵鞘层,以利于提高注入剂量均匀性。低压与高频注入相配合可获得合适的处理温度和注入剂量率。研究结果表明,经高频低压PIII...
利用低电压注入可以在相同的温度下较传统高压PIII获得更高的注入剂量率,同时在注入脉冲过程中形成较薄的离子阵鞘层,以利于提高注入剂量均匀性。低压与高频注入相配合可获得合适的处理温度和注入剂量率。研究结果表明,经高频低压PIII处理后的SS304样品硬度明显提高;氮元素内扩散可达1.5μm,表面氮浓度接近20%。
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关键词
等离子体
侵
没
离子
注入
高频
低压
下载PDF
职称材料
等离子浸没离子注入法合成氧化钛/氮化钛梯度薄膜与控制研究
2
作者
文峰
戴虹
+1 位作者
黄楠
孙鸿
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第12期34-38,共5页
使用等离子浸没离子注入和反应沉积 (Plasmaimmersionionimplantationandre actiondeposition ,PIIID)的方法合成了氧化钛 /氮化钛梯度薄膜。研究开发了一套由可编程逻辑控制器 (ProgrammableLogicalControl,PLC)、D/A和质量流量控制器 ...
使用等离子浸没离子注入和反应沉积 (Plasmaimmersionionimplantationandre actiondeposition ,PIIID)的方法合成了氧化钛 /氮化钛梯度薄膜。研究开发了一套由可编程逻辑控制器 (ProgrammableLogicalControl,PLC)、D/A和质量流量控制器 (MassFlowControl,MFC)组成的智能控制系统 ,控制金属源阴极的推进和气体成分的改变。现场使用表明 ,整个控制系统稳定、可靠 ,具有较强的抗干扰能力 ,能够灵活方便地设置相应的技术参数。通过显微硬度计测试 ,针盘式摩擦磨损试验和结合力测试 ,分析了控制合成的薄膜的机械性能。采用X射线衍射、扫描电镜和SIMS ,分析与评价了薄膜的特性。结果表明 ,控制合成的Ti O/Ti N梯度薄膜具有良好的机械性能。
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关键词
等离子体
侵
没
离子
注入
可编程控制器
质量流量控制器
氮化钛
氧化钛梯度薄膜
合成
控制
半导
体
技术
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职称材料
题名
高频低压等离子体浸没离子注入技术研究
被引量：
1
1
作者
田修波
汤宝寅
王小峰
曾照明
机构
哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室
出处
《新技术新工艺》
北大核心
2000年第1期40-42,共3页
文摘
利用低电压注入可以在相同的温度下较传统高压PIII获得更高的注入剂量率,同时在注入脉冲过程中形成较薄的离子阵鞘层,以利于提高注入剂量均匀性。低压与高频注入相配合可获得合适的处理温度和注入剂量率。研究结果表明,经高频低压PIII处理后的SS304样品硬度明显提高;氮元素内扩散可达1.5μm,表面氮浓度接近20%。
关键词
等离子体
侵
没
离子
注入
高频
低压
Keywords
plasma immersion ion immplantation,high frequency,low voltage
分类号
TG156.8 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
等离子浸没离子注入法合成氧化钛/氮化钛梯度薄膜与控制研究
2
作者
文峰
戴虹
黄楠
孙鸿
机构
西南交通大学材料科学与工程学院生物材料与表面工程研究所
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002年第12期34-38,共5页
基金
973规划 (G19990 6 470 6 )
86 3计划 ( 10 2-12 - 0 9- 1)
国家自然科学基金 ( 39870 199)资助项目。
文摘
使用等离子浸没离子注入和反应沉积 (Plasmaimmersionionimplantationandre actiondeposition ,PIIID)的方法合成了氧化钛 /氮化钛梯度薄膜。研究开发了一套由可编程逻辑控制器 (ProgrammableLogicalControl,PLC)、D/A和质量流量控制器 (MassFlowControl,MFC)组成的智能控制系统 ,控制金属源阴极的推进和气体成分的改变。现场使用表明 ,整个控制系统稳定、可靠 ,具有较强的抗干扰能力 ,能够灵活方便地设置相应的技术参数。通过显微硬度计测试 ,针盘式摩擦磨损试验和结合力测试 ,分析了控制合成的薄膜的机械性能。采用X射线衍射、扫描电镜和SIMS ,分析与评价了薄膜的特性。结果表明 ,控制合成的Ti O/Ti N梯度薄膜具有良好的机械性能。
关键词
等离子体
侵
没
离子
注入
可编程控制器
质量流量控制器
氮化钛
氧化钛梯度薄膜
合成
控制
半导
体
技术
Keywords
Plasma immersion ion implantation, Programmable logical control, Mass flow control, Ti-O/Ti-N gradient film
分类号
TG156.8 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高频低压等离子体浸没离子注入技术研究
田修波
汤宝寅
王小峰
曾照明
《新技术新工艺》
北大核心
2000
1
下载PDF
职称材料
2
等离子浸没离子注入法合成氧化钛/氮化钛梯度薄膜与控制研究
文峰
戴虹
黄楠
孙鸿
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2002
0
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职称材料
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