期刊文献+
共找到22篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能 被引量:22
1
作者 劳技军 孔明 +1 位作者 张惠娟 李戈扬 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期1961-1966,共6页
研究了TiN SiC纳米多层膜中立方SiC(B1 cubicSiC)的形成及其对TiN SiC多层膜力学性能的影响 .结果表明 :在TiN SiC多层膜中 ,非晶态的SiC层在厚度小于 0 6nm时形成立方结构并与TiN形成共格外延生长的超晶格柱状晶 ,使多层膜产生硬度... 研究了TiN SiC纳米多层膜中立方SiC(B1 cubicSiC)的形成及其对TiN SiC多层膜力学性能的影响 .结果表明 :在TiN SiC多层膜中 ,非晶态的SiC层在厚度小于 0 6nm时形成立方结构并与TiN形成共格外延生长的超晶格柱状晶 ,使多层膜产生硬度和弹性模量显著升高的超硬效应 ,最高硬度超过 6 0GPa .SiC随着层厚的增加转变为非晶相 ,从而阻止了多层膜的共格外延生长 ,使薄膜呈现TiN纳米晶和SiC非晶组成的层状结构特征 ,同时多层膜的硬度和弹性模量下降 .TiN 展开更多
关键词 立方碳化硅 氮化钛/碳化硅纳米多层膜 外延生长 超硬效应
原文传递
TiN/SiC纳米多层膜中的晶体互促生长 被引量:3
2
作者 孔明 劳技军 +2 位作者 张慧娟 戴嘉维 李戈扬 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期324-328,共5页
研究了TiN/SiC纳米多层膜中的晶体互促生长效应,采用磁控溅射法制备了一系列不同厚度SiC和TiN的TiN/SiC纳米多层膜以及TiN、SiC单层膜.利用透射电子显微镜、X射线衍射仪、扫描电子显微镜和X射线能量色散谱仪分析了多层膜的微结构.结果表... 研究了TiN/SiC纳米多层膜中的晶体互促生长效应,采用磁控溅射法制备了一系列不同厚度SiC和TiN的TiN/SiC纳米多层膜以及TiN、SiC单层膜.利用透射电子显微镜、X射线衍射仪、扫描电子显微镜和X射线能量色散谱仪分析了多层膜的微结构.结果表明,尽管TiN和SiC的单层膜分别以纳米晶态和非晶态存在,但由TiN和SiC通过交替沉积形成的纳米多层膜却能够生长成为晶体完整性良好的柱状晶并呈现强烈的择优取向,显示了一种异质材料晶体生长的相互促进作用.纳米多层膜中的晶体互促生长效应与新沉积层原子在先沉积层表面上的移动性有重要关系. 展开更多
关键词 TiN/SiC纳米多层膜 晶体生长 共格界面 立方碳化硅
下载PDF
晶圆级立方碳化硅单晶生长取得新突破!
3
《变频器世界》 2024年第1期58-59,共2页
碳化硅(SiC)具有宽带隙、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高热导率等优异性能,在新能源汽车、光伏和5G通讯等领域具有重要的应用。与目前应用广泛的4H-SiC相比,立方SiC(3C-SiC)具有更高的载流子迁移率(2-4倍)、低的界面缺陷态密度(低... 碳化硅(SiC)具有宽带隙、高击穿场强、高饱和电子漂移速率和高热导率等优异性能,在新能源汽车、光伏和5G通讯等领域具有重要的应用。与目前应用广泛的4H-SiC相比,立方SiC(3C-SiC)具有更高的载流子迁移率(2-4倍)、低的界面缺陷态密度(低1个数量级)和高的电子亲和势(3.7eV)。利用3C-SiC制备场效应晶体管,可解决栅氧界面缺陷多导致的器件可靠性差等问题。但3C-SiC基晶体管进展缓慢,主要是缺乏单晶衬底。前期大量研究表明,3C-SiC在生长过程中很容易发生相变,已有的生长方法不能获得单一晶型的晶体。 展开更多
关键词 场效应晶体管 载流子迁移率 电子亲和势 器件可靠性 晶圆级 立方碳化硅 单晶生长 击穿场强
下载PDF
一种新型硅基3C-SiC的生长方法及光谱学表征 被引量:3
4
作者 程顺昌 杨治美 +3 位作者 钟玉杰 何毅 孙小松 龚敏 《光散射学报》 北大核心 2009年第3期251-255,共5页
采用LPCVD技术,以CH4和H2混合气体为反应源气,在n-Si(111)衬底上生长3C-SiC晶体薄膜。H2在反应过程中作为稀释气体和运输气体,CH4作为碳源,硅源有衬底硅来提供。利用X射线衍射分析仪、场发射扫描电子显微镜、激光拉曼光谱和傅里叶变换... 采用LPCVD技术,以CH4和H2混合气体为反应源气,在n-Si(111)衬底上生长3C-SiC晶体薄膜。H2在反应过程中作为稀释气体和运输气体,CH4作为碳源,硅源有衬底硅来提供。利用X射线衍射分析仪、场发射扫描电子显微镜、激光拉曼光谱和傅里叶变换红外光谱分别研究3C-SiC薄膜的晶相结构、表面形貌及其光谱性质。结果表明此生长方法可以成功的成长出3C-SiC薄膜。 展开更多
关键词 立方碳化硅 拉曼散射光谱 傅里叶变换红外光谱 剩余射线带
下载PDF
Si基3C-SiC反向外延的选择生长和残余应力研究 被引量:1
5
作者 杨翰飞 杨治美 +2 位作者 廖熙 龚敏 孙小松 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期121-125,共5页
采用一种新的LPCVD方法在Si衬底上通过SiO_2作为掩蔽层,进行3C-SiC的反向外延的选择性生长.TEM,AFM和XRD结果显示3 C-SiC沿(111)面成功实现了较高质量的外延选择生长,其界面清晰,掩蔽良好.生长出的3C-SiC薄膜为织构晶体,单晶性良好.残... 采用一种新的LPCVD方法在Si衬底上通过SiO_2作为掩蔽层,进行3C-SiC的反向外延的选择性生长.TEM,AFM和XRD结果显示3 C-SiC沿(111)面成功实现了较高质量的外延选择生长,其界面清晰,掩蔽良好.生长出的3C-SiC薄膜为织构晶体,单晶性良好.残余应力测试表明3C-SiC薄膜晶格发生压应变,选择性生长区域的残余应力显著降低.据此结果建立了残余应力的形成机制. 展开更多
关键词 立方碳化硅 选择生长 掩蔽层 衍射峰位置 残余应力
原文传递
热丝化学气相沉积法低温制备立方碳化硅薄膜 被引量:1
6
作者 戴文进 欧阳慧平 《南昌大学学报(理科版)》 CAS 北大核心 2005年第2期173-175,共3页
采用热丝化学气相沉积法在Si(100)衬底上,于较低的衬底温度(400℃)下,制备出良好结晶。经对样品进行的X射线衍射(XRD),以及傅立叶变换红外光谱(FTIR)检测,证实该沉积薄膜为立方碳化硅。原子力显微镜(AFM)测试结果表明,所获样品晶粒大小... 采用热丝化学气相沉积法在Si(100)衬底上,于较低的衬底温度(400℃)下,制备出良好结晶。经对样品进行的X射线衍射(XRD),以及傅立叶变换红外光谱(FTIR)检测,证实该沉积薄膜为立方碳化硅。原子力显微镜(AFM)测试结果表明,所获样品晶粒大小为纳米尺度。 展开更多
关键词 立方碳化硅 纳米 热丝法CVD
下载PDF
Si基3C-SiC薄膜的LPCVD反向外延研究 被引量:2
7
作者 廖熙 杨治美 +2 位作者 杨翰飞 龚敏 孙小松 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1331-1334,共4页
采用低压化学气相淀积(LPCVD)技术,以CH_4和H_2的混合气体作为反应源气体,在n型Si(111)衬底上反向外延生长出高迁移率的自掺杂的n型3C-SiC薄膜.在此反应过程中,H_2作为稀释与运载气体,CH_4提供C源,而Si源由Si衬底提供.通过X射线衍射分析... 采用低压化学气相淀积(LPCVD)技术,以CH_4和H_2的混合气体作为反应源气体,在n型Si(111)衬底上反向外延生长出高迁移率的自掺杂的n型3C-SiC薄膜.在此反应过程中,H_2作为稀释与运载气体,CH_4提供C源,而Si源由Si衬底提供.通过X射线衍射分析仪(XRD)与场发射扫描电镜(FESEM)分别研究生长出的3C-SiC薄膜的晶格结构和表面形貌.其在室温下的霍尔迁移率的值为1.22×10~3cm^2/(V·s),高于其它相关文献报道的霍尔迁移率.实验结果表明,此生长方法可以生长出表面较为平整,并具备高迁移率的3C-SiC薄膜. 展开更多
关键词 立方碳化硅 反向外延 表面碳化 霍尔迁移率
原文传递
砂磨制备纳米立方碳化硅及表面特性 被引量:2
8
作者 邓丽荣 王晓刚 +3 位作者 华小虎 陆树河 王嘉博 王行博 《西安科技大学学报》 CAS 北大核心 2021年第6期1076-1082,共7页
为探讨机械粉碎法批量制备立方碳化硅纳米粉体的可行性,以平均粒径Dv(50)为2.49μm立方碳化硅为原料,采用具有一定实验体量的30 L型砂磨机对250 kg浆料进行砂磨实验研究。通过对砂磨产物的粒度、微观形貌、表面结构、Zeta电位等测试,分... 为探讨机械粉碎法批量制备立方碳化硅纳米粉体的可行性,以平均粒径Dv(50)为2.49μm立方碳化硅为原料,采用具有一定实验体量的30 L型砂磨机对250 kg浆料进行砂磨实验研究。通过对砂磨产物的粒度、微观形貌、表面结构、Zeta电位等测试,分析了纳米碳化硅的粉碎机理及其表面特性。结果表明:砂磨过程中产物的粒径下降速率会发生数量级的变化,可将其划分为快速粉碎、慢速粉碎和均化、整形3个阶段。采用0.3~0.4 mm的碳化硅介质球,经砂磨40 h粒径可批量制备Dv(50)在100 nm,单颗粒粒径在30~50 nm的纳米颗粒,且粒度均匀,球形度良好。砂磨制得的纳米立方碳化硅,表面含有大量的羟基和二氧化硅,具有很好的亲水性,其表面特性与纳米二氧化硅相近。在pH≥7下分散稳定性良好,尤其在pH为9时Zeta电位绝对值最高可达60 mV以上,粒径达到最小值103 nm,分散稳定性最好。表明砂磨制备的纳米立方碳化硅在中性和碱性条件下具有良好的分散稳定性,可用于机械抛光、陶瓷湿法成型、涂层等工业应用领域。 展开更多
关键词 立方碳化硅 纳米颗粒 砂磨 粉碎机理 表面特性
下载PDF
3C-SiC薄膜反向外延生长工艺的研究 被引量:2
9
作者 罗杰斯 王磊 +1 位作者 杨治美 龚敏 《光散射学报》 北大核心 2015年第2期144-147,共4页
本文采用低压化学气相淀积(LPCVD)技术,以甲烷CH4作为反应碳气体源,氢气H2作为稀释气体,将两者混合后,在n型Si(111)衬底上反向外延生长n型3C-SiC薄膜。采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(RAM)及扫描电子显微镜(SEM)对生长的3C-SiC薄膜进行... 本文采用低压化学气相淀积(LPCVD)技术,以甲烷CH4作为反应碳气体源,氢气H2作为稀释气体,将两者混合后,在n型Si(111)衬底上反向外延生长n型3C-SiC薄膜。采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(RAM)及扫描电子显微镜(SEM)对生长的3C-SiC薄膜进行测试和分析。对比在相同的反应温度下,不同的热处理方式对生长的3C-SiC薄膜质量的影响,进一步探讨SiC薄膜反向外延生长工艺的改进方法。结果表明,较慢的降温速率能够生长出质量较高的3C-SiC薄膜。 展开更多
关键词 立方碳化硅 低压化学气相沉积 硅衬底 反向外延
原文传递
立方碳化硅弹性磨块制备工艺、性能与应用 被引量:1
10
作者 冯先杰 王晓刚 +2 位作者 樊子民 陆树河 赵凯 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2019年第3期752-755,761,共5页
应用立方碳化硅新材料做主磨料,采用热压工艺制备新型立方碳化硅弹性磨块,用静水力学天平、巴氏硬度计、XRD、SEM等测试材料的组织、结构及性能,并在应用现场进行了工业实验。研究结果表明:磨块中立方碳化硅的质量分数为8.5%,热压机上... 应用立方碳化硅新材料做主磨料,采用热压工艺制备新型立方碳化硅弹性磨块,用静水力学天平、巴氏硬度计、XRD、SEM等测试材料的组织、结构及性能,并在应用现场进行了工业实验。研究结果表明:磨块中立方碳化硅的质量分数为8.5%,热压机上板温度160℃、下板温度为163℃、压力450 kN时弹性磨块巴氏硬度达到最大值55 Hba,气孔率及吸水率为最小值。工业实验中磨抛全抛釉瓷砖,其表面光泽度达到70 GU之上,明显高于行业水平。 展开更多
关键词 立方碳化硅 磨抛加工 建筑陶瓷 光泽度
下载PDF
LPCVDSi基转换生长3C-SiC薄膜的光学性质初探 被引量:1
11
作者 杨治美 张云森 +4 位作者 廖熙 杨翰飞 晋勇 孙小松 龚敏 《光散射学报》 北大核心 2009年第4期304-308,共5页
本文采用LPCVD技术在高温条件下,利用甲烷和氢气混合气体作为碳源,在n-Si(111)衬底上制备3C-SiC薄膜。通过XRD、XPS、SEM、FT-IR和PL研究发现:温度对3C-SiC薄膜的形貌和晶体质量有较大的影响,并且生长温度对3C-SiC薄膜的780 cm-1左右的F... 本文采用LPCVD技术在高温条件下,利用甲烷和氢气混合气体作为碳源,在n-Si(111)衬底上制备3C-SiC薄膜。通过XRD、XPS、SEM、FT-IR和PL研究发现:温度对3C-SiC薄膜的形貌和晶体质量有较大的影响,并且生长温度对3C-SiC薄膜的780 cm-1左右的FT-IR反射峰强度影响非常大;在室温测试条件下,3C-SiC薄膜有较强的蓝光波段的荧光峰。 展开更多
关键词 立方碳化硅 薄膜 光学性质 晶格失配 热膨胀系数
下载PDF
高性能立方碳化硅导热填料的制备与性能研究 被引量:1
12
作者 张亚丽 王晓刚 +1 位作者 张蕾 段晓波 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2020年第3期937-941,共5页
以化学有机改性对立方碳化硅(β-SiC)导热填料进行表面修饰,通过红外光谱对处理后β-SiC粉体表征。以硅烷偶联剂、硬脂酸以及二者的结合为改性剂,研究不同改性剂对β-SiC粉体固含量、吸油值及导热系数的影响。实验结果表明,在硅烷偶联剂... 以化学有机改性对立方碳化硅(β-SiC)导热填料进行表面修饰,通过红外光谱对处理后β-SiC粉体表征。以硅烷偶联剂、硬脂酸以及二者的结合为改性剂,研究不同改性剂对β-SiC粉体固含量、吸油值及导热系数的影响。实验结果表明,在硅烷偶联剂中KH564的改性效果较为明显;通过对硬脂酸以及两种表面改性剂结合使用的研究,结果表明改性效果相比单一改性剂进一步提升,硬脂酸和KH564的效果较好,导热系数达到1.46 W/(m·K),相比未改性的β-SiC提高了53.68%,比使用单一KH564改性提高了20.25%。 展开更多
关键词 立方碳化硅 硅烷偶联剂 硬脂酸 导热系数
下载PDF
反向外延生长3C-SiC薄膜中残余应力的工艺优化 被引量:1
13
作者 王靖宇 邓春纲 +3 位作者 马瑶 李芸 杨治美 龚敏 《光散射学报》 北大核心 2017年第4期376-380,共5页
本文为改善反向外延生长3C-SiC薄膜中残余应力的工艺优化方法,采用LPCVD技术,将甲烷和氢气按1∶10比例混合后与n-Si(111)衬底反应,制备3C-SiC薄膜。通过X射线衍射分析仪、激光拉曼光谱仪和场发射扫描电子显微镜进行测试和分析。在该方法... 本文为改善反向外延生长3C-SiC薄膜中残余应力的工艺优化方法,采用LPCVD技术,将甲烷和氢气按1∶10比例混合后与n-Si(111)衬底反应,制备3C-SiC薄膜。通过X射线衍射分析仪、激光拉曼光谱仪和场发射扫描电子显微镜进行测试和分析。在该方法中,反应恒温1200℃为最优温度,反应温度过高或过低都不利于3C-SiC薄膜生长;在反应温度为1200℃时,为增加薄膜厚度而单纯增加反应时长,缺陷浓度也会相应地增加,从而薄膜结晶质量相应降低;但在1250℃反应温度时,增加反应时长不仅会增加薄膜的厚度,而且也会缓减薄膜中残余应力,同时改善薄膜的结晶质量。另外研究结果还表明:1250℃时经过一个恒温的等时退火工艺后,再降温的方式可进一步降低薄膜中本征残余应力,从而改善薄膜的结晶质量和晶格失配。 展开更多
关键词 立方碳化硅 异质外延 晶格失配 工艺优化 残余应力
下载PDF
添加β-SiC对固相烧结α-SiC陶瓷性能的影响
14
作者 杨新领 郑奔 +1 位作者 李志强 郑浦 《科技资讯》 2016年第2期60-62,共3页
该文以B4C和酚醛树脂为烧结助剂,研究了不同β-SiC(立方SiC)添加量对固相烧结α-SiC陶瓷性能的影响,确定了β-SiC最佳添加量。通过XRD、SEM和密度等测试分析表明,β-SiC在烧结过程中全部转化为6Hα-SiC,β-SiC的加入量为15%时烧结体的... 该文以B4C和酚醛树脂为烧结助剂,研究了不同β-SiC(立方SiC)添加量对固相烧结α-SiC陶瓷性能的影响,确定了β-SiC最佳添加量。通过XRD、SEM和密度等测试分析表明,β-SiC在烧结过程中全部转化为6Hα-SiC,β-SiC的加入量为15%时烧结体的组织结构最为致密,烧结体体积密度达到3.13g/cm3。 展开更多
关键词 立方碳化硅 固相烧结 性能
下载PDF
SOI基3C-SiC薄膜的光谱表征
15
作者 王飞 杨治美 +1 位作者 马瑶 龚敏 《光散射学报》 北大核心 2017年第2期187-190,共4页
本文探索在SOI基片上通过顶层Si直接与碳源反应,反向外延生长3C-SiC薄膜的工艺条件和技术。采用LPCVD技术,以CH4和H2混合气体为反应源,在SOI衬底上生长3C-SiC薄膜。采用X射线衍射分析仪、场发射扫描电子显微镜和傅里叶红外光谱来研究样... 本文探索在SOI基片上通过顶层Si直接与碳源反应,反向外延生长3C-SiC薄膜的工艺条件和技术。采用LPCVD技术,以CH4和H2混合气体为反应源,在SOI衬底上生长3C-SiC薄膜。采用X射线衍射分析仪、场发射扫描电子显微镜和傅里叶红外光谱来研究样品的结构和性质;并研究反应前、后样品电压-电容特性的变化。研究结果表明,通过反向外延的方法,能够在SOI基片反向外延生长得到3C-SiC薄膜,但目前的工艺条件有待进一步的改善。 展开更多
关键词 立方碳化硅 SOI SICOI 碳化 反向外延
下载PDF
Continuous wafer-scale graphene on cubic-SiC(O01)
16
作者 Alexander N. Chaika Olga V. Molodtsova +5 位作者 Alexei A. Zakharov Dmitry Marchenko Jaime Sanchez-Barrig Andrei Varykhalov Igor V. Shvets Victor Yu. Aristov 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第8期562-570,共9页
The atomic and electronic structure of graphene synthesized on commercially available cubic-SiC(001)/Si(001) wafers have been studied by low energy electron microscopy (LEEM), scanning tunneling microscopy (STM... The atomic and electronic structure of graphene synthesized on commercially available cubic-SiC(001)/Si(001) wafers have been studied by low energy electron microscopy (LEEM), scanning tunneling microscopy (STM), low energy electron diffraction (LEED), and angle resolved photoelectron spectroscopy (ARPES). LEEM and STM data prove the wafer-scale continuity and uniform thickness of the graphene overlayer on SIC(001). LEEM, STM and ARPES studies reveal that the graphene overlayer on SIC(001) consists of only a few monolayers with physical properties of quasi-freestanding graphene. Atomically resolved STM and micro-LEED data show that the top graphene layer consists of nanometer-sized domains with four different lattice orientations connected through the 〈110〉-directed boundaries. ARPES studies reveal the typical electron spectrum of graphene with the Dirac points close to the Fermi level. Thus, the use of technologically relevant SiC(001)/Si(001) wafers for graphene fabrication repre-sents a realistic way of bridging the gap between the outstanding properties of graphene and their applications. 展开更多
关键词 GRAPHENE cubic-SiC(001) STM ARPES LEEM LEED
原文传递
塑料镶嵌立方碳化硅珩磨油石的研制
17
作者 叶桂英 张玉岩 《磨料磨具与磨削》 1994年第1期22-24,共3页
本文采用正交试验法,就磨料与结合剂的选择对塑料镶嵌珩磨油石的使用性能进行了研究,并分析了塑料镶嵌珩磨油石抗压强度与各种因素的关系。
关键词 塑料镶嵌 珩磨 油石 立方碳化硅
下载PDF
μc-3C-SiC用作Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池缓冲层的数值研究
18
作者 袁吉仁 邓新华 《电子器件》 CAS 北大核心 2012年第6期631-634,共4页
Cu2ZnSnS4(CZTS)太阳能电池是一种低成本环保型的具有巨大发展潜力的新型薄膜太阳能电池。主要对用μc-3C-SiC材料作为CZTS太阳能电池的缓冲层进行了数值研究,发现μc-3C-SiC材料能够显著改善CZTS电池的蓝光光谱响应,提高电池的转换效... Cu2ZnSnS4(CZTS)太阳能电池是一种低成本环保型的具有巨大发展潜力的新型薄膜太阳能电池。主要对用μc-3C-SiC材料作为CZTS太阳能电池的缓冲层进行了数值研究,发现μc-3C-SiC材料能够显著改善CZTS电池的蓝光光谱响应,提高电池的转换效率。另外,μc-3C-SiC材料没有毒性,具有钝化CZTS表面缺陷以及使用较厚的μc-3C-SiC缓冲层可以不需本征ZnO层等优点,使得μc-3C-SiC成为一种很有应用前景的CZTS薄膜太阳能电池的缓冲层材料。 展开更多
关键词 太阳能电池 铜锌锡硫 微晶立方碳化硅 转换效率
下载PDF
滚子超精工序用普通磨料油石替代立方体磨料油石的探讨
19
作者 安子清 《黑龙江科学》 2013年第5期54-55,35,共3页
合理的GB/WA混合磨料油石,在合适的配方设计和适用的加工工艺保证下,能够适应TS—21凸度滚子精研机加工10余种产品的需要,可以取代立方体碳化硅油石。
关键词 滚子超精研 普通磨料 替代 立方碳化硅
下载PDF
新材料从水中提取可再生能源
20
作者 鲁亦 《仪器仪表用户》 2021年第8期81-81,共1页
只借助阳光就从水中"取出"氢气?瑞典林雪平大学研究人员开发出一种新材料——纳米多孔立方碳化硅(3C-Si C),它可以捕获太阳能,并将水分解以生产氢气。相关论文近日刊登于《美国化学学会——纳米》。该研究负责人、林雪平大学... 只借助阳光就从水中"取出"氢气?瑞典林雪平大学研究人员开发出一种新材料——纳米多孔立方碳化硅(3C-Si C),它可以捕获太阳能,并将水分解以生产氢气。相关论文近日刊登于《美国化学学会——纳米》。该研究负责人、林雪平大学物理、化学和生物系高级讲师孙建武(音译)说:"人们需要新的可持续能源系统应对全球能源和环境挑战,如二氧化碳排放增加和气候变化。" 展开更多
关键词 可持续能源 立方碳化硅 可再生能源 大学物理 瑞典林雪平大学 二氧化碳排放 化学学会 气候变化
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部