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稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀
被引量:
5
1
作者
王佳宇
金爱子
+2 位作者
白亦真
纪红
金曾孙
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期172-174,共3页
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对...
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.
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关键词
CVD
金刚石厚膜
刻蚀
稀土
化合物
浆料
表面形貌
生长表面
镜面抛光效率
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职称材料
CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀(英文)
2
作者
王佳宇
白亦真
+3 位作者
陈宏宇
吕宪义
金曾孙
纪红
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001年第3期240-243,共4页
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术,是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究,刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果,用扫描电子显微镜给出。实验表...
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术,是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究,刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果,用扫描电子显微镜给出。实验表明 ,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料,具有简单、安全、高效的特点。
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关键词
CVD
金刚石厚膜
刻蚀
稀土
化合物
浆料
原文传递
题名
稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀
被引量:
5
1
作者
王佳宇
金爱子
白亦真
纪红
金曾孙
机构
吉林大学超硬材料国家重点实验室
吉林大学物理系
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期172-174,共3页
基金
吉林大学青年基金资助项目
文摘
CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率.
关键词
CVD
金刚石厚膜
刻蚀
稀土
化合物
浆料
表面形貌
生长表面
镜面抛光效率
Keywords
CVD diamond thick film
etching
rare-eaxth compound ink
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
O613.71 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀(英文)
2
作者
王佳宇
白亦真
陈宏宇
吕宪义
金曾孙
纪红
机构
吉林大学超硬材料国家重点实验室
吉林大学物理系
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001年第3期240-243,共4页
文摘
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术,是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究,刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果,用扫描电子显微镜给出。实验表明 ,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料,具有简单、安全、高效的特点。
关键词
CVD
金刚石厚膜
刻蚀
稀土
化合物
浆料
Keywords
CVD diamond thick film
etching
rare-earth compound ink
分类号
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀
王佳宇
金爱子
白亦真
纪红
金曾孙
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
5
下载PDF
职称材料
2
CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀(英文)
王佳宇
白亦真
陈宏宇
吕宪义
金曾孙
纪红
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2001
0
原文传递
已选择
0
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导出题录
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参考文献
引证文献
统计分析
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