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TiN涂层相组成计算机分析
被引量：
7
1
作者
叶卫平
张静
《武汉理工大学学报（信息与管理工程版）》
CAS
2003年第2期50-52,56,共4页
用计算机分析系统对不同TiNPVD涂层工艺的镀膜层相组成进行了分析,并用Winfit和Origin软件对X衍射图谱进行作图标定。研究表明,TiN涂层相组成主要有TiN、Ti2N、TiN0.26和FeTi相;工艺参数(如负偏压、靶电流和氮分压等)对涂层性能和质量...
用计算机分析系统对不同TiNPVD涂层工艺的镀膜层相组成进行了分析,并用Winfit和Origin软件对X衍射图谱进行作图标定。研究表明,TiN涂层相组成主要有TiN、Ti2N、TiN0.26和FeTi相;工艺参数(如负偏压、靶电流和氮分压等)对涂层性能和质量的影响很大。在分析的基础上提出了合理的工艺参数。
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关键词
计算机分析
相组成
X衍射图谱
涂层质量
TIN涂层
涂层性能
离子镀
沉积
工艺
工艺
参数
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职称材料
题名
TiN涂层相组成计算机分析
被引量：
7
1
作者
叶卫平
张静
机构
武汉理工大学材料科学与工程学院
出处
《武汉理工大学学报（信息与管理工程版）》
CAS
2003年第2期50-52,56,共4页
基金
湖北省科委自然科学基金资助项目(J96021)
文摘
用计算机分析系统对不同TiNPVD涂层工艺的镀膜层相组成进行了分析,并用Winfit和Origin软件对X衍射图谱进行作图标定。研究表明,TiN涂层相组成主要有TiN、Ti2N、TiN0.26和FeTi相;工艺参数(如负偏压、靶电流和氮分压等)对涂层性能和质量的影响很大。在分析的基础上提出了合理的工艺参数。
关键词
计算机分析
相组成
X衍射图谱
涂层质量
TIN涂层
涂层性能
离子镀
沉积
工艺
工艺
参数
Keywords
computer analysis
phase structure
X-ray diffraction patterns
quality of coatings
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
TiN涂层相组成计算机分析
叶卫平
张静
《武汉理工大学学报（信息与管理工程版）》
CAS
2003
7
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职称材料
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参考文献
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